一种团簇离子束沉积基片架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种团簇离子束沉积基片架，包括支撑框，所述支撑框内壁滑动连接有第一支杆，所述第一支杆的底部活动连接有连接结构，所述连接结构的底部活动连接有第二支杆，所述第二支杆的两端与支撑框的内壁滑动连接，所述支撑框的底部固定连接有支撑块，所述第一支杆的内部开设有水平设置的第一活动槽，所述第一活动槽的内壁滑动连接有插杆。通过设置的插杆，可以沿着滑槽滑动把手，使得插杆沿着第一活动槽滑动，从而使得插杆抵触顶杆，让顶杆下压，顶杆穿过连接结构后顶住第二支杆的上表面，从而使得第一支杆、第二支杆都被固定住，以达到固定方便的效果，操作简单，提高更换基片架的效率。基片架的效率。基片架的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种团簇离子束沉积基片架


[0001]本技术属于工装夹具
，具体涉及一种团簇离子束沉积基片架。

技术介绍

[0002]团簇离子束技术广泛用于工件表面的掺杂、蚀刻、清洁、平滑以及薄膜沉积。团簇离子源通过电子轰击而离子化所产生的气体团簇是包括数个到数千个或更多的分子的聚集体，这些气体团簇的尺寸较大，通常为中性或者携带少量电荷，因此仅作用于极浅的表面区域，而不会产生较深的次表面损伤。
[0003]如中国专利公开的公开号为CN207451616U的一种团簇离子束沉积基片架，其涉及夹具
其通过每个支杆的中段均设有第一长槽孔，相交的两个支杆通过卡接件连接。能够确保相交的支杆相互垂直，而且只需固定位于上方的支杆的两端，操作简单，提高更换基片架的效率，但是其在使用过程中，由于还需要在支杆上安装螺钉进行固定，导致操作起来繁琐的问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种团簇离子束沉积基片架，以解决上述
技术介绍
中提出现有的一种团簇离子束沉积基片架在使用过程中，由于还需要在支杆上安装螺钉进行固定，导致操作起来繁琐的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种团簇离子束沉积基片架，包括支撑框，所述支撑框内壁滑动连接有第一支杆，所述第一支杆的底部活动连接有连接结构，所述连接结构的底部活动连接有第二支杆，所述第二支杆的两端与支撑框的内壁滑动连接，所述支撑框的底部固定连接有支撑块，所述第一支杆的内部开设有水平设置的第一活动槽，所述第一活动槽的内壁滑动连接有插杆，所述第一支杆的内部开设有竖直设置的第二活动槽，所述第二活动槽的上端与第一活动槽的内部相连通，所述第二活动槽的内部设置有顶杆，所述顶杆的外壁固定连接有挡环，所述挡环的外壁与第二活动槽的内壁滑动连接，所述挡环的底部固定连接有弹簧，所述弹簧的底部固定连接有套筒，所述套筒的外壁与第二活动槽底部的内壁固定连接。
[0006]具体的，使用时，将第一支杆、第二支杆、支撑框的顶部设有用于固定基片的卡扣或者弹片，连接结构的设置，使得第一支杆、第二支杆均可沿着其滑动，起到限位的作用，使得第一支杆、第二支杆之间在调整后始终保持着垂直的状态，从而使得结构更加地稳固可靠，且在固定时，可以沿着滑槽滑动把手，使得插杆沿着第一活动槽滑动，从而使得插杆抵触顶杆，让顶杆下压，顶杆穿过连接结构后顶住第二支杆的上表面，从而使得第一支杆、第二支杆都被固定住，以达到固定方便的效果，操作简单，提高更换基片架的效率。
[0007]优选的，所述支撑框的内壁且位于第一支杆的两端处开设有T形槽，所述支撑框的内壁且位于第二支杆的四周处也开设有相同的T形槽，所述第一支杆、第二支杆的两端均固定连接有T形块，所述T形块的外壁与T形槽的内壁滑动连接。
[0008]具体的，T形槽和T形块的设置，T形块可以沿着T形槽滑动，起到限位的作用。
[0009]优选的，所述T形块的外壁固定连接有多个滚轮，所述滚轮与T形槽的内壁活动连接。
[0010]具体的，滚轮的设置，使得T形块在T形槽的内部滑动时更加的轻松。
[0011]优选的，所述第一支杆的外壁开设有滑槽，所述滑槽与第一活动槽的内部相连通，所述插杆的一端固定连接有把手，所述把手的外壁与滑槽的内壁滑动连接。
[0012]具体的，把手的设置，方便使得者对插杆进行控制。
[0013]优选的，所述连接结构包含有固定板，所述固定板两侧的顶部固定连接有第一挡片，所述固定板底部的两端固定连接有第二挡片，所述第二挡片与第一挡片交错分布，所述固定板的中部开设有通孔。
[0014]具体的，连接结构起到对第二支杆和第一支杆限位的作用。
