化学放大型光刻胶及其制备与使用方法技术

技术编号:37144200 阅读:30 留言:0更新日期:2023-04-06 21:54
本发明专利技术属于化学放大光刻胶技术领域,具体涉及一种化学放大型光刻胶及其制备与使用,该光刻胶包括以下质量份的各组分:聚合物树脂25~200份,光致产酸剂0.5~30份,碱性化合物0.01~15份,流平剂0.1~20份,溶剂1250份;所述碱性化合物包括第一碱性化合物和第二碱性化合物;所述第一碱性化合物为有机碱,所述第二碱性化合物为含氟有机碱性,如下式Ⅰ所示:其中R1为氟原子取代的C1~C

【技术实现步骤摘要】
化学放大型光刻胶及其制备与使用方法


[0001]本专利技术涉及化学放大光刻胶
,具体涉及一种化学放大型光刻胶及其制备与使用方法。

技术介绍

[0002]化学放大型光刻胶是一种基于化学放大原理的光刻胶,其主要成分是聚合物树脂、光致产酸剂(photo acid generator,PAG)以及相应的添加剂(additives)和溶剂。PAG是一种光敏感的化合物,在光照下分解产生酸(H+)。在曝光后烘烤(PEB)过程中,这些酸会作为催化剂使得聚合物树脂上悬挂的酸不稳定基团脱落,并产生新的酸。悬挂基团的脱落改变了聚合物树脂的极性,有足够多的悬挂基团脱落后,光刻胶就能溶于显影液。
[0003]在光刻工艺中,PAG的扩散是影响光刻图案形状、线宽粗糙度和线边缘粗糙度等的重要因素,为减少控制PAG的扩散,经常采用以下两种方案:一是将光致产酸剂阴离子设计成分子量大的结构,减少布朗运动;二是添加碱性化合物,利用酸碱中和的原理,来降低PAG的扩散范围。由于光酸中存在含氟原子以增强对应光酸的酸性,使得光酸从表面到膜底部存在着浓度差,从而产生光酸浓度差带来本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化学放大光刻胶,其特征在于,包括以下质量份的各组分:所述碱性化合物包括第一碱性化合物和第二碱性化合物;所述第一碱性化合物为有机碱,所述第二碱性化合物为含氟有机碱性,如下式Ⅰ所示:其中R1为氟原子取代的C1~C
10
烷基,R2和R3各自独立地选自C1~C
10
烷基,或R2和R3形成C5~C
10
脂肪环。2.根据权利要求1所述的化学放大光刻胶,其特征在于,所述第二碱性化合物为碱性化合物质量的5~95%。3.根据权利要求1或2所述的化学放大光刻胶,其特征在于,所述第二碱性化合物选自以下结构中的至少一种:
4.根据权利要求1所述的化学放大型光刻胶,其特征在于,还包括以下技术特征中的至少一项:a1)所述聚合物树脂为柏木醇(甲基)丙烯酸酯、羟基金刚烷醇(甲基)丙烯酸酯和内酯(甲基)丙烯酸脂的共聚物;a2)所述光致产酸剂选自全氟磺酸锍鎓盐或全氟磺酸碘鎓盐中的至少一种;a3)所述第一碱性化合物选自三甲胺、三乙胺、三正丙胺、三正丁胺、三正戊胺、三正已胺、三正庚胺、三正辛胺、三正壬胺、三正癸胺或三(3,6

二氧杂庚基)胺中的至少一种;a4)所述流平剂选自3M氟碳表面活性剂FC

4430或特洛伊Troysol S366中的至少一种;a5)所述溶剂选自苯甲醚、甲苯、二甲苯、三甲苯、氯代苯、二氯苯、丙二醇单醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、二缩乙二醇甲乙醚、醋酸丁酯...

【专利技术属性】
技术研发人员:傅志伟梅崇余潘新刚
申请(专利权)人:徐州博康信息化学品有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1