一种双板匀流器制造技术

本实用新型专利技术涉及硅片处理领域，具体涉及一种双板匀流器，包括匀流板、扩散板、固定组件和调节组件，所述匀流板和扩散板呈对称固定设置于固定组件的上端，所述调节组件转动设置于扩散板的端部用于调节气体的流速，本实用新型专利技术的一种双板匀流器，通过设计匀流板和扩散板，可以使气体在经过匀流板打散后，再次通过扩散板进一步的打散，使气体由射流状态变成散流均匀的气流，从而解决了高温扩散炉的炉温波动和气流无序扰动的问题，并且通过设计调节组件，在处理不同规格的硅片时，可以通过转动调节一级调节板和二级调节板，来改变扩散孔与第一透气孔和第二透气孔的同心度，使气体的通过量发生改变，以便于满足不同的需求。以便于满足不同的需求。以便于满足不同的需求。

【技术实现步骤摘要】
一种双板匀流器


[0001]本技术涉及硅片处理领域，具体涉及一种双板匀流器。

技术介绍

[0002]目前在硅片的加工处理过程中，常规的方法是将硅片放置在石英舟上，然后一同放至高温扩散炉中加工处理，并向高温扩散炉内加入高纯度的特殊气体，由于高纯气体从室温环境中以10L/分钟进入1260
°
的高温扩散炉内，容易产生气流扰动，造成炉内温度不稳定和气流不匀，并且现有的匀流器多为单板多孔式，使气体的打散程度不高，而且不可根据产品需求调节匀流器气体通过量，因此需要一种能够更好的打散气体并且可调节气体通过量的匀流器，基于以上背景，提出一种双板匀流器来解决现有的匀流器气体打散效果不明显并且不可调节气体通过量的问题。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种双板匀流器，其目的在于解决现有的匀流器气体打散效果不明显并且不可调节气体通过量的问题。
[0004]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]提供一种双板匀流器，包括匀流板、扩散板、底座组件和调节组件，所述匀流板和扩散板呈对称固定设置于底座组件的上端，所述调节组件转动设置于扩散板的端部用于调节气体的流速。
[0006]进一步的，所述底座组件包括连接杆、握把和两根固定杆，所述连接杆固定设置于两根固定杆的一端，且连接杆位于两根固定杆之间，所述握把固定设置于两根固定杆的另一端用于方便拿取双板匀流器。
[0007]进一步的，所述调节组件包括一级调节板、二级调节板和蝶形螺母，所述一级调节板的端面上呈环形阵列状开设有若干第一透气孔，且一级调节板的端面上还开设有环形转槽，所述二级调节板的端面上呈环形阵列状开设有若干第二透气孔，且二级调节板一端的中心部位固定设置有固定柱，且固定柱的中心中通，所述蝶形螺母通过螺纹转动设置于固定柱上用于固定二级调节板，所述二级调节板的端面外侧固定设置有环形凸台，所述环形凸台与环形转槽对应设置。
[0008]进一步的，所述匀流板的端面上呈环形阵列状开设有四个通气孔用于分散经过的气体，所述扩散板的端面上均匀开设有若干扩散孔，且若干扩散孔与若干第一透气孔和若干第二透气孔对应设置用于进一步分散气体使气体均匀进入，所述扩散板的中心部位开设有连接孔用于插接二级调节板，所述匀流板和扩散板之间通过三根支撑柱隔开。
[0009]本技术的有益效果：
[0010]1、本技术的一种双板匀流器，通过设计匀流板和扩散板，可以使气体在经过匀流板打散后，再次通过扩散板进一步的打散，使气体由射流状态变成散流均匀的气流，从而解决了高温扩散炉的炉温波动和气流无序扰动的问题。
[0011]2、通过设计调节组件，在处理不同规格的硅片时，可以通过转动调节一级调节板和二级调节板，来改变扩散孔与第一透气孔和第二透气孔的同心度，使气体的通过量发生改变，以便于满足不同的需求。
附图说明
[0012]为了更清楚地说明本技术实施方案或现有技术中的技术方案，下面将对实施方案或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施方案，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0013]图1为本技术的整体结构示意图；
[0014]图2为本技术匀流板的整体结构示意图；
[0015]图3为本技术扩散板的整体结构示意图；
[0016]图4为本技术底座组件的整体结构示意图；
[0017]图5为本技术调节组件的拆分示意图；
[0018]图6为本技术调节组件中二级调节板的局部结构示意图。