[0015]优选的，所述插杆靠近顶杆的一侧底边开设有第一斜槽，所述顶杆靠近插杆的一侧底边开设有第二斜槽。
[0016]具体的，第一斜槽和第二斜槽的设置，使得插杆与顶杆抵触时，有着较长的作用空间，也就推动顶杆是更加轻松。
[0017]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0018]1、通过设置的连接结构，使得第一支杆、第二支杆均可沿着其滑动，起到限位的作用，使得第一支杆、第二支杆之间在调整后始终保持着垂直的状态，从而使得结构更加地稳固可靠。
[0019]2、通过设置的插杆，可以沿着滑槽滑动把手，使得插杆沿着第一活动槽滑动，从而使得插杆抵触顶杆，让顶杆下压，顶杆穿过连接结构后顶住第二支杆的上表面，从而使得第一支杆、第二支杆都被固定住，以达到固定方便的效果，操作简单，提高更换基片架的效率。
附图说明
[0020]图1为本技术的立体结构示意图；
[0021]图2为本技术的剖视结构示意图；
[0022]图3为本技术的连接结构的立体结构示意图；
[0023]图4为本技术的图2中A处结构放大示意图；
[0024]图5为本技术的图2中B处结构放大示意图。
[0025]图中：1、支撑框；2、第一支杆；3、第二支杆；4、T形块；5、T形槽；6、连接结构；7、第一活动槽；8、插杆；9、第二活动槽；10、顶杆；11、挡环；12、弹簧；13、滚轮；14、滑槽；15、把手；16、第一斜槽；17、第二斜槽；18、套筒；19、固定板；20、第一挡片；21、第二挡片；22、通孔；23、支撑块。
具体实施方式
[0026]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0027]请参阅图1
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5，本技术提供一种技术方案：一种团簇离子束沉积基片架，包括支撑框1，支撑框1内壁滑动连接有第一支杆2，第一支杆2的底部活动连接有连接结构6，连接结构6的底部活动连接有第二支杆3，第二支杆3的两端与支撑框1的内壁滑动连接，支撑框1的底部固定连接有支撑块23，第一支杆2的内部开设有水平设置的第一活动槽7，第一活动槽7的内壁滑动连接有插杆8，第一支杆2的内部开设有竖直设置的第二活动槽9，第二活动槽9的上端与第一活动槽7的内部相连通，第二活动槽9的内部设置有顶杆10，顶杆10的外壁固定连接有挡环11，挡环11的外壁与第二活动槽9的内壁滑动连接，挡环11的底部固定连接有弹簧12，弹簧12的底部固定连接有套筒18，套筒18的外壁与第二活动槽9底部的内壁固定连接。
[0028]本实施方案中，使用时，将第一支杆2、第二支杆3、支撑框1的顶部设有用于固定基片的卡扣或者弹片，连接结构6的设置，使得第一支杆2、第二支杆3均可沿着其滑动，起到限位的作用，使得第一支杆2、第二支杆3之间在调整后始终保持着垂直的状态，从而使得结构更加地稳固可靠，且在固定时，可以沿着滑槽14滑动把手15，使得插杆8沿着第一活动槽7滑动，从而使得插杆8抵触顶杆本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种团簇离子束沉积基片架，包括支撑框(1)，其特征在于：所述支撑框(1)内壁滑动连接有第一支杆(2)，所述第一支杆(2)的底部活动连接有连接结构(6)，所述连接结构(6)的底部活动连接有第二支杆(3)，所述第二支杆(3)的两端与支撑框(1)的内壁滑动连接，所述支撑框(1)的底部固定连接有支撑块(23)，所述第一支杆(2)的内部开设有水平设置的第一活动槽(7)，所述第一活动槽(7)的内壁滑动连接有插杆(8)，所述第一支杆(2)的内部开设有竖直设置的第二活动槽(9)，所述第二活动槽(9)的上端与第一活动槽(7)的内部相连通，所述第二活动槽(9)的内部设置有顶杆(10)，所述顶杆(10)的外壁固定连接有挡环(11)，所述挡环(11)的外壁与第二活动槽(9)的内壁滑动连接，所述挡环(11)的底部固定连接有弹簧(12)，所述弹簧(12)的底部固定连接有套筒(18)，所述套筒(18)的外壁与第二活动槽(9)底部的内壁固定连接。2.根据权利要求1所述的一种团簇离子束沉积基片架，其特征在于：所述支撑框(1)的内壁且位于第一支杆(2)的两端处开设有T形槽(5)，所述支撑框(1)的内壁且位于第二支杆(3)的四周处也开设有相同的T形槽(5)...

【专利技术属性】
技术研发人员：付德春，田灿鑫，吐沙姑，
申请(专利权)人：宜昌后皇真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：