全彩有机电致发光显示面板及其制造方法技术

一种全彩有机电致发光显示面板的像素结构，具有多个子像素，该多个子像素包含：至少一个第一电极，形成于基板上；至少一个第一共同层，形成于第一电极上；至少一个屏蔽墙，形成于第一电极的周围；多个发光层，分别形成于对应的各该子像素的第一共同层上；其中，各该发光层于各该第一电极之上不会互相覆盖；至少一个第二共同层，形成于该多个发光层上；以及至少一个第二电极，形成于第二共同层上。制作时，提供第一、二、三色彩蒸镀源，其独立的蒸镀倾斜方向和蒸镀角度与屏蔽墙的高度和位置相配合，以将第一、二、三色彩发光层个别地蒸镀于第一电极的上方。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，且特别是涉及一种可降低制造成本、提高面板品质的全彩有机电致发光显示面板的像素结构及其制造方法。
技术介绍
有机电致发光显示面板(organic electroluminescence panel)，相较于其它平面显示技术，拥有自发光、高亮度、广视角、高对比、低耗电、高速应答、操作温度范围广、发光效率高、工艺简易等优异特性，使得其产品技术发展广受全世界注目。传统的有机电致发光元件具有多层结构，主要是在阳极层和阴极层之间置入有机发光层，以产生电激发光(electroluminescence)。在有机发光层和阳极之间，形成空穴注入层和空穴传输层，在有机发光层和阴极之间则形成电子传输层。对于全彩有机电致发光显示面板而言，一般是由红光、绿光和蓝光(RGB)等次像素元件所组成。而一个像素至少包括各一个RGB次像素元件。目前的全彩有机电致发光显示面板的RGB次像素排列沿用液晶显示面板的架构，常见的RGB次像素排列方式有条状(stripe)排列、马赛克(mosaic)排列和三角形(delta)排列(或是称为triangle排列)，其中又以条状排列最为常见。而由于RGB次像素在制作上是采用屏蔽(shadow mask)蒸镀，导致在量产制作上会产生许多缺点，包括1.制造成本较高包括屏蔽制作、精密对位系统、屏蔽腔体、屏蔽清洗系统、屏蔽检测设备等等各种设备成本，使制造成本增加。2.生产成品率较低屏蔽对位时常常因为对位不够精准(misalignment)、或是尘粒(particle)沾附以及压伤等原故而影响了面板的生产成品率。3.面板分辨率较低每个屏蔽的开口对应一个次像素的蒸镀面积，因此，屏蔽的开口大小将决定全彩有机电致发光显示面板面板的分辨率，导致现有技术的全彩面板分辨率受限于屏蔽的工艺能力。目前采用屏蔽工艺的面板分辨率一般约在120到150ppi(pixel per inch)之间，通常不超过180ppi。4.生产弹性较差屏蔽制作时间一般需要6个星期，且通常一张屏蔽上为了避免张力不平均，仅允许形成一种形式的图案，导致在制造生产上的弹性不高。目前已有许多制造厂商提出不需使用屏蔽，而制作出全彩有机电致发光显示面板(如美国专利案No.5294869、No.6517996等)。然而这些现有技术都至少具有一个共同的严重缺点需要改变有机发光元件的RGB的原先元件结构(device structure)来配合，且所制成的元件结构会有不同色彩层相重叠(例如美国专利案No.5294869中，蓝色发光层叠在红色发光层的上方)、或是单一色彩层中混和了其它光色的材料(例如美国专利案No.6517996中，红色发光层中混和了蓝色发光材料)的情形，而容易产生混光的现象。因此，如何在不需使用屏蔽(mask free)与不改变RGB的原先形成方法，在控制制造成本的情形下，制作出没有混光缺点、光色纯度高的全彩有机电致发光显示面板，实为研发者一个重要的课题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的就是在提供一种低制造成本、高品质成品的全彩有机电致发光显示面板的像素结构及其制造方法。根据本专利技术的目的，提出一种像素结构，适用于全彩有机电致发光显示面板，此像素结构具有多个子像素，该多个子像素包含至少一个第一电极，形成于基板上；至少一个第一共同层，形成于第一电极上；至少一个屏蔽墙，形成于第一电极的周围；多个发光层，分别形成于对应的各该子像素的第一共同层上；其中，各该发光层于各该第一电极之上不会互相覆盖；至少一个第二共同层，形成于该多个发光层上；以及至少一个第二电极，形成于第二共同层上。