本发明专利技术提供原料供应装置，该原料供应装置将原料蒸发或升华并将其供应到蒸镀装置的处理容器中，该原料供应装置具有在内部保存所述原料的原料容器、向所述原料容器的内部供应运载气体的气体流入口、以及将与所述运载气体一起被蒸发或升华的所述原料供应到所述处理容器的气体排出口，其中在所述原料容器的内部设置气流控制部，用于控制所述运载气体的流动。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及蒸镀装置及用于该蒸镀装置的原料供应装置。技术背景蒸镀法为在被处理基片的表面形成薄膜等的方法之一。蒸镀法将被 蒸发或升华的蒸镀原料蒸镀在被处理基片上，形成薄膜。由蒸镀法形成的薄膜中有用于有机电致发光(下面表示为EL)元件 的薄膜。使用EL元件的显示装置易于小型化、消耗功率小、可以实现 面发光、与液晶显示器相比可以大幅度降低施加电压，因此在平面显 示器等各种显示装置领域受到广泛瞩目。有机EL元件具有在阳极与阴极之间形成发光层的结构。该发光层 是通过电子与空穴的再结合而发光的层，发光层可以使用多环芳香族 碳氢化合物、杂环芳香族化合物、有机金属络合物等材料，上述材料 可以通过蒸镀法形成发光层。并且，根据需要可以在阳极与发光层之 间，或者在阴极与发光层之间形成空穴输送层或电子输送层等可以改 善发光效率的薄膜，这些层也可以通过蒸镀法形成。用于形成上述薄膜的蒸镀装置具有可以维持内部减压状态的处理 容器、设置在该处理容器内使蒸镀原料气化、蒸发或升华的蒸镀源， 由蒸镀源气化、蒸发或升华的蒸镀原料被蒸镀到被处理基片上。但是， 通过蒸镀装置形成薄膜时，有难以控制由蒸镀源蒸发或升华的蒸镀原 料量的问题。这是由于单位时间内由蒸镀源蒸发或升华的蒸镀源料量根据所经 过的时间、蒸镀源所具有的蒸镀原料量或蒸镀源温度的微小变化而变 化所引起的。因此，难以使蒸镀膜的成膜速度稳定，而且可能因成膜速度的变化而使膜厚不均匀。专利文献l(日本国际申请公开"特表2003-502494号公报")中记 载着在蒸镀源容器中设置挡板(多孔板)，由此使蒸镀原料的蒸发或升 华量稳定的
技术实现思路
。但是，上述结构没有使用供应蒸发或升华的原 料的运载气体，没有利用运载气体的流动。因此，使用上述挡板时， 被供应到蒸镀装置的原料量少且成膜速度显著降低，所以并不是实用 的结构。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种解决上述问题的新的并实用的蒸镀装置。本专利技术提供一种用于蒸镀装置的原料供应装置，其使蒸镀装置的 成膜速度稳定性良好，以及具有该原料供应装置的蒸镀装置。本专利技术提供一种原料供应装置，该原料供应装置将原料蒸发或升 华并将其供应到蒸镀装置的处理容器中，原料供应装置具有在内部保 存所述原料的原料容器、向所述原料容器的内部供应运载气体的气体 流入口 、以及将与所述运载气体一起被蒸发或升华的所述原料供应到 所述处理容器的气体排出口，其中，在所述原料容器的内部设置气流 控制部，以用于控制所述运载气体的流动。本专利技术提供一种蒸镀装置，该蒸镀装置具有在内部支撑被处理基 片的处理容器和将原料蒸发或升华并将其供应到所述处理容器的原料 供应装置，所述蒸镀装置将被蒸发或升华的所述原料蒸镀到所述被处 理基片，所述原料供应装置具有在内部保存所述原料的原料容器、向 所述原料容器的内部供应运载气体的气体流入口 、以及将与所述运载 气体一起被蒸发或升华的所述原料供应到所述处理容器的气体排出 口，其中，在所述原料容器的内部设置气流控制部，以用于控制所述运载气体的流动。根据本专利技术可以提供用于蒸镀装置的原料供应装置，其使蒸镀装 置的成膜速度稳定性良好，及具有该原料供应装置的蒸镀装置。附图说明图1为实施例1的原料供应装置的截面图。图2为实施例2的原料供应装置的截面图。 图3为实施例3的原料供应装置的截面图。 图4为实施例4的蒸镀装置的示意图。 