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本实用新型的一种用于附有湿膜的产品的曝光装置，属于光伏曝光技术领域。该装置包括曝光工位以及氧气隔离机构，所述曝光工位包括平行光光源以及掩模版，所述平行光光源设置在掩模版上方；所述氧气隔离机构设置在掩模版的下方，所述氧气隔离机构包括气管以及喷...
该专利属于苏州迈为科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州迈为科技股份有限公司授权不得商用。

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