包括电子簇射空穴注入层的有机电致发光装置及制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供包括电子簇射处理过的空穴注入层的有机电致发光装置及其制备方法。该有机电致发光装置包括：形成在基板上的阳极；形成在所述阳极上的空穴注入层，其中所述空穴注入层经历电子簇射处理；形成在所述空穴注入层上的发射层；以及形成在所述发射层上的阴极。该空穴注入层经历电子簇射处理从而从空穴注入层去除杂质且增加空穴注入层的表面电阻，由此改善有机电致发光装置的性能和寿命特性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及包括电子簇射空穴注入层的有机电致发光装置及其制备方法，尤其涉及通过进行电子簇射处理从空穴注入层去除杂质而具有改善的性能和使用寿命特性以及提高的空穴注入层表面电阻的有机电致发光装置、及其制备方法。
技术介绍
有机电致发光装置(EL装置)是自发射型显示装置，其基于原理当电流施加到荧光或磷光有机层时，电子和空穴结合从而发光。由于诸如薄且重量轻的结构、简单的构成元件、简化的制造工艺、高清晰度和高色纯度的实现、低能耗、以及完全移动的图像(moving picture)和全彩显示的实现等许多优点，有机EL装置已经引起很多关注并得到积极研究。为了提高发光效率和降低驱动电压，有机EL装置通常包括多个有机层而不是利用单个发射层作为有机层，该多个有机层包括空穴注入层、电子传输层、空穴传输层、发射层等。多个有机层基本分成空穴相关层、电子相关层、以及发射层。图1为一般有机EL装置(例如采用小分子量发射层的系统)的横截面图。参照图1，堆叠结构被示出，其中负电极或阳极12堆叠在基板11上，空穴注入层(HIL)13和空穴传输层(HTL)14作为空穴相关层堆叠于其上，电子发射层(EML)15堆叠于其上，电子传输层(ETL)16和电子注入层(EIL)17作为电子相关层堆叠于其上，正电极或阴极18最后堆叠于其上。在具有堆叠结构的有机EL装置中，形成空穴注入层13用于降低所施加的电压、提高发射效率和增加装置的使用寿命。空穴注入层13由铜酞菁(copper phthalocyanine)、星爆型胺(starbusrt-type amines)诸如TCTA或m-TDATA、或聚(3，4-亚乙基二氧基噻吩)(poly(3，4-ethylenedioxythiophene))(PEDOT)制成。然而，当空穴注入材料没有单独处理而用于空穴注入层时，由于表面杂质，几个问题会不受欢迎地出现，包括性能变差、表面电阻降低等。
技术实现思路
本专利技术提供一种有机电致发光装置及其制备方法，该有机电致发光装置通过进行电子簇射处理从空穴注入层去除杂质而具有改善的性能和使用寿命特性以及提高的空穴注入层表面电阻。根据本专利技术的一个方面，提供一种有机电致发光装置，包括形成在基板上的阳极；形成在该阳极上的空穴注入层，其中该空穴注入层经受电子簇射处理；形成在该空穴注入层上的发射层；以及形成在该发射层上的阴极。根据本专利技术的另一方面，提供一种用于制备有机电致发光装置的方法，包括在基板上形成阳极；在所述阳极上形成空穴注入层；对所述空穴注入层进行电子簇射处理；在所述空穴注入层上形成发射层；以及在所述发射层上形成阴极。附图说明通过参照附图详细描述本专利技术的示例性实施例，本专利技术的上述和其它特征及优点将变得更明显，附图中图1是常规有机EL装置的横截面图；图2是用于比较本专利技术中使用的直接电子簇射处理与侧部电子簇射处理的示意图；图3是曲线图，示出常规有机EL装置与根据本专利技术一示例的有机EL装置之间寿命对亮度的关系。具体实施例方式现在将更详细地描述本专利技术。本专利技术涉及有机EL装置及其制备方法。具体地，本专利技术涉及通过在制造有机EL装置的过程中对作用来促进空穴注入到发射层中的空穴注入层进行电子簇射处理从空穴注入层去除杂质而具有改善的性能和使用寿命的有机EL装置。本专利技术还涉及制备有机EL装置的方法。在本专利技术的一个方面中，提供一种有机电致发光装置，其包括形成在基板上的阳极；形成在阳极上的空穴注入层，其中空穴注入层经受电子簇射处理(electron shower treatment)；形成在空穴注入层上的发射层；以及形成在发射层上的阴极。