气浮找平机构制造技术

本实用新型专利技术属于光刻机技术领域，公开了一种气浮找平机构，包括底座，底座上竖直均布有三个气缸，气缸的杆端放置有浮动板，每个气缸的一侧均竖直设有导向轴，导向轴与底座活动连接，底座内设有用于锁定导向轴的活塞杆，导向轴和浮动板之间设有拉簧。本实用新型专利技术所提供的气浮找平机构，三点浮动支撑的浮动板上的晶圆吸盘与掩模版接触后通过活塞杆自动锁紧导向轴，达到晶圆吸盘与掩模版的找平目的。达到晶圆吸盘与掩模版的找平目的。达到晶圆吸盘与掩模版的找平目的。

【技术实现步骤摘要】
气浮找平机构


[0001]本技术属于光刻机
，具体涉及一种气浮找平机构。

技术介绍

[0002]基片与掩模版找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术，找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度；国外光刻机的找平机构都是自行研制的，在世界范围内没有单独生产制造商销售，无从购买。国内光刻机目前配置的找平机构，大多采用传统的半球碗找平技术，由于凸凹两个半球碗相对运动摩擦力大，磨损快，不能保证找平的一致性。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此，本技术目的在于提供一种气浮找平机构。
[0004]本技术所采用的技术方案为：
[0005]一种气浮找平机构，包括底座，底座上竖直均布有三个气缸，气缸的杆端放置有浮动板，每个气缸的一侧均竖直设有导向轴，导向轴与底座活动连接，底座内设有用于锁定导向轴的活塞杆，导向轴和浮动板之间设有拉簧。
[0006]优选地，所述浮动板上设有挡块，导向轴上设有固定杆，拉簧的两端分别与固定杆和挡块相连。
[0007]优选地，所述导向轴的上端为半球形，挡块上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气浮找平机构，其特征在于：包括底座(1)，底座(1)上竖直均布有三个气缸(2)，气缸(2)的杆端放置有浮动板(3)，每个气缸(2)的一侧均竖直设有导向轴(4)，导向轴(4)与底座(1)活动连接，底座(1)内设有用于锁定导向轴(4)的活塞杆(6)，导向轴(4)和浮动板(3)之间设有拉簧(5)。2.根据权利要求1所述的气浮找平机构，其特征在于：所述浮动板(3)上设有挡块(7)，导向轴(4)上设有固定杆(8)，拉簧(5)的两端分别与固定杆(8)和挡块(7)相连。3.根据权利要求2所述的气浮找平机构，其特征在于：所述导向轴(4)的上端为半球形，挡块(7)上设有朝向导...

【专利技术属性】
技术研发人员：张其文，扶小莲，刘阳波，陈正洪，
申请(专利权)人：四川鸿源鼎芯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：