一种带有喷嘴的CVD反应器制造技术

本实用新型专利技术涉及一种带有喷嘴的CVD反应器，包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，炉体的顶部固定安装有传动箱；传动组件设置在传动箱的内部，公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部，自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端；传动组件用于带动CVD反应器进行旋转；公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。本实用新型专利技术的有益效果在于，在CVD反应设备技术领域中，通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中，再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气，同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，使得原料气更加均匀的喷入炉内，大大的增加设备的实用性，提高工作效率，有利于实际的应用与操作。有利于实际的应用与操作。有利于实际的应用与操作。

【技术实现步骤摘要】
一种带有喷嘴的CVD反应器


[0001]本技术涉及CVD反应设备
，尤其涉及一种带有喷嘴的CVD反应器。

技术介绍

[0002]经检索，中国专利公开了一种用于CVD反应器的喷嘴装置及CVD反应器(授权公告号CN215757598U)，该专利技术虽然能够通过喷嘴将原料气喷入炉内，喷嘴数量比较单一，无法充分均匀的将原料气喷入炉内，减少设备的实用性，降低工作效率，不利于实际的应用与操作。

技术实现思路

[0003]鉴于现有技术中存在的上述问题，本技术的主要目的在于提供一种带有喷嘴的CVD反应器。
[0004]本技术的技术方案是这样的：一种带有喷嘴的CVD反应器，包括炉体、CVD反应器、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，所述炉体的顶部固定安装有传动箱；
[0005]所述传动组件设置在传动箱的内部，所述公转喷嘴组件设置在CVD反应器外侧的底部，所述自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端；
[0006]所述传动组件用于带动CVD反应器进行旋转；所述公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。
[0007]作为一种优选的实施方式，所述传动组件包括电机、第一主齿轮和第一从齿轮，所述电机固定安装在传动箱的顶部，所述电机的输出轴延伸至传动箱的内部，所述第一主齿轮固定安装在电机的输出轴上，所述CVD反应器转动连接在传动箱的顶部，所述CVD反应器的贯穿传动箱且延伸至炉体的内部，所述第一从齿轮固定安装在CVD反应器的外侧且位于传动箱的内部，所述第一主齿轮与第一从齿轮啮合连接。
[0008]作为一种优选的实施方式，所述公转喷嘴组件包括四个连接管和四个第一喷嘴，所述连接管等距安装在CVD反应器外侧的底部，所述连接管均与CVD反应器的内部相通，所述第一喷嘴均固定连接在连接管远离CVD反应器的一端，所述第一喷嘴均与连接管相通。
[0009]作为一种优选的实施方式，所述自转喷嘴组件包括套筒、第二主齿轮、两个第二从齿轮、两个转管、通气孔、两个连通盒和八个第二喷嘴，所述套筒转动连接在炉体内壁的顶部且位于CVD反应器的外侧，所述第二主齿轮固定安装在套筒的外侧，所述转管均转动连接在连接管的内部，所述通气孔均等距开设在转管的外侧且位于连接管的内部，所述转管的两端均延伸至连接管的外侧，所述第二从齿轮均固定安装在转管的顶端，所述连通盒均固定安装在转管的底端，所述连通盒均与转管相通，所述第二喷嘴等距安装在连通盒的底部，所述第二喷嘴均与连通盒的内部相通，所述第一喷嘴与第二喷嘴均用于CVD反应器。
[0010]作为一种优选的实施方式，所述CVD反应器的顶部固定安装有旋转接头，所述炉体的底部固定安装有排气管，所述排气管与炉体的内部相通，所述排气管的外侧设置有阀门。
[0011]作为一种优选的实施方式，所述炉体底部的四角均固定安装有炉腿，所述CVD反应
器、电机均与外界的控制面板电性连接。
[0012]与现有技术相比，本技术的优点和积极效果在于：
[0013]在CVD反应设备