[0019]图中：
[0020]1、匀流板；11、通气孔；
[0021]2、扩散板；21、扩散孔；22、连接孔；
[0022]3、底座组件；31、连接杆；32、握把；33、固定杆；
[0023]4、调节组件；41、一级调节板；411、第一透气孔；412、环形转槽；42、二级调节板；421、第二透气孔；422、固定柱；423、环形凸台；43、蝶形螺母。
具体实施方式
[0024]为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本技术。
[0025]参照图1所示，一种双板匀流器，包括匀流板1、扩散板2、底座组件3和调节组件4，所述匀流板1和扩散板2呈对称固定设置于底座组件3的上端，所述调节组件4转动设置于扩散板2的端部用于调节气体的流速。
[0026]参照图2、图3所示，所述匀流板1的端面上呈环形阵列状开设有四个通气孔11用于分散经过的气体，所述扩散板2的端面上均匀开设有若干扩散孔21，且若干扩散孔21与若干第一透气孔411和若干第二透气孔421对应设置用于进一步分散气体使气体均匀进入，所述扩散板2的中心部位开设有连接孔22用于插接二级调节板42，所述匀流板1和扩散板2之间通过三根支撑柱隔开，当气体经过匀流板1时，气体会从匀流板1上的四个通气孔11进入到匀流板1和扩散板2之间，从而将喷射流入的气体分散，当气体进一步向前到达扩散板2后，气体会从扩散板2上的若干扩散孔21流入的炉腔内，并进一步分散气体使气体保持均匀。
[0027]参照图4所示，所述底座组件3包括连接杆31、握把32和两根固定杆33，所述连接杆31固定设置于两根固定杆33的一端，且连接杆31位于两根固定杆33之间，所述握把32固定设置于两根固定杆33的另一端用于方便拿取双板匀流器，将两根固定杆33对应设置，并将连接杆31固定设置在两根固定杆33一端且位于两根固定杆33之间，可以防止两根固定杆33
晃动，两根固定杆33另一端的握把32，在起到固定的同时方便工作人员拿取双板匀流器。
[0028]参照图5、图6所示，所述调节组件4包括一级调节板41、二级调节板42和蝶形螺母43，所述一级调节板41的端面上呈环形阵列状开设有若干第一透气孔411，且一级调节板41的端面上还开设有环形转槽412，所述二级调节板42的端面上呈环形阵列状开设有若干第二透气孔421，且二级调节板42一端的中心部位固定设置有固定柱422，且固定柱422的中心中通，所述蝶形螺母43通过螺纹转动设置于固定柱422上用于固定二级调节板42，所述二级调节板42的端面外侧固定设置有环形凸台423，所述环形凸台423与环形转槽412对应设置，将一级调节板41设有环形转槽412的一端朝上，另一端贴合扩散板2，再将固定柱422插接在连接孔22中，然后调整一级调节板41的位置，使环形凸台423置于环形转槽412中，然后通过蝶形螺母43将二级调节板42固定，因为一级调节板41和二级调节板42通过环形凸台423和环形转槽412相连接，所以一级调节板41也固定住，并且一级调节板41和二级调节板42可以贴合扩散板2转动调节，使第一透气孔411和第二透气孔421的位置发生变化，从而使扩散孔21与第一透气孔411和第二透气孔421的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双板匀流器，其特征在于，包括匀流板(1)、扩散板(2)、底座组件(3)和调节组件(4)，所述匀流板(1)和扩散板(2)呈对称固定设置于底座组件(3)的上端，所述调节组件(4)转动设置于扩散板(2)的端部用于调节气体的流速。2.根据权利要求1所述的一种双板匀流器，其特征在于，所述底座组件(3)包括连接杆(31)、握把(32)和两根固定杆(33)，所述连接杆(31)固定设置于两根固定杆(33)的一端，且连接杆(31)位于两根固定杆(33)之间，所述握把(32)固定设置于两根固定杆(33)的另一端用于方便拿取双板匀流器。3.根据权利要求2所述的一种双板匀流器，其特征在于，所述调节组件(4)包括一级调节板(41)、二级调节板(42)和蝶形螺母(43)，所述一级调节板(41)的端面上呈环形阵列状开设有若干第一透气孔(411)，且一级调节板(41)的端面上还开设有环形转槽(412)，所述二级...

【专利技术属性】
技术研发人员：林陆毅，王永，
申请(专利权)人：常州银河电器有限公司，
类型：新型
国别省市：