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本发明属于C23F技术领域，更具体的涉及一种性能优异的金属蚀刻液及其制备方法。一种性能优异的金属蚀刻液组合物，制备原料包括氧化剂和含羟基聚合物；所述的含羟基聚合物的数均分子量为200
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该专利属于四川和晟达电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川和晟达电子科技有限公司授权不得商用。

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