用于处理基板的装置及用于检测基板状态的方法制造方法及图纸

本发明专利技术构思提供一种基板处理装置。基板处理装置包括多个处理室，该多个处理室对其中的基板进行相应的处理；传送室，其具有在多个处理室之间传送基板的机械手；检测单元，其安装在机械手上并被配置用于检测基板状态；和控制器，其用于控制检测单元，其中检测单元包括：成像构件，其用于对基板进行成像；和驱动构件，其用于移动成像构件，并且其中控制器控制检测单元以在最佳位置处对基板进行成像并存储基板的图像，并基于在最佳位置处获得的图像确定基板的图像是否处于正常状态，最佳位置基于处理室的过程变量确定。室的过程变量确定。室的过程变量确定。

【技术实现步骤摘要】
用于处理基板的装置及用于检测基板状态的方法


[0001]本文描述的本专利技术构思的实施方式涉及一种基板处理装置以及使用该装置的基板状态检测方法，所述基板处理装置包括安装在用于传送基板的机械手上并检测基板的状态的检测单元。

技术介绍

[0002]在半导体制造工艺中，光刻工艺是通过将光刻胶溶液涂布到基板上并使用光掩模进行曝光和随后的显影来形成期望的光刻胶图案的工艺。光刻工艺包括光刻胶溶液涂布工艺、以及曝光工艺和显影工艺。此外，基板传送装置将基板传送到处理每个工艺的处理单元(或处理室)。
[0003]基板传送装置将基板传送到每个处理单元，然后将基板安装在放置在每个处理单元中的基板支撑单元上，或者从基板支撑单元提起已经在每个处理单元中处理过的基板。当将基板安装在基板支撑单元上或从基板支撑单元提起基板时，基板可能会破裂或偏离正确位置。为了检测基板的这种状态(例如基板的位置或姿势)，基板传送装置设置有用于对基板的状态进行成像的诸如照相机的成像构件。然而，由于成像构件以固定状态设置到基板传送装置上，所以基板处理装置的一些部件可能会阻挡基板暴露于成像构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，包括：多个处理室，所述多个处理室对其中的基板进行相应的处理；传送室，所述传送室具有在所述多个处理室之间传送所述基板的机械手；检测单元，所述检测单元安装在所述机械手上并被配置用于检测基板状态；和控制器，所述控制器被配置用于控制所述检测单元，其中所述检测单元包括：成像构件，所述成像构件被配置成对所述基板进行成像；和驱动构件，所述驱动构件被配置成移动所述成像构件，并且其中，所述控制器控制所述检测单元以在最佳位置处对所述基板进行成像并存储所述基板的图像，并基于在所述最佳位置处获得的所述图像确定所述基板的图像是否处于正常状态，所述最佳位置基于所述处理室的过程变量确定。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述检测单元还包括警报单元，所述警报单元被配置为当所述控制器确定所述基板的对准不处于正常状态时产生警报。3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中当确定所述基板的对准不在所述正常状态时，所述控制器控制所述检测单元在围绕所述最佳位置的外围移动的同时对所述基板进行成像。4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述过程变量包括所述机械手在所述传送室内的位置。5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述过程变量包括设置在所述处理室内的基板支撑单元的类型。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中所述控制器进行控制，使得在所述基板被所述机械手安装在所述基板支撑单元上之前，所述驱动构件完成移动。7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中所述控制器进行控制，使得在所述基板被所述机械手从所述基板支撑单元提起之前，所述驱动构件完成移动。8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述控制器控制所述驱动构件，使得在所述机械手移动的同时将所述成像构件移动至所述最佳位置。9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述成像构件设置成对所述基板的顶面或底面进行成像。10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述最佳位置是基于所述基板的、对所述成像构件而言的图像可...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔泰景，宣珍成，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：