一种SIC托盘的酸洗净装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种SIC托盘的酸洗净装置，包括清洗箱主体，所述清洗箱主体的顶面设置有箱盖，清洗箱主体的底面一侧设置有排液管，清洗箱主体的后端面设置有循环进液管，循环进液管与排液管之间设置有循环过滤系统，循环过滤系统包括循环泵；所述清洗箱主体内部面积大于SIC托盘的面积。本发明专利技术采用循环进液管与排液管之间设置循环过滤系统，通过循环泵将清洗箱主体内携带杂质的液体过滤后送回清洗箱主体内，通过设置稍大于SIC托盘的清洗箱主体，减少了清洗所用的空间，达到了节约药品及时间的效果，清洗效果好。清洗效果好。清洗效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种SIC托盘的酸洗净装置


[0001]本专利技术涉及半导体加工领域的碳化硅(SIC)治具酸洗
，具体涉及一种SIC托盘的酸洗净装置。

技术介绍

[0002]碳化硅(SIC)托盘的酸洗通常是在加热的条件下，用氢氟酸HF对SIC托盘进行处理，主要目的是为了去除SIC托盘上的金属铁、氧化铁、镁、铝等杂质。SIC托盘在酸洗时，存在以下技术缺陷：现有技术的清洗设备对HF消耗大，清洗时间长，清洗效果差。
[0003]因此，如何设计一种节省HF的SIC托盘酸洗净装置，成为急需解决的问题。

技术实现思路

[0004]针对现有技术存在的问题，本专利技术提供一种SIC托盘的酸洗净装置，以解决上述至少一种技术问题。
[0005]本专利技术的技术方案是：一种SIC托盘的酸洗净装置，包括清洗箱主体，所述清洗箱主体的顶面设置有箱盖，清洗箱主体的底面一侧设置有排液管，清洗箱主体的后端面设置有循环进液管，循环进液管与排液管之间设置有循环过滤系统，循环过滤系统包括循环泵。所述清洗箱主体内部面积大于SIC托盘的面积。r/>[0006]本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种SIC托盘的酸洗净装置，包括清洗箱主体(1)，其特征在于：所述清洗箱主体(1)的顶面设置有箱盖(2)，清洗箱主体(1)的底面一侧设置有排液管(7)，清洗箱主体(1)的后端面设置有循环进液管，循环进液管与排液管(7)之间设置有循环过滤系统，循环过滤系统包括循环泵。2.根据权利要求1所述的一种SIC托盘的酸洗净装置，其特征在于：所述清洗箱主体(1)内部面积大于SIC托盘的面积。3.根据权利要求1所述的一种SIC托盘的酸洗净装置，其特征在于：所述箱盖(2)的顶面分别设置有HF进液管(4)、纯水进液管(5)，HF进液管(4)通过第一电磁阀与HF进液管路连接，纯水进液管(5)通过第二电磁阀与纯水进液管路连接，清洗箱主体(1)内设置有光纤水位计，光纤水位计、第一电磁阀、第二电磁阀均接入PLC控制器。4.根据权利要求3所述的一种SIC托盘...

【专利技术属性】
技术研发人员：李传玉，
申请(专利权)人：上海中欣晶圆半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：