主要符号说明IOO为原料供应装置，IOI为圆筒容器，102为盖部，103为原料容器， 102A为气流控制部，102a为支撑部，102b、 102c、 102d为突起部，103A 为内部空间，104为气体流入口， 105为气体流入通道，106为气体排出 口， 107为气体流入通道，108为气体排出通道，109为过滤器，IIO为 气体流入管，IIOA为阀，IIOB为连接部，lll为气体排出管，111A为阀， 111B为连接部，112为密封材，113为加热器，200为蒸镀装置，201、 202为处理容器，203为支撑台，204为被处理基片，205为移动轨道， 206为排气盖，206A为孔部，207为定位装置，208为排气单元，208A为 排气管，209为原料供应部，209A、 209B、 209C、 209D为原料混合室， 210为原料供应喷嘴，211为闸阀，212A、 212B、 212C、 212D为气体管， 213A、 213B、 213C、 214A、 214B、 214C、 215A、 215B、 216A、 216B为 阀，217A、 217B、 217C为质量流量控制器(MFC)， 218为运载气体供应 源，300为自动搬运装置。本专利技术的最佳实施方式下面根据附图说明本专利技术的实施方式。首先，说明实施例l的原料供应装置。该原料供应装置是对原料进 行蒸发或升华并将其供应到蒸镀装置(在后面说明结构例)的处理容器 的装置。蒸镀装置具有支撑被处理基片的处理容器，本实施例的原料 供应装置向该处理容器供应被蒸发或升华的原料。图1为本专利技术实施例1的原料供应装置的截面示意图。如图1所示，本实施例的原料供应装置100由圆筒容器101和盖部 102组合构成原料容器103，而且该原料容器103的内部设有内部空间 103A。在所述内部空间103A中存放常温常压下为固体(例如，粉末状) 状态的原料100A。所述原料容器103的外侧设有加热器113，所述原料 100A被该加热器113加热而蒸发或升华。所述圆筒容器101大体上为一端开口的圆筒形状，该圆筒形状的开 口侧形成安装所述盖部102的凸缘。所述盖部102被安装于该圆筒容器 101，用来堵住所述圆筒容器101的开口部，在该盖部102与该圆筒容器 101之间插入密封材112，以维持所述内部空间103A的气密性。在所述盖部102设置朝所述内部空间103A延伸的气流控制部102A， 关于该气流控制部102A的详细内容将在后面进行说明。所述盖部102上连接将运载气体流入到所述内部空间103A的气体 流入管110。从所述气体流入管1 IO流入的运载气体经过形成在所述盖 部102的气体流入通道107及形成在所述圆筒容器101的气体流入通道 105，由气体流入口104流入到所述内部空间103A。该气体流入口104形 成在所述圆筒容器101中安装所述盖部102的一侧的相反侧(所述原料 容器103的第一侧)。由所述气体流入口104流入到所述内部空间103A的运载气体，与被蒸发或升华的所述原料(下面称为气体原料) 一起由形成在所述盖部 102(位于所述第一侧的相反侧的第二侧)的气体排出口106排出。由所述内部空间103A排出的运载气体和气体原料，通过形成在所 述盖部102的气体排出通道108排到连接于所述盖部102的气体排出管111。所述气体排出管lll连接于蒸镀装置(将在下面描述)的处理容器， 通过该排出管111向该处理容器供应运载气体和气体原料。本实施例的原料供应装置的特点在于，在所述内部空间103形成用 于控制运载气体的流动的所述气流控制部102A。所述原料100A被保存 在所述原料容器103内，并与所述气流控制部102A对置。运载气体在所 述气流控制部102A与所述原料1 OOA之间的空间中流动。所述气流控制部102A控制供应到本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种原料供应装置，该原料供应装置将原料蒸发或升华并将其供应到蒸镀装置的处理容器中，所述原料供应装置的特征在于，具有： 在内部保存所述原料的原料容器； 向所述原料容器的内部供应运载气体的气体流入口；以及 将与所述运载气体一起被蒸发或升华的所述原料供应到所述处理容器的气体排出口； 其中，在所述原料容器的内部设置气流控制部，用于控制所述运载气体的流动。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：井上雅司，野泽俊久，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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