一种石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能测试方法技术

本发明专利技术公开了一种石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能测试方法，包括以下步骤：S1、对网络分析仪中连接器和传输线之间产生的损耗进行校正补偿；S2、根据同轴线的尺寸，将待测薄膜样品通过激光切割雕刻机切割成样品；S3、制备的测试样品被放置在EMI屏蔽同轴线中，并且同轴线的两端连接到网络分析仪的双端口。本发明专利技术通过对石墨烯薄膜进行电磁干扰屏蔽效能测试，可获取石墨烯薄膜的电磁屏蔽能力，以及石墨烯薄膜具有高比表面积、高电导率、轻质的特点，可展现出高效的电磁干扰屏蔽效能。出高效的电磁干扰屏蔽效能。出高效的电磁干扰屏蔽效能。

【技术实现步骤摘要】
一种石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能测试方法


[0001]本专利技术涉及石墨烯薄膜性能测试
，具体为一种石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能测试方法。

技术介绍

[0002]众所周知，导电率高的材料，尤其是金属，具有优异的电磁屏蔽效能。然而，考虑到环境保护问题，一种理想的电磁屏蔽材料不仅具有高电导率，还需要同时具备质量轻、对电磁波的强吸收能力和较弱的二次反射的特性，对于电磁屏蔽材料而言，反射包括材料的表面反射和传播中的界面散射，都随着材料电导率的增加而增加，介电损耗包括驰豫损耗和传导损耗，分别受极化和电导率的影响，损耗因子低的材料，反射和吸收都有限，需要更大的厚度来提高屏蔽效能，为制备符合当前市场所需的石墨烯薄膜，可先对石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能进行测试，为此，我们提出一种实用性更高的石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能测试方法。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能测试方法，解决了现有的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能测试本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能测试方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、对网络分析仪中连接器和传输线之间产生的损耗进行校正补偿；S2、根据同轴线的尺寸，将待测薄膜样品通过激光切割雕刻机切割成样品；S3、制备的测试样品被放置在EMI屏蔽同轴线中，并且同轴线的两端连接到网络分析仪的双端口。2.根据权利要求1所述的一种石墨烯薄膜的电磁干扰屏蔽效能测试方法，其特征在于，具体包括以下步骤：电磁干扰屏蔽效能(EMI SE，单位：dB)为输入功率(P
I
)与透射功率(P
T
)的对数比
[112，129，130]
：电磁干扰屏蔽效率可以由电磁干扰屏蔽效能根据公式(2)得出：当电磁波到达薄膜试样的最外层的时候，会出现反射、吸收和透射3种不同的情况，三者对应的系数R、A、T相加之和为1，即：R+A+T＝1
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(3)根据测试结果，能够获得薄膜试样的散射系数，然后进一步计算得到...

【专利技术属性】
技术研发人员：王梓轩，王哲，何大平，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：