光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法技术

本发明专利技术涉及光刻胶技术领域，具体而言，涉及一种光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法。光刻胶，包括有机溶剂、光致酸产生剂及氧化锆纳米颗粒成膜树脂，将丙醇锆与不饱和有机羧酸混合加热制备所述氧化锆纳米颗粒成膜树脂。光致酸产生剂能够引发氧化锆纳米颗粒成膜树脂团聚，且具有式I和/或式II所示结构，其中R1～R8独立地选自

【技术实现步骤摘要】
光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法


[0001]本专利技术涉及光刻胶
，具体而言，涉及一种光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法。

技术介绍

[0002]光刻胶是微纳加工领域的核心材料，其发展水平在一定程度上决定着微纳加工技术的前景和应用。
[0003]双光子光刻胶是光刻胶中较为特殊的一种，它能够吸收光刻光束中两个或多个低能量的光子，进而引发化学反应，达到图形转移和成像的目的。目前常用的双光子光刻胶大多为有机聚合物，机械性能较差，因此双光子曝光后的聚合物结构图形在显影过程中极易发生塌缩、变形和从基底剥离，影响最终所得曝光结构的质量。目前利用双光子光刻技术加工出的图形的特征尺寸基本上处于微米级或亚微米级尺度。另外，目前商业化的双光子光刻胶最大的弊端就是光刻成型的速率(即光刻扫描速率)慢(现阶段实际适用的光刻扫描速率大多在μm s
‑1级)，导致光刻成型所需的时间成本很高。
[0004]除了双光子光刻胶外，紫外光光刻胶或紫光光刻胶也是常用的光刻胶。但是短波段的紫外光(例如193nm或248nm的紫外光源)会本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶，其特征在于，包括有机溶剂、光致酸产生剂及氧化锆纳米颗粒成膜树脂，将丙醇锆与不饱和有机羧酸混合加热制备所述氧化锆纳米颗粒成膜树脂；所述光致酸产生剂能够引发氧化锆纳米颗粒成膜树脂团聚，且具有式I和/或式II所示结构：其中R1～R8独立地选自
‑
H、
‑
CH3、甲氧基、乙氧基或羟基乙氧基。2.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述光致酸产生剂为2,4
‑
双(三氯甲基)
‑6‑
对甲氧基苯乙烯基
‑
S
‑
三嗪、2
‑
(3,4
‑
二甲氧基苯乙烯基)
‑
4,6
‑
双(三氯甲基)
‑
1,3,5
‑
三嗪、2
‑
(2,4
‑
二甲氧基苯乙烯基)
‑
4,6
‑
双(三氯甲基)
‑
1,3,5
‑
三嗪、2
‑
[4
‑
(2
‑
羟基乙氧基)苯乙烯基]
‑
4,6
‑
双(三氯甲基)
‑
1,3,5
‑
三嗪、2
‑
[2
‑
(呋喃
‑2‑
基)乙烯基]
‑
4,6
‑
双(三氯甲基)
‑
1,3...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐宏，何向明，刘天棋，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：