一种性能优异的金属蚀刻液及其制备方法技术

本发明专利技术属于C23F技术领域，更具体的涉及一种性能优异的金属蚀刻液及其制备方法。一种性能优异的金属蚀刻液组合物，制备原料包括氧化剂和含羟基聚合物；所述的含羟基聚合物的数均分子量为200

【技术实现步骤摘要】
一种性能优异的金属蚀刻液及其制备方法


[0001]本专利技术属于C23F
，更具体的涉及一种性能优异的金属蚀刻液及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着科技的发展技术的进步，液晶显示屏面板的制造领域的竞争也日趋激烈，为了生产高清晰度和高刷新率的中小尺寸的产品，有些研究者或者企业使用高世代线进行生产，但是此方法对金属导线的选择和蚀刻有了更高的要求。
[0003]但是传统的蚀刻常常以铜作为基本材质，并以钼、钼铌、钼钛镍作为界面层，为了满足制备得到高清晰度和高刷新率的中小尺寸的产品常常要求线宽损失小于0.5μm，锥角在50
°
左右，但是现阶段的药液很难达到上述要求。如专利公开号为CN113106454A的中国专利技术专利公开了一种蚀刻液和铜/钼金属线的蚀刻方法，在公开的专利中通过过氧化氢、有机酸、稳定剂、抑制剂、酸碱调节剂和无机盐的方案，制备得到一种蚀刻速率适中，稳定性号的蚀刻液，但是公开专利中的线宽损失为0.7μm以上，不符合现阶段高清晰度和高刷新率的中小尺寸的产品否认要求。
[0004]为了保证线宽损失小本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种性能优异的金属蚀刻液组合物，其特征在于，制备原料包括氧化剂和含羟基聚合物；所述的含羟基聚合物的数均分子量为200
‑
10000。2.根据权利要求1所述的性能优异的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述的氧化剂为过氧化氢。3.根据权利要求1所述的性能优异的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述的含羟基聚合物选自聚乙烯醇、聚乙二醇、聚丙二醇中的至少一种。4.根据权利要求1～3任一项所述的性能优异的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述的含羟基聚合物为聚乙烯醇和/或聚乙二醇。5.根据权利要求1所述的性能优异的金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述的含羟基聚合物的数均分子量为200
‑
10000；优选的，所述的含羟基聚合物的数均分子量为300
‑
5000。6.根据权利要求1所述的性能优异的金属蚀刻液组合物，其特征在于，制备原料还包括：分解抑制剂、pH稳定剂、缓蚀剂、...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐帅，张红伟，李闯，胡天齐，钱铁民，马强，刘长乐，刘金兵，
申请(专利权)人：四川和晟达电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：