根据本专利技术的目的，再提出一种全彩有机电致发光显示面板的制造方法，包括步骤如下形成第一电极于基板上；形成多个屏蔽墙于第一电极的周围； 形成至少一个第一共同层于第一电极上；形成多个第一色彩次像素、多个第二色彩次像素和多个第三色彩次像素，于第一共同层上，包括提供至少一个第一色彩蒸镀源、至少一个第二色彩蒸镀源和至少一个第三色彩蒸镀源，通过第一色彩蒸镀源、第二色彩蒸镀源和第三色彩蒸镀源独立的蒸镀倾斜方向和蒸镀角度与该多个屏蔽墙相配合，将至少一个第一色彩发光层、至少一个第二色彩发光层、至少一个第三色彩发光层个别地蒸镀于对应相同光色的第一电极的上方；形成至少一个第二共同层，覆盖该多个第一色彩次像素、该多个第二色彩次像素和该多个第三色彩次像素；以及形成第二电极于第二共同层上。为让本专利技术的上述目的、特征、和优点能更明显易懂，以下配合附图以及优选实施例，以更详细地说明本专利技术。附图说明图1A～1C绘示依照本专利技术优选实施例的全彩有机电致发光显示面板的制造方法。图2为依照图1A～1C所制作的单一像素结构的上视图。图3为依照本专利技术优选实施例的全彩有机电致发光显示面板的单一像素的剖面示意图。图4为本专利技术第一应用例的像素结构与屏蔽墙设计的示意图。图5A～5C分别为本专利技术第一应用例的第一、二、三种全彩面板像素排列与屏蔽墙设计的示意图。图6为本专利技术的应用例二A的像素结构与屏蔽墙设计的示意图。图7A、7B分别为本专利技术的应用例二A的两种全彩面板像素排列与屏蔽墙设计的示意图。图8为本专利技术的应用例二B的像素结构与屏蔽墙设计的示意图。图9A、9B分别为本专利技术的应用例二B的两种全彩面板像素排列与屏蔽墙设计的示意图。图10为本专利技术的应用例二C的像素结构与屏蔽墙设计的示意图。图11为本专利技术的应用例二C的全彩面板像素排列与屏蔽墙设计的示意图。图12为本专利技术的应用例二D的像素结构与屏蔽墙设计的示意图。图13为本专利技术的应用例二D的全彩面板像素排列与屏蔽墙设计的示意图。图14A、14B为本专利技术第三应用例的两种像素结构与屏蔽墙设计的示意图。图15A、15B分别为依照本专利技术应用例三的图14A、14B所完成的全彩面板像素排列与屏蔽墙设计的示意图。图16为本专利技术第四应用例的像素结构与屏蔽墙设计的示意图。图17为依照本专利技术第四应用例的全彩面板像素排列与屏蔽墙设计的示意图。图18为依照本专利技术第五应用例的全彩面板像素排列与屏蔽墙设计的示意图。简单符号说明10基板12第一电极13第一共同层15第二共同层16第二电极11A、11B、41A、41B、51A、81A、96A屏蔽墙的第一部份11c、51B、81B、96B屏蔽墙的第二部分51C、96C屏蔽墙的第三部分21、22、98屏蔽墙101红色次像素区域102绿色次像素区域103蓝色次像素区域141红色发光层142绿色发光层143蓝色发光层161A、161B相邻子像素的第一区域162相邻子像素的第二区域 171第一蒸镀方向172第二蒸镀方向173第三蒸镀方向θ1第一倾斜角θ2第二倾斜角θ3第三倾斜角具体实施方式本专利技术提出一种，主要是在像素结构中形成屏蔽墙(shadow wall)图案，并利用三个具有独立蒸镀方向和蒸镀角度的色彩蒸镀源(如RGB蒸镀源)，与该屏蔽墙图案相配合，使三个色彩发光层(如RGB发光层)可分别且单一地蒸镀于三个色彩发光区域之上，而不会有不同色互相覆盖(包括不同色彩层上下重叠、或是单一发光层中具有两种光色材料)的情形产生。图1A～1C，其绘示依照本专利技术优选实施例的全彩有机电致发光显示面板的制造方法。图1A～1C的图标重点在于RGB三发光层的独立蒸镀，对第一电极、第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种像素结构，适用于全彩有机电致发光显示面板，该像素结构具有多个子像素，该多个子像素包含：至少一个第一电极，形成于基板上；至少一个第一共同层，形成于该第一电极上；至少一个屏蔽墙，形成于该第一电极的周围；多个发 光层，分别形成于对应的各该子像素的该第一共同层上；其中，各该发光层于各该第一电极之上不会互相覆盖；至少一个第二共同层，形成于该多个发光层上；以及至少一个第二电极，形成于该第二共同层上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵清烟，陈哲仁，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]