【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种,特别是指一种利用一标记 有二不相平行的直线的校正元件来使一扫描坐标系与一感应坐标系间的一 正交角度差归零的坐标校正方法。
技术介绍
随着时势的发展与演进,许多产品在加工尺寸精准度方面的要求,亦随 之日趋严谨,特别是对于光电类或微机电类元件而言,其精准度往往必须达 到纳米等级的要求。然而,在光电类或微机电类元件的整个加工过程中,往 往不可避免地必须将待加工的工件输送至特定的加工位置来进行加工作业, 甚至还可能会在工件尚处于运动状态时,就进行特定的加工作业。在此状况 下,从微观的角度来看,即便这些运动非常微小,也势必会对加工品质造成 重大的影响。在此前提之下,往往必须借助于更精密的光学设备(或仪器)在每个重 要的生产工艺中对工件进行检测与检査工作,才能进一步确保加工品质,提 供工件的加工合格率。为了使这些光学设备在进行检测时能够得到更精确的 检测效果,则必须先对这些光学设备进行精确的自我校正。为了进一步阐述 相关的校正技术,下面将列举一公知实施例来详述光学设备的坐标自我校正 技术。请参阅图1至图3,图1是显示公知光学设备的局部立体外观示意图, 图 ...
【技术保护点】
一种光学设备的坐标校正方法,是用以校正与调整该光学仪器的一感应坐标系与一扫描坐标系间的一正交角度差,以使该正交角度差归零,该方法包含:(a)制备一校正元件,其一表面上标记有二不相平行的校正直线;(b)利用该感应坐标系感应上述二校正直线以分别计算出二初始直线方程式;(c)使该校正元件沿该扫描坐标系的一扫描方向而对该感应坐标系相对移动,以使上述二校正直线亦同时沿该扫描方向而对该感应坐标系相对移动;(d)在完成步骤(c)后,利用该感应坐标系感应上述二校正直线以分别计算出二校正直线方程式;以及(e)利用该校正直线方程式与该初始直线方程式来计算出该感应坐标系与该扫描坐标系间的该正交角 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:林耀明,
申请(专利权)人:中茂电子深圳有限公司,
类型:发明
国别省市:94[中国|深圳]
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