中，通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器中，再驱动传动组件带动CVD反应器进行旋转进行充分的混合原料气，同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，使得原料气更加均匀的喷入炉内，大大的增加设备的实用性，提高工作效率，有利于实际的应用与操作。
附图说明
[0014]图1为本技术提供一种带有喷嘴的CVD反应器的立体结构示意图；
[0015]图2为本技术提供一种带有喷嘴的CVD反应器的主视剖视图；
[0016]图3为本技术提供一种带有喷嘴的CVD反应器的图2中A处放大图；
[0017]图4为本技术提供一种带有喷嘴的CVD反应器的图2中B处放大图。
[0018]图例说明：1、炉体；2、传动箱；3、电机；4、第一主齿轮；5、第一从齿轮；6、CVD反应器；7、旋转接头；8、连接管；9、套筒；10、第二主齿轮；11、第二从齿轮；12、转管；13、第一喷嘴；14、通气孔；15、连通盒；16、第二喷嘴；17、炉腿；18、排气管；19、阀门。
具体实施方式
[0019]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0021]在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0022]下面将参照附图和具体实施例对本技术作进一步的说明
[0023]实施例1
[0024]如图1、图2、图3、图4所示，本技术提供一种技术方案：包括炉体1、CVD反应器6、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，炉体1的顶部固定安装有传动箱2；
[0025]传动组件设置在传动箱2的内部，公转喷嘴组件设置在CVD反应器6外侧的底部，自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端；
[0026]传动组件用于带动CVD反应器6进行旋转；公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。
[0027]在本实施例中，通过外界的设备将原料气输送到CVD反应器6中，再驱动传动组件带动CVD反应器6进行旋转进行充分的混合原料气，同时利用公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，使得原料气更加均匀的喷入炉内，大大的增加设备的实用性，提高工作效率，有利于实际的应用与操作。
[0028]实施例2
[0029]如图1、图2、图3、图4所示，传动组件包括电机3、第一主齿轮4和第一从齿轮5，电机3固定安装在传动箱2的顶部，电机3的输出轴延伸至传动箱2的内部，第一主齿轮4固定安装在电机3的输出轴上，CVD反应器6转动连接在传动箱2的顶部，CVD反本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带有喷嘴的CVD反应器，包括炉体(1)、CVD反应器(6)、传动组件、公转喷嘴组件和自转喷嘴组件，其特征在于：所述炉体(1)的顶部固定安装有传动箱(2)；所述传动组件设置在传动箱(2)的内部，所述公转喷嘴组件设置在CVD反应器(6)外侧的底部，所述自转喷嘴组件设置在公转喷嘴组件的两端；所述传动组件用于带动CVD反应器(6)进行旋转；所述公转喷嘴组件带动自转喷嘴组件进行旋转。2.根据权利要求1所述的一种带有喷嘴的CVD反应器，其特征在于：所述传动组件包括电机(3)、第一主齿轮(4)和第一从齿轮(5)，所述电机(3)固定安装在传动箱(2)的顶部，所述电机(3)的输出轴延伸至传动箱(2)的内部，所述第一主齿轮(4)固定安装在电机(3)的输出轴上，所述CVD反应器(6)转动连接在传动箱(2)的顶部，所述CVD反应器(6)的贯穿传动箱(2)且延伸至炉体(1)的内部，所述第一从齿轮(5)固定安装在CVD反应器(6)的外侧且位于传动箱(2)的内部，所述第一主齿轮(4)与第一从齿轮(5)啮合连接。3.根据权利要求2所述的一种带有喷嘴的CVD反应器，其特征在于：所述公转喷嘴组件包括四个连接管(8)和四个第一喷嘴(13)，所述连接管(8)等距安装在CVD反应器(6)外侧的底部，所述连接管(8)均与CVD反应器(6)的内部相通，所述第一喷嘴(13)均固定连接在连接管(8)远离CVD反应器(6)的一端，所述第一喷嘴(13)均与连接管(8)相通。4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖学明，
申请(专利权)人：苏州耀德半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：