掩膜盒与掩膜传送盒及其支撑件制造技术

本实用新型专利技术的掩膜盒以及掩膜传送盒，是用于避免环境中微粒对掩膜造成污染，以及防止掩膜上的电荷累积所产生的静电放电破坏。此掩膜盒由两盖体所组成；其中至少一盖体上的支撑件或限制件的材料为静电消散材，此种材质可减少电荷累积，并防止静电对掩膜所造成的伤害。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术是有关 一 种掩膜盒以及掩膜传送盒，特别是指其中可防止静电放电破坏的掩膜盒以及传送 合
技术介绍
近代半导体科技发展迅速，其中光学光刻技术(Optical Lithography)扮演重要的角色，只要是关于 图形(pattern)定义，皆需仰赖光学光刻技术。光学光刻技术在半导体的应用上，是将设计好的 线路制作成具有特定形状可透光的掩膜(photo mask)。 利用曝光原理，则光源通过掩膜投影至硅晶圆(silicon wafer)可曝光显示特定图案。由于任何附着于掩膜上 的尘埃颗粒(如微粒、粉尘或有机物)都会造成投影 成像的品质劣化，用于产生图形的掩膜必须保持绝对 洁净，因此在 一 般的晶圆制程中，都提供无尘室(clean room)的环境以避免空气中的颗粒污染。然而，目前室也无法达到绝对无尘状态。现代的半导体制用抗污染的掩膜盒(reticle pod)进行掩膜的保 输，以使掩膜保持洁净。知的掩膜盒多以高分子材质所构成，此种高分 具有成型容易、价格低廉以及可形成透明体的 此种绝缘电阻高的高分子材质容易因为磨擦或 产生静电，尤其是无尘室的作业环境需要保持 度，使高分子材质的掩膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜盒，其特征在于，该掩膜盒包括：　　　　一第一盖体；以及　　　　一第二盖体，与第一盖体组合形成一内部空间，可容置至少一掩膜；　　　　其中，该第一以及第二盖体至少其中之一具有一本体，该本体面对该内部空间的表面上设有多数个支撑件或限制件，该支撑件或限制件材质为静电消散材。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王建峰，
申请(专利权)人：家登精密工业股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]