基板处理装置用基板支撑组装体制造方法及图纸

本发明专利技术涉及基板支撑装置用基板支撑组装体，本发明专利技术的特征在于，包括：夹头底座，支撑待处理的基板，在外周面附近，沿着周围方向形成设置收纳部，在通过设置收纳部包围的内侧部分形成向上方开放的收容槽，能够以旋转轴为中心进行旋转；夹头销，配置在夹头底座的设置收纳部上部，能够沿着远离和靠近基板的方向移动；器具部，配置于设置收纳部内，与夹头销相连接，用于使夹头销移动；驱动部，用于向器具部传递动力；以及超声波清洁单元，收容在收容槽，在夹头底座的外周面附近沿着周围方向形成的设置收纳部内集中配置器具部，在中心的收容槽收纳超声波清洁单元，因此，可具有能够通过超声波发生单元清洁基板的背面的功能效果。发生单元清洁基板的背面的功能效果。发生单元清洁基板的背面的功能效果。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置用基板支撑组装体


[0001]本专利技术涉及基板处理装置用基板支撑组装体，更详细地，涉及如下的基板支撑组装体，即，为了清洁或干燥等半导体工序，在支撑基板的状态下使其进行旋转。

技术介绍

[0002]通常，半导体设备是通过在基板上以薄膜形态蒸镀多种物质并将其碳化来制造的，为此，需要进行蒸镀工序、光刻工序、蚀刻工序、清洁工序及干燥工序等多种不同步骤的工序。
[0003]其中，清洁工序和干燥工序为去除存在于上述基板上的异物或粒子等之后进行干燥的工序，通过在将基板支撑在旋转头部(夹头底座)上的状态下使其高速旋转并向基板的表面或背面供给处理液来进行。
[0004]通常，当上述旋转头部旋转时，为了防止基板向旋转头部的侧方向脱离而沿着上述旋转头部的周围方向设置多个夹头销，包括上述夹头销、旋转头部、器具部(机构)及用于驱动上述器具部的驱动部来构成基板支撑装置。
[0005]上述多个夹头销具有如下结构，即，在基板被把持在旋转头部上的把持位置与从基板分离的解除位置之间往复移动。
[0006]但是，在现有技术的基板支撑装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，包括：夹头底座，支撑待处理的基板，在外周面附近，沿着周围方向形成设置收纳部，在通过上述设置收纳部包围的内侧部分形成向上方开放的收容槽，能够以旋转轴为中心进行旋转；夹头销，配置在上述夹头底座的设置收纳部上部，能够沿着远离和靠近上述基板的方向移动；器具部，配置于上述设置收纳部内，与上述夹头销相连接，用于使夹头销移动；驱动部，用于向上述器具部传递动力；以及超声波清洁单元，收容在上述收容槽。2.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，在上述夹头底座的收容槽底部或夹头底座的侧壁贯通形成排水孔。3.根据权利要求2所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，在上述夹头底座的收容槽底部形成的排水孔与上述设置收纳部的内侧边缘相邻。4.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，在上述收容槽的底部中心形成用于插入上述超声波清洁单元的下部突出部的插入槽，与上述插入槽相邻地，在上述收容槽的底部，包围上述超声波清洁单元的下部突出部的外周面的隔断壁向上方突出形成。5.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，上述超声波清洁单元能够以靠近或远离上述基板的方式进行升降。6.根据权利要求1所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，当从上方观察时，上述超声波清洁单元以旋转轴为中心沿着半径方向延伸而成。7.根据权利要求6所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，当从上方观察时，上述超声波清洁单元的宽度从旋转轴朝向上述半径方向逐渐变大并从规定位置开始恒定。8.根据权利要求6所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，在上述超声波清洁单元的内部形成用于接收清洁液并朝向基板喷射的内部清洁流路，在外部设置1个以上的清洁液外部供给喷嘴。9.根据权利要求8所述的基板处理装置用基板支撑组装体，其特征在于，当从上方观察时，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李泽烨，
申请(专利权)人：得八益十意恩至，
类型：发明
国别省市：