一种CVD反应器的支撑支架制造技术

技术编号:36256276 阅读:43 留言:0更新日期:2023-01-07 09:51
本实用新型专利技术公开了一种CVD反应器的支撑支架,包括支撑板,所述支撑板底部的四周均活动连接有万向轮,所述支撑板的顶部活动安装有反应器主体,所述支撑板的表面固定连接有液压伸缩杆,所述液压伸缩杆的活动端贯穿支撑板,所述液压伸缩杆的底部固定连接有支撑架,所述支撑板内设置有散热风机,所述支撑板的顶部固定连接有固定板。本实用新型专利技术的有益效果为:本实用新型专利技术能够通过设置液压伸缩杆和支撑板的配合使用,液压伸缩杆带动支撑板向下移动,增加底部的支撑力度,从而抬高反应器主体的高度,且底部增加支撑力度,防止倾斜,方便使用,且同时固定板和活动板对反应器主体的两侧进行限位,方便反应器主体输送的时候减少晃动,增加限位。限位。限位。

【技术实现步骤摘要】
一种CVD反应器的支撑支架


[0001]本技术涉及CVD制备领域,具体涉及一种CVD反应器的支撑支架。

技术介绍

[0002]化学气相淀积指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用CVD方法制备。
[0003]支撑支架是CVD反应器用的支撑工具,现有的技术问题是:现有的支撑架高度无法进行调节,从而无法针对不同高度的操作台进行调节,且在输送的时候,容易出现晃动,从而需要人工扶持,缺少定位,不方便使用者使用。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题,本技术提供一种CVD反应器的支撑支架,包括支撑板,所述支撑板底部的四周均活动连接有万向轮,所述支撑板的顶部活动安装有反应器主体,所述支撑板的表面固定连接有液压伸缩杆,所述液压伸缩杆的活动端贯穿支撑板,所述液压伸缩杆的底部固定连接有支撑架,所述支撑板内设置有散热风机,所述支撑板的顶部固定连接有固定板,所述支撑板的顶部固定连接有活动板。
[0005]优选的:所述支撑板内开设有卡槽,所述卡槽内滑动连接有移动板,所述移动板的顶部与活动板的底部固定连接。
[0006]优选的:所述移动板的底部固定连接有弹簧,所述弹簧的底部与卡槽的内壁固定连接。
[0007]优选的:所述散热风机的表面固定连接有导向块,所述支撑板内开设有与导向块配合使用的导向槽。
[0008]优选的:所述导向块内贯穿有螺栓,所述导向槽的内壁开设有与螺栓配合使用的螺纹槽。
[0009]优选的:所述散热风机的顶部和底部均固定连接有防尘网。
[0010]本技术的技术效果和优点:
[0011]1、通过设置液压伸缩杆和支撑板的配合使用,液压伸缩杆带动支撑板向下移动,增加底部的支撑力度,从而抬高反应器主体的高度,且底部增加支撑力度,防止倾斜,方便使用,且同时固定板和活动板对反应器主体的两侧进行限位,方便反应器主体输送的时候减少晃动,增加限位,从而增加稳定性,散热风机增加了底部的散热效果,减少热量的堆积;
[0012]2、通过设置移动板、活动板和弹簧的配合使用,能够使使用者在放置反应器主体的时候,按动活动板进入卡槽中,从而带动移动板移动,移动板带动弹簧受力形变,带动活动板复位,从而通过固定板和活动板对反应器主体进行限位,两侧的液压伸缩杆同样增加限位功能,防止倾斜,且螺栓和导向块增加了对散热风机的固定效果,方便安装和拆卸。
附图说明
[0013]图1是本申请实施例提供的CVD反应器的支撑支架结构示意图;
[0014]图2是本申请实施例提供的CVD反应器的支撑支架中支撑板和活动板的结构示意图;
[0015]图3是本申请实施例提供的CVD反应器的支撑支架中局部主视剖视图;
[0016]图4是本申请实施例提供的CVD反应器的支撑支架中局部侧视剖视图;
[0017]图5是本申请实施例提供的CVD反应器的支撑支架中液压伸缩杆和支撑架的结构示意图。
[0018]图中:1、支撑板;2、万向轮;3、液压伸缩杆;4、反应器主体;5、支撑架;6、散热风机;7、固定板;8、活动板;9、卡槽;10、移动板;11、弹簧;12、导向块;13、导向槽;14、螺栓;15、螺纹槽;16、防尘网。
具体实施方式
