有源矩阵基板及其制造方法、电光学装置、电子器件制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种有源矩阵基板，在具有晶体管的有源矩阵基板中，由于基板的伸缩而在制造时全面实现多个图案的对位变得困难。所以本发明专利技术的有源矩阵基板，在基材上具备多个第１布线、与多个所述第１布线交叉的多个第２布线、绝缘所述第１布线和所述第２布线的绝缘膜、与所述第２布线相邻的多个像素电极，设置与所述多个像素电极分别对应的半导体膜，所述半导体膜与所述多个第１布线和所述多个第２布线交叉的多个交叉部中的至少１个交叉部以及所述多个像素电极中的１个重叠。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有晶体管的有源矩阵基板、电光学装置、电子器件以及有源矩阵基板的制造方法。
技术介绍
近年来，为了实现电光学装置等的高精细化，提高定位精度正在成为重要的技术课题。特别是在基板中使用柔性基板的柔性显示器等正在成为重要的解决课题之一。作为与柔性显示器相关的文献，例如可以举出专利文献1～3。在专利文献1中，公开有使用真空蒸镀法形成栅电极、源电极和漏电极。这样，通过使用真空蒸镀法形成栅电极、源电极以及漏电极，同时也利用真空蒸镀法连带形成绝缘膜和半导体膜，能够高再现性地制造高性能的晶体管。另一方面，在专利文献2、3中，公开有通过湿式处理工序在大气压下使栅电极、源电极、漏电极、绝缘膜以及有机半导体膜全部成膜。这样，低成本制作晶体管成为可能。如果将这样的晶体管用于像素电极用的开关，高精细的显示成为可能。进而，如果发挥能够在低温下形成电极或半导体膜的优点，在由塑料之类的挠性的材质构成的基材中形成元件，则能够实现柔性的显示元件。专利文献1特开平5-55568号公报专利文献2WO0147045专利文献3WO014704
技术实现思路
因此，本专利技术提供有源矩阵基板、电光学装置、电子器件以及有源矩阵基板的制造方法。本专利技术的有源矩阵基板在基材上具备多个第1布线、与多个所述第1布线交叉的多个第2布线、绝缘所述第1布线和所述第2布线的绝缘膜、与所述第2布线相邻的多个像素电极，设置与所述多个像素电极分别对应的半导体膜，所述半导体膜与所述多个第1布线与所述多个第2布线交叉的多个交叉部中的至少1个交叉部以及所述多个像素电极中的1个重叠。这样，可以形成将第1布线作为栅电极、将第2布线作为源电极、将像素电极作为漏电极、将半导体膜的一部分作为沟道区域的晶体管。在这里，第1布线例如是指有源矩阵基板的扫描线，第2布线相当于第1布线为扫描线时的数据线。上述的有源矩阵基板的上述多个像素电极，在形成了所述多个第1布线的第1层、形成了所述多个第2布线的第2层以及位于所述第1层与所述第2层之间的第3层中的任一层上被形成。另外，上述半导体膜覆盖上述多个第2布线中的至少一部分。另外，就上述的有源矩阵基板而言，上述多个像素电极中的通过上述多个第2布线的1个而相邻的2个像素电极，可以与该第2布线的至少一部分重叠。这样，可以使像素电极和第2布线的间隔比半导体膜的形成区域窄，数值孔径升高。另外，就上述有源矩阵基板而言，上述多个像素电极的与所述第1布线重叠的面积发生变化。或者，上述多个像素电极的用上述第1布线分割的面积比发生变化。另外，就上述的有源矩阵基板而言，上述半导体膜可以被形成岛状。另外，就上述有源矩阵基板而言，上述第2布线与上述像素电极是由同一材料构成。另外，就上述有源矩阵基板而言，上述基材是由挠性材质构成。进而，本专利技术的电光学装置在这些上述的有源矩阵基板的上述像素电极上具备电光学材料。在这里，电光学材料例如是指液晶元件、具有电泳颗粒分散的分散介质的电泳元件、EL元件等的统称，电光学装置是指在上述有源矩阵基板上具备这些电光学材料的装置。另外，本专利技术的电子器件具备上述的电光学装置。在这里，电子器件一般是指具备本专利技术的有源矩阵基板的发挥一定的功能的设备，例如具备电光学装置或存储器而构成。对其构成没有特别限定，例如包括IC卡、便携式电话、摄影机、个人电脑、头置式显示器、后置型或前置型的放映机，进而包括带有显示功能的传真装置、数码相机的取景器、便携型TV、DSP装置、PDA、电子笔记本、电光布告牌、宣传广告用显示器等。