光刻设备、量测系统、照射开关及其方法技术方案

一种系统，包括：照射系统、光学元件、开关元件和检测器。照射系统包括生成辐射束的宽带光源。色散光学元件接收辐射束并且生成多个光束，该多个光束具有比宽带光源窄的带宽。光开关接收多个光束并且将多个光束中的每个光束发射到传感器阵列的多个对准传感器中的相应的一个对准传感器。检测器接收从传感器阵列返回的辐射，并且基于所接收的辐射生成测量信号。号。号。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻设备、量测系统、照射开关及其方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年6月23日提交的美国临时专利申请号63/042，753的优先权，该申请通过引用整体并入本文。


[0003]本公开涉及具有集成光学器件的量测系统，例如，具有集成光子器件的照射系统，该集成光子器件用在用于检查光刻工艺和晶片对准的量测系统中。

技术介绍

[0004]光刻设备是将所期望的图案施加到衬底上，通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，图案形成装置(备选地被称为掩模或中间掩模版)可以用于生成将在IC的单个层上形成的电路图案。可以将此图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或若干个管芯的一部分)上。图案的转移通常经由成像到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来辐照每个目标部分；以及所谓的扫描仪，其中通过在给定方向(“扫描”方向)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种系统，包括：照射系统，所述照射系统包括被配置为生成辐射束的宽带光源；色散光学元件，被配置为接收所述辐射束并且生成多个光束，所述多个光束具有比所述宽带光源窄的带宽；光开关，被配置为接收所述多个光束，并且将所述多个光束中的每个光束发射到传感器阵列的多个对准传感器中的相应的一个对准传感器；以及处理电路系统，被配置为接收从所述传感器阵列返回的辐射，并且基于所接收的所述辐射生成测量信号。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述多个光束中的每个光束对应于不同的波段。3.根据权利要求2所述的系统，其中所述处理电路系统还被配置为将对应于切换操作的信号传达给所述光开关，以将所述多个光束中的一个或多个光束重新路由到所述传感器阵列中的所述多个传感器中的一个不同传感器。4.根据权利要求2所述的系统，其中所述光开关还被配置为同时发射所述多个光束中的每个光束。5.根据权利要求2所述的系统，其中所述光开关的输出的数目对应于所述传感器阵列中的对准传感器的数目。6.根据权利要求1所述的系统，其中所述多个光束包括：第一光束和第二光束，所述第一光束具有第一波段，所述第二光束具有第二波段，并且所述第一波段和所述第二波段包括共享波长。7.根据权利要求1所述的系统，其中所述照射系统还被配置为在大约200nm
‑
2000nm之间的宽波长范围内工作，并且其中所述多个光束在所述宽波长范围内。8.根据权利要求1所述的系统，其中所述多个光束中的至少一个光束具有大约20nm宽或更小的波段。9.根据权利要求1所述的系统，其中所述多个光束中的至少一个光束具有大约1nm宽或更小的波段。10.根据权利要求1所述的系统，其中所述光开关元件是微机电系统(MEMS)光开关。11.根据权利要求1所述的系统，其中所述色散光学元件包括光学环形谐振器。12.根据权利要求1所述的系统，其中所述照射系统的至少一部分包括集成光子器件，所述集成光子器件至少包括所述光源、所述色散光学元件和所述光开关元件。13.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统具有小于大约2000mm2、1000mm2、500mm2、100mm...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：