有机场致发光装置及其制造方法和电子设备制造方法及图纸

技术编号:3698945 阅读:127 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
在利用喷墨法来制造有机场致发光元件的制造过程中,形成没有相分离的均一的有机场致发光薄膜。把组合物对基板的挤出顺序确定为构成组合物的有机场致发光材料数少者先挤出的顺序。另外,在组合物中,对于构成该组合物的有机场致发光材料数相同的组合物,将其对基板的挤出顺序确定为构成组合物的有机场致发光材料在成膜后难以发生相分离者先挤出的顺序。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具备用于显示器、显示光源等电发光元件的有机场致发光装置及其制造方法以及电子设备。
技术介绍
近年来,人们正在加速开发一种使用有机物的发光元件来作为代替液晶显示器的自发光型显示器。作为一类在发光层中具有使用有机物的发光元件的有机场致发光装置主要有,如《应用物理通讯》(Appl.Phys.Lett.)51(12)、1987年9月21日的第913页中公开的将低分子蒸镀成膜的方法,以及《应用物理通讯》(Appl.Phys.Lett.)71(1)、1997年7月7日的第34页中公开的涂布高分子的方法。作为彩色化的手段,在低分子系材料的情况下所采用的方法一般是在所需的象素上隔着掩膜蒸镀形成各种不同的发光材料。另一方面,由于高分子系材料可以容易地形成微细的图案,因此可以使用喷墨法来实现彩色化,从而引起了人们的重视。关于利用喷墨法来形成有机场致发光元件的报导,已知的有如下的例子。特开平7-235378、特开平10-12377、特开平10-153967、特开平11-40358、特开平11-54270、特开平11-339957。另外,从元件结构的观点考虑,为了提高发光效率和耐久性,多数情况下都是在阳极和发光层之间形成空穴注入/输运层(《应用物理通讯》(Appl.Phys.Lett.)51卷,1987年9月21日,第913页)。在传统上,作为缓冲层或空穴注入/输运层,一般使用导电性高分子,例如聚噻吩衍生物和聚苯胺衍生物(《自然》(Nature),357,477,1992年),利用旋转涂布等的涂布法形成薄膜。另外,关于低分子系材料,有文献报导,通过蒸镀苯胺衍生物来形成空穴注入/输运层。上述的喷墨法不会浪费由有机场致发光材料构成的发光层材料,能够非常有效地作为简便的用于形成微细图案的薄膜的手段。专利技术所要解决的课题在利用喷墨法来形成使用有机场致发光材料的发光层的情况下,可以使用由溶质成分和溶剂形成的组合物,其中,使用有机场致发光材料作为所说的溶质成分。作为所说的组合物,其中所含的有机场致发光材料可以只有1种,但是,含有多种有机场致发光材料的组合物也广泛地被使用。例如,将发光材料与荧光材料混合,这时,由发光材料发出的光被荧光材料转变成其他波长的光。这样,当有机场致发光材料有许多种的情况下,为了获得所需的发光特性,必须使各种有机场致发光材料以不发生相分离而是成为均匀地混合的状态来成膜。然而,在利用喷墨法来形成薄膜的过程中,所用的液滴非常小,所需的蒸发时间很短。因此,由液滴蒸发出来的溶剂分子在从基板附近充分扩散之前就已达到饱和,这时,甚至已经形成的薄膜也会再溶解。于是,在再溶解时,各种有机场致发光材料就发生相互分离,其结果,屡屡产生有机场致发光装置的显示性能劣化的问题。本专利技术鉴于上述存在的问题,其目的是提供一种显示特性优良的有机场致发光装置的制造方法,在该方法中,在利用喷墨法形成发光层时不会引起相分离,因此可以形成均匀的发光层。另外,本专利技术的另一个目的是提供一种具有均匀发光层并且显示性能优良的有机场致发光装置。进而,本专利技术的再一个目的是提供一种使用有机场致发光装置的电子设备。为了达到本专利技术目的所用的手段本专利技术的有机场致发光装置的制造方法是一种具有将2种以上含有有机场致发光材料的组合物挤出到基板上成膜以形成发光层的工序的有机场致发光装置的制造方法,其特征在于,上述2种以上组合物对基板的挤出顺序,是以构成上述组合物的有机场致发光材料数少者先涂为顺序,进行挤出成膜。本专利技术人注意到,在组合物中的有机场致发光材料数越多,该组合物越容易发生相分离的问题,因此,按照本专利技术,把有机场致发光材料数较多的组合物的挤出成膜步骤安排在有机场致发光材料数较少的组合物之后进行。