本实用新型专利技术的一种用于附有湿膜的产品的曝光装置，属于光伏曝光技术领域。该装置包括曝光工位以及氧气隔离机构，所述曝光工位包括平行光光源以及掩模版，所述平行光光源设置在掩模版上方；所述氧气隔离机构设置在掩模版的下方，所述氧气隔离机构包括气管以及喷嘴，所述气管固定连接喷嘴，所述喷嘴能够喷出惰性气体。采用了曝光面积更大的平行光光源对附有湿膜的产品进行曝光，减少了曝光时间，提高了产能。同时，在产品曝光的过程中通以惰性气体对湿膜进行保护，尽量达到氧气隔绝，确保了附有湿膜的产品不会受到氧阻聚的影响，提高了附有湿膜的产品的成品率。湿膜的产品的成品率。湿膜的产品的成品率。
【技术实现步骤摘要】
一种用于附有湿膜的产品的曝光装置
[0001]本技术涉及光伏曝光
，更具体地说，涉及一种用于附有湿膜的产品的曝光装置。
技术介绍
[0002]当前在光伏行业中，由于绝大多数光固化工艺是在空气环境中进行的，使用湿膜曝光时，湿膜外部没有干膜的PET保护，会和大气直接接触，并且主要的应用是涂料和油墨等具有极大表面/体积比的材料，所以O2对光固化材料的自由基聚合反应有不容忽视的阻聚作用，氧阻聚它会与自由基的聚合反应竞争而消耗自由基，则会导致涂层底层固化、表面未固化而发黏的情况。氧阻聚也会导致涂层表层出现大量羟基、羰基、过氧基等氧化性结构，从而影响涂层的长期稳定性，甚至可能影响固化后漆膜的硬度、光泽度和抗划伤性等性能。而且在现有技术中，为了降低或者减小氧阻聚的问题，对湿膜进行曝光时对其上部分进行抽真空，然后利用LDI曝光机(LDI曝光机的曝光面积为20mm*5mm)进行曝光，使LDI曝光机在产品上方进行移动。
[0003]如专利名称为：一种可调节激光模组的对位LDI曝光机(申请号：CN201821206130.0，申请日：2018年07月27号)公开了传动装置和激光模组；所述激光模组包括：上激光模组和下激光模组；所述上激光模组包括：驱动装置、上激光模组安装架、第一激光模块和滚轮连接组件；所述纵向机架从上往下依次设置有驱动装置、上激光模组安装架、滚轮连接组件、滚轮压紧组件、横向机架和下激光模组；所述上激光模组与所述下激光模组相互对射，可同时对PCB板进行曝光，提升了曝光的速度；也可同步PCB板双面曝光的位置，不会出现对PCB板翻面后再次曝光造成的位置误差，且可通过调节所述上激光模组来调节曝光距离，可以有效保证LDI曝光机的曝光精准度，提高了产品的质量。
[0004]上述专利在对印刷板进行湿膜曝光时，采用的是LDI曝光机，其生产效率较为低下，无法满足日益高涨的产能需求。
技术实现思路
[0005]1.技术要解决的技术问题
[0006]本技术的目的在于克服现有技术中的氧阻聚对湿膜产品影响的问题，提供了一种用于附有湿膜的产品的曝光装置，在产品曝光的过程中通以惰性气体对湿膜进行保护，尽量达到氧气隔绝，确保了附有湿膜的产品不会受到氧阻聚的影响。
[0007]2.技术方案
[0008]为达到上述目的，本技术提供的技术方案为：
[0009]本技术的用于附有湿膜的产品的曝光装置，包括曝光工位以及氧气隔离机构，所述曝光工位包括平行光光源以及掩模版，所述平行光光源设置在掩模版上方；所述氧气隔离机构设置在掩模版的下方，所述氧气隔离机构包括气管以及喷嘴，所述气管固定连接喷嘴，所述喷嘴出气口与所述掩模版底面之间的距离小于0.2mm，所述喷嘴能够喷出惰性
气体，所述喷嘴的出气口长度大于待加工产品中与喷嘴最接近的边的长度。
[0010]作为本技术更进一步的改进，所述喷嘴包括气腔以及喷头，所述气腔一端连接气管，所述气腔另一侧固定连接喷头，所述喷头从靠近气腔的一端到远离气腔的一端体积逐渐减小。
[0011]作为本技术更进一步的改进，所述曝光工位还包括升降件，所述掩模版两侧固定连接升降件。
[0012]作为本技术更进一步的改进，所述曝光工位还包括掩模版横向移动件，所述掩模版横向移动件与所述掩模版连接，所述掩模版横向移动件能够带动掩模版沿水平方向移动。
[0013]作为本技术更进一步的改进，还包括传输机构，所述传输机构设置在掩模版的下方，所述传输机构上设有氧气隔离机构，所述氧气隔离机构设置在传输机构的一侧。
[0014]作为本技术更进一步的改进，还包括承载台，所述承载台设置在掩模版的下方，所述承载台设置在平行光光源的正下方。
[0015]作为本技术更进一步的改进，还包括传输机构，所述传输机构与所述承载台相平齐。
[0016]作为本技术更进一步的改进，所述传输机构的一侧设有转移件，所述转移件包括旋转电机、旋转支架以及吸盘，所述旋转电机输出轴固定连接旋转支架，所述旋转支架两端固定设有吸盘。