另外，本专利技术的有源矩阵基板的制造方法包括在基材上形成第1布线的工序；在上述第1布线上形成绝缘膜的工序；在上述绝缘膜上以分别与上述第1布线交叉的方式形成第2布线和像素电极的工序；以让上述第1布线与上述第2布线交叉的第1交叉部、和上述像素电极与上述第2布线交叉的第2交叉部重叠的方式，在上述第2布线以及上述像素电极上形成半导体膜的工序。这样，当形成第2布线与像素电极时，即使第1布线与像素电极重叠的位置在每个像素电极不同，也可以发挥作为晶体管的功能。进而，就上述的有源矩阵基板的制造方法而言，上述半导体膜是通过干燥利用喷墨法涂布的液体材料而形成。这样，可以减少半导体膜的使用材料。另外，就上述的有源矩阵基板的制造方法而言，上述半导体膜是残留利用喷墨法涂布的抗蚀剂区域并形成图案而成。另外，上述的有源矩阵基板的制造方法具备检测在上述基材上形成的定位记号的工序；和按照通过上述检测得到的检测值来控制在上述喷墨法中使用的喷墨头与上述基材的相对位置的工序。该定位记号也可以为上述第1交叉部或第2交叉部。附图说明图1是表示本专利技术的有源矩阵基板的图，(a)是平面图、(b)是纵截面图。图2是用于说明图1所示的有源矩阵基板的制造方法的图(平面图)。图3是用于说明图1所示的有源矩阵基板的制造方法的图(平面图)。图4是表示本专利技术的有源矩阵基板的图(平面图)。图5是表示包含电光学装置而构成的各种电子设备的例子的图。图中100-基材、101-第1布线(栅电极)、102-第2布线(漏电极)、103-像素电极(源电极)、104-半导体膜、105-绝缘膜、110-晶体管、600-电光学装置、830-便携式电话、831-天线部、832-声音输出部、833-声音输入部、834-操作部、840-摄影机、841-显像部、842-操作部、843-声音输入部、900-电视机、910-卷起式电视机。具体实施例方式下面，详细说明本专利技术。在本实施方式中，对本专利技术的有源矩阵基板进行说明。图1是表示本专利技术的有源矩阵基板的图，(a)是平面图、(b)是在A-A’的纵截面图。另外，图2是表示图1(a)的电路图。还有，在下面的说明中，将图1(b)中的半导体膜102方向作为“上”、将基材100方向作为“下”。图1的有源矩阵基板在基材100上以大致一定间隔形成有第1布线101。在其上形成绝缘膜105，进而在其上有第2布线102与像素电极103形成图案。接着，半导体膜104以第1布线101和第2布线102交叉的区域、与第1布线101和像素电极103交叉的区域重叠的方式被设置。因而，半导体膜104至少覆盖第2布线102、像素电极103、绝缘膜105。接着，在由多个像素电极103形成的显示区域中，第1布线101与第2布线102成为具有一定宽度的带状形状，在其长度方向上，不具有与像素电极的周期相对应的构造。另一方面，像素电极103的一边与第2布线102并行，间隔一定间隔被配置。在该构成中，第1布线101与第2布线102以及像素电极103交叉的区域近旁作为晶体管110发挥作用，控制像素电极103的电压。也就是说，通过向第1布线101施加电压而使晶体管110转换开放状态/关闭状态，由此被设定于第2布线102上的电压信号使像素电极103的电压发生变化或保持。结果，控制有源矩阵基板上的任意像素电极103的电压成为可能。本专利技术的特征在于，晶体管110在像素电极103的相对位置可以变化。或者，也可以说是允许相对位置发生变化的结构。例如，图1所示的从像素电极103的下边到晶体管110之间的距离ΔY1、ΔY2、ΔY3不一定一致。这样的相对位置的变化例如可以通过基材100的伸缩引起。在形成第1布线101、第2布线102、像素电极103的工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有源矩阵基板，其特征在于，在基材上具备多个第１布线、与多个所述第１布线交叉的多个第２布线、绝缘所述第１布线和所述第２布线的绝缘膜、与所述第２布线相邻的多个像素电极，设置与所述多个像素电极分别对应的半导体膜，所述半 导体膜与所述多个第１布线与所述多个第２布线交叉的多个交叉部中的至少１个交叉部以及所述多个像素电极中的１个重叠。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：川濑健夫，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]