一种双氧水系金属蚀刻液组合物及其使用方法技术

本发明专利技术属于C23F技术领域，更具体的涉及一种双氧水系金属蚀刻液组合物及其使用方法。一种双氧水系金属蚀刻液组合物，制备原料按重量百分比计，包括：氧化剂5

【技术实现步骤摘要】
一种双氧水系金属蚀刻液组合物及其使用方法


[0001]本专利技术属于C23F
，更具体的涉及一种双氧水系金属蚀刻液组合物及其使用方法。

技术介绍

[0002]随着科技的发展，现阶段液晶显示装置中对具有超高刷新率和超高清显示功能的面板对薄膜晶体管液晶显示器器件的设计和生产工艺中的线宽损失提出了更高的要求，现价段存在的铝制程和铜制程无法兼具超高清和超高刷新率的实际需求。
[0003]如现有技术中公开的申请号为202011552376.5的中国专利技术专利公开了一种铜蚀刻液组合物及其制备方法和应用，在公开的专利中，通过铜蚀刻液主剂和辅剂的作用，在铜离子浓度为0
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7000ppm范围内，单边线宽损失为071
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1.0μm，无法满足超高精细产品的需求。
[0004]在蚀刻过程中为了解决出现倒角，蚀刻液中可能会加入氢氟酸，对非晶硅或者玻璃会造成一定的损伤，导致产品出现显示器亮度不均匀，造成各种痕迹等问题。另外，现阶段中存在的金属蚀刻液组合物体系常常会存在倒角或者铜离子负载能力低的现象，造成对蚀刻工作本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双氧水系金属蚀刻液组合物，其特征在于，制备原料按重量百分比计，包括：氧化剂5
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30％、酸类物质1
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15％、有机碱1
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15％、稳定剂0.01
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1％、缓蚀剂0.01
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4％、溶剂补充余量至100％。2.根据权利要求1所述的双氧水系金属蚀刻液组合物，其特征在于，制备原料按重量百分比计，包括：氧化剂6
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15％、酸类物质2
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8％、有机碱2
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8％、稳定剂0.05
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0.5％、缓蚀剂0.01
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2％、溶剂补充余量至100％。3.根据权利要求1所述的双氧水系金属蚀刻液组合物，其特征在于，所述的有机碱选自四甲基氢氧化铵、氨水、甲胺、乙二胺、二甲基乙醇胺、二乙氨基丙胺、丙二胺、三乙醇胺、二乙醇胺、异丙醇胺、二甲基乙二胺、三羟甲基氨基甲烷中的至少一种。4.根据权利要求1所述的双氧水系金...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐帅，张红伟，李闯，胡天齐，钱铁民，马强，刘长乐，刘金兵，
申请(专利权)人：四川和晟达电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：