[0019]下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。本技术的实施例是为了示例和描述起见而给出的,而并不是无遗漏的或者将本技术限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本技术的原理和实际应用,并且使本领域的普通技术人员能够理解本技术从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。
[0020]实施例1
[0021]请参阅图1~5,在本实施例中提供一种CVD反应器的支撑支架,包括支撑板1,支撑板1底部的四周均活动连接有万向轮2,支撑板1的顶部活动安装有反应器主体4,支撑板1的表面固定连接有液压伸缩杆3,液压伸缩杆3的活动端贯穿支撑板1,液压伸缩杆3的底部固定连接有支撑架5,支撑板1内设置有散热风机6,支撑板1的顶部固定连接有固定板7,支撑板1的顶部固定连接有活动板8,散热风机6的顶部和底部均固定连接有防尘网16。
[0022]通过设置液压伸缩杆3和支撑板1的配合使用,液压伸缩杆3带动支撑板1向下移动,增加底部的支撑力度,从而抬高反应器主体4的高度,且底部增加支撑力度,防止倾斜,方便使用,且同时固定板7和活动板8对反应器主体4的两侧进行限位,方便反应器主体4输送的时候减少晃动,增加限位,从而增加稳定性,散热风机6增加了底部的散热效果,减少热量的堆积。
[0023]实施例2
[0024]请参阅图2~4,在本实施例中,支撑板1内开设有卡槽9,卡槽9内滑动连接有移动板10,移动板10的顶部与活动板8的底部固定连接,移动板10的底部固定连接有弹簧11,弹簧11的底部与卡槽9的内壁固定连接,散热风机6的表面固定连接有导向块12,支撑板1内开设有与导向块12配合使用的导向槽13,导向块12内贯穿有螺栓14,导向槽13的内壁开设有与螺栓14配合使用的螺纹槽15。
[0025]通过设置移动板10、活动板8和弹簧11的配合使用,能够使使用者在放置反应器主体4的时候,按动活动板8进入卡槽9中,从而带动移动板10移动,移动板10带动弹簧11受力形变,带动活动板8复位,从而通过固定板7和活动板8对反应器主体4进行限位,两侧的液压伸缩杆3同样增加限位功能,防止倾斜,且螺栓14和导向块12增加了对散热风机6的固定效
果,方便安装和拆卸。
[0026]本技术的工作原理是:液压伸缩杆3带动支撑板1向下移动,增加底部的支撑力度,从而抬高反应器主体4的高度,且底部增加支撑力度,防止倾斜,方便使用,使用者在放置反应器主体4的时候,按动活动板8进入卡槽9中,从而带动移动板10移动,移动板10带动弹簧11受力形变,带动活动板8复位,从而通过固定板7和活动板8对反应器主体4进行限位,两侧的液压伸缩杆3同样增加限位功能。
[0027]显然,所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域及相关领域的普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都应属于本技术保护的范围。本技术中未具体描述和解释说明的结构、装置以及操作方法,如无特别说明和限定,均按照本领域的常规手段进行实施。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种CVD反应器的支撑支架,包括支撑板(1),其特征在于,所述支撑板(1)底部的四周均活动连接有万向轮(2),所述支撑板(1)的顶部活动安装有反应器主体(4),所述支撑板(1)的表面固定连接有液压伸缩杆(3),所述液压伸缩杆(3)的活动端贯穿支撑板(1),所述液压伸缩杆(3)的底部固定连接有支撑架(5),所述支撑板(1)内设置有散热风机(6),所述支撑板(1)的顶部固定连接有固定板(7),所述支撑板(1)的顶部固定连接有活动板(8)。2.根据权利要求1所述的一种CVD反应器的支撑支架,其特征在于,所述支撑板(1)内开设有卡槽(9),所述卡槽(9)内滑动连接有移动板(10),所述移动板(10)的顶部与活动板(8)的底部固定连接。3.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:赖学明
申请(专利权)人:苏州耀德半导体有限公司
类型:新型
国别省市:

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