[0017]作为本技术更进一步的改进，所述转移件上设有氧气隔离机构，所述氧气隔离机构设置在转移件的一侧。
[0018]作为本技术更进一步的改进，所述传输机构上设有定位相机，所述定位相机固定在所述传输机构的正上方，所述定位相机的镜头正对于传输机构。
[0019]作为本技术更进一步的改进，所述喷嘴中设有流量计。
[0020]3.有益效果
[0021]采用本技术提供的技术方案，与现有技术相比，具有如下有益效果：
[0022]本技术采用拥有更大曝光尺寸的平行光光源，在相同的曝光能量和图形线宽的前提下，本技术中的平行光光源解析线宽要比传统的LDI曝光机高8μm左右，其侧蚀情况较小，且线性较为流畅，对光伏电池的电性能影响较小。同时，在平行光光源对附有湿膜的产品进行曝光的过程中在其下方通入惰性气体进行氧气隔离，设置喷嘴出气口与所述掩模版底面之间的距离小于0.2mm，保证喷嘴吹出的气体能覆盖住被加工产品的加工面，有效的降低了氧阻聚所带来的影响，一方面有效的提升产能，另一方面也进一步的提高了良品率，保证了涂层的长期稳定性，保证了漆膜的硬度、光泽度和抗划伤性能。
附图说明
[0023]图1为一种实施例中曝光工位结构示意图；
[0024]图2为一种实施例中在相同的曝光能量和图形线宽的前提下与传统LDI曝光机的线宽以及侧蚀情况对比图；
[0025]图3为一种实施例中的传输机构结构示意图；
[0026]图4为一种实施例中喷头的结构示意图。
[0027]示意图中的标号说明：
[0028]1、曝光工位；11、平行光光源；12、掩模版；13、升降件；14、掩模版横向移动件；
[0029]2、氧气隔离机构；21、气管；22、喷嘴；221、气腔；222、喷头。
[0030]3、承载台；
[0031]4、传输机构；41、转移件；411、旋转电机；412、旋转支架；413、吸盘。
具体实施方式
[0032]为进一步了解本技术的内容，结合附图和实施例对本技术作详细描述。
[0033]本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”等用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更
技术实现思路
下，当亦视为本技术可实施的范畴。
[0034]下面结合实施例对本技术作进一步的描述。
[0035]实施例1
...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：包括，曝光工位(1)，所述曝光工位(1)包括平行光光源(11)以及掩模版(12)，所述平行光光源(11)设置在掩模版(12)上方；氧气隔离机构(2)，所述氧气隔离机构(2)设置在掩模版(12)的下方，所述氧气隔离机构(2)包括气管(21)以及喷嘴(22)，所述气管(21)固定连接喷嘴(22)，所述喷嘴(22)能够喷出惰性气体，所述喷嘴的出气口长度大于待加工产品中与喷嘴最接近的边的长度。2.根据权利要求1所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述喷嘴(22)包括气腔(221)以及喷头(222)，所述气腔(221)一端连接气管(21)，所述气腔(221)另一侧固定连接喷头(222)，所述喷头(222)从靠近气腔(221)的一端到远离气腔(221)的一端体积逐渐减小。3.根据权利要求1所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述曝光工位(1)还包括升降件(13)，所述掩模版(12)两侧固定连接升降件(13)。4.根据权利要求1～3任一所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：所述曝光工位(1)还包括掩模版横向移动件(14)，所述掩模版横向移动件(14)与所述掩模版(12)连接，所述掩模版横向移动件(14)能够带动掩模版(12)沿水平方向移动。5.根据权利要求1所述的用于附有湿膜的产品的曝光装置，其特征在于：还包括传输机构(4)，所述传输机构(4)设置在掩模版(12)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡广豹，王伟，姚青松，郁操，洪飞，龚志清，
申请(专利权)人：苏州迈为科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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