在本专利技术中，通过对空穴注入层实施电子簇射处理形成修改的空穴注入层，从而促进空穴注入层表面中的预退化(pre-degradation)的去除或不稳定杂质的去除，且最小化由于不稳定离子诸如硫离子和卤素杂质导致的性能变差。为了获得低电流密度，电子簇射处理优选通过侧部电子簇射方法而不是直接电子簇射方法实施。图2是用于比较本专利技术中使用的直接电子簇射处理与侧部电子簇射处理的示意图。如图2所示，根据本专利技术中使用的侧部电子簇射处理，将被处理的空穴注入层不位于来自电子发射源21的电子发射路径22上。相反，将被处理的对象即其中空穴注入层25堆叠在基板24上的堆叠结构位于偏离电子发射路径22的位置23。结果，空穴注入层25被转换成修改的空穴注入层。这样的侧部簇射处理的使用能够达到界面处理效果。更具体地，根据本专利技术中使用的侧部电子簇射处理，将被处理的对象应以一定限制条件位于偏离基于直接簇射方法的辐射区域(irradiation area)的位置处，该限制条件即该位置落在电子枪制造商建议的直径范围内且距离电子枪的距离合适地在100mm至200mm的范围。将被处理的对象的位置可根据表面处理和处理时间导致的特性改变被经验地优化。例如，电子枪与该对象之间的距离越长，处理时间就越长。然而，电子枪与该对象之间的较短距离使得难以优化地调整表面处理效果。这里，所期望的界面处理效果包括通过稳定导电聚合物表面的电不稳定部分以及增加界面电阻抑制装置被电驱动时产生的杂质迁移。电子簇射处理优选以10eV至100eV的电子能量进行。如果电子能量小于10eV，基于侧部簇射处理的能量不足以进行表面处理，这是不期望的。如果电子能量大于100eV，导电聚合物表面被处理过度。另外，优选调节电子簇射处理的处理时间使得空穴注入层的表面电阻增加不大于10％初始表面电阻。如果电子簇射处理的处理时间太短，界面处理没有充分进行。如果电子簇射处理的处理时间太长，空穴注入层的界面电阻增加使得空穴注入层不能适当地起到导电聚合物作用。另外，为了去除从空穴注入层的表面出来的残留材料，电子簇射处理可以包括在氮气氛中进行的吹气处理(blowing treatment)。如果从空穴注入层的表面出来的材料保留在空穴注入层表面上，会出现数个问题诸如泄漏电流或装置不稳定。电子簇射处理还可包括真空下或氮气氛中的加热。加热处理提供表面稳定效果。这里，加热处理在这样的条件下进行，即加热温度不高于作为空穴注入层的导电聚合物的Tg，且功率(power)(温度×时间)在聚合物不被热损坏的范围内。将在将更详细地描述根据本专利技术的有机EL装置中堆叠的各层。根据本专利技术的有机EL装置可分成两种类型采用高分子量发射层的系统；和采用小分子量发射层的系统。在系统采用高分子量发射层的情况中，根据本专利技术的有机EL装置包括形成在基板上的阳极、形成在阳极上的电子簇射的空穴注入层、形成在空穴注入层上的发射层、以及形成在电子传输层上的阴极。在根据本专利技术的有机EL装置中，基板是通常用于有机EL装置的基板，并优选是具有优异的透明度、表面平滑度、可操作性和防水性的有机基板或透明塑料基板。在根据本专利技术的有机EL装置是前发射型的情况中，形成在基板上的阳极采用金属层作为发射层。在根据本专利技术的有机EL装置是背发射型的情况中，阳极优选由透明、高导电材料制成，例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、氧化锡(SnO2)、氧化锌(ZnO)、或其混合物。空穴注入层可由空穴注入层的制造中通常使用的材料形成。空穴注入层的可用的示例包括但不限于铜酞菁(copper phthalocyanine)、星爆型胺(s本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有机电致发光装置，包括：阳极，其形成在基板上；空穴注入层，其形成在所述阳极上，其中所述空穴注入层经历电子簇射处理；发射层，其形成在所述空穴注入层上；以及阴极，其形成在所述发射层上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金武谦，朴钟辰，金相烈，李泰雨，
申请(专利权)人：三星移动显示器株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]