这样就能防止由于挤出成膜后的再溶解所引起的相分离,从而可以制造显示特性优良的有机场致发光装置。另外,本专利技术的有机场致发光装置的制造方法是一种具有将2种以上含有有机场致发光材料的组合物挤出到基板上成膜以形成发光层的工序的有机场致发光装置的制造方法,其特征在于,在上述2种以上的组合物中,构成上述组合物的有机场致发光材料数相同的组合物对基板的挤出顺序,是以构成上述组合物的有机场致发光材料在成膜后较难相分离者先涂为顺序,进行挤出成膜。按照本专利技术,把在成膜后容易发生相分离的组合物的挤出成膜步骤安排在成膜后难以发生相分离的组合物之后进行。这样就能防止由于挤出成膜后的再溶解所引起的相分离,从而可以制造显示特性优良的有机场致发光装置。按照本专利技术,在连续2次的组合物的挤出步骤中,优选的是待先挤出的组合物干燥之后再进行下一个组合物的挤出步骤。这样就能确实地防止由于再溶解所引起的相分离。本专利技术的方法的优选特征在于,该方法包含下述工序在上述基板上形成与多个象素区域相对应的第1电极和把该多个象素区域分隔开的隔膜,并在上述多个第1电极上形成空穴注入/输运层的工序,然后形成上述发光层的工序,进而在上述发光层上形成第2电极。在此情况下,通过设置隔壁,可以在每一个象素区域中按照使2种以上组合物完全分离的方式挤出成膜。这样就可以容易地确保各发光层本身的独立性,从而能够获得显示性能优良的有机场致发光装置。另外,由于形成了空穴注入/输运层,从而可以提高发光效率和耐久性。应予说明,当第1电极是阳极时,第2电极就是阴极,而当第1电极是阴极时,第2电极就是阳极。另外,本专利技术的有机场致发光装置的特征在于,该装置可以用上述本专利技术中所说的有机场致发光装置的形成方法制得。按照本专利技术,可以制得一种具有均一发光层,并且显示性能优良的有机场致发光装置。另外,本专利技术的电子设备的特征在于,该设备具有在上述本专利技术中所说的有机场致发光装置。按照本专利技术,可以制得一种具有优良显示性能的显示装置的电子设备。专利技术的实施方案下面参照附图说明图1~图7来说明本实施方案的有机场致发光装置的制造方法。本实施方案的制造方法具有下述工序隔壁形成工序、等离子体处理工序、空穴注入/输运层形成工序、表面改性工序、发光层形成工序、阴极形成工序和密封工序。如图1所示,在隔壁形成工序中,可以根据需要,在预先设置TFT等(图中未示出)的基板10上形成的ITO等构成的透明电极11上,通过顺次地积层无机物围堤层12a和有机物围堤层12b,来形成隔开各象素区域的围堤层(隔壁)12。无机物围堤层12a可以通过下述方法形成,例如首先用CVD法、溅射法、蒸镀法等在基板10和透明电极11的全部表面上形成SiO2、TiO2、SiN等的无机物膜,然后用蚀刻等方法将此无机物膜制成图案,并在透明电极11上的象素区域设置开口部13a。但是,在这时,使无机物围堤层12a在透明电极11的周边部分残留下来。另外,无机物围堤层12a的膜厚的优选范围为50~200nm,特别优选为150nm。然后在基板10、透明电极11、无机物围堤层12a的全部表面上形成有机物围堤层12b。另外,有机围堤层12b可以通过以旋转涂法、浸涂法等涂布由丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂等的有机树脂溶解于溶剂中而获得的溶液来形成。然后,利用照相制版技术蚀刻有机物围堤层12b来设置开口部13b。该有机物围堤层12b的开口部13b优选如图1所示那样比无机物围堤层12a的开口部13a稍大一些。这样就可以在透明电极11上形成贯通无机物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机场致发光装置的制造方法,该方法是具有将2种以上含有有机场致发光材料的组合物挤出到基板上成膜以形成发光层的工序的有机场致发光装置的制造方法,其特征在于,使上述2种以上组合物对基板的挤出顺序,以构成上述组合物的有机场致发光材料数少者先涂为顺序,进行挤出成膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:森井克行关俊一
申请(专利权)人:精工爱普生株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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