一种反应釜加工用抛光设备制造技术

技术编号:35715474 阅读:14 留言:0更新日期:2022-11-23 15:26
本实用新型专利技术公开了一种反应釜加工用抛光设备,包括固定架,所述固定架的中部位置设置有以转动方式调节抛光宽度的调节机构,所述抛光宽度调节机构的外侧设置有与固定架转动连接的转动机构,所述转动机构的底部连接有抛光机构,所述抛光机构包括有两块旋转对称设置的调节板,所述调节板的外侧端部均固定有第二电机,所述第二电机的动力端均连接有抛光轮;本实用通过设置的以转动方式调节抛光宽度的调节机构,能够在日常使用时,通过转动调节机构的方式,调节底部的抛光机构的抛光宽度,以满足日常使用时,对形状不为圆柱的反应釜进行清理的操作,整体具备一定的调节效果,与现有的结构相比,适用范围更广。适用范围更广。适用范围更广。

【技术实现步骤摘要】
一种反应釜加工用抛光设备


[0001]本技术涉及抛光设备领域,具体为一种反应釜加工用抛光设备。

技术介绍

[0002]现有的反应釜抛光设备一般是通过转动机构配合设置在转动机构端部的抛光轮进行抛光,此种结构不能够调节清理的宽度,在日常使用时,无法满足规格不一致的反应釜,即在反应釜的上部、中部以及下部的半径不同时,其结构无法对不同的半径进行清理,因此需要设计一种反应釜加工用抛光设备。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种反应釜加工用抛光设备,以解决现有的抛光设备无法调节抛光宽度的问题。
[0004]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种反应釜加工用抛光设备,包括固定架,所述固定架的中部位置设置有以转动方式调节抛光宽度的调节机构,所述抛光宽度调节机构的外侧设置有与固定架转动连接的转动机构,所述转动机构的底部连接有抛光机构。
[0005]优选的,所述抛光机构包括有两块旋转对称设置的调节板,所述调节板的外侧端部均固定有第二电机,所述第二电机的动力端均连接有抛光轮。
[0006]优选的,所述调节机构包括有设置在中部的主轴,所述主轴为齿杆,所述主轴的下端转动连接有限位套,所述限位套的内部设置有两个贯穿的槽口,所述调节板分别从两侧贯穿限位套,所述调节板与主轴接触的一侧设置有与主轴相啮合的内齿,所述主轴的上端设置有手轮。
[0007]优选的,所述限位套呈矩形,所述限位套的四个边角处均固定有拉杆,所述固定架的中心位置设置有轴承,所述轴承的内环内侧一体成型有限位耳板,所述拉杆贯穿限位耳板的中部位置,所述拉杆的外侧螺纹连接有螺母,所述螺母设置于限位耳板的上方。
[0008]优选的,所述拉杆的上端连接有圆形的连接板,所述连接板的上表面设置有第一电机。
[0009]与现有技术相比,本技术的有益效果是:
[0010]通过设置的以转动方式调节抛光宽度的调节机构,能够在日常使用时,通过转动调节机构的方式,调节底部的抛光机构的抛光宽度,以满足日常使用时,对形状不为圆柱的反应釜进行清理的操作,整体具备一定的调节效果,与现有的结构相比,适用范围更广。
附图说明
[0011]图1为本技术的正视图;
[0012]图2为本技术抛光机构的剖视图;
[0013]图3为图2中A处的放大结构示意图;
[0014]图4为本技术轴承的结构示意图。
[0015]图中:10、固定架;11、主轴;111、限位套;112、手轮;12、拉杆;121、第一电机;13、调节板;131、第二电机;132、抛光轮;133、内齿;14、轴承;141、限位耳板;142、螺母。
具体实施方式
[0016]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0017]请参阅图1

4,一种反应釜加工用抛光设备,包括固定架10,固定架10的中部位置设置有以转动方式调节抛光宽度的调节机构,抛光宽度调节机构的外侧设置有与固定架10转动连接的转动机构,转动机构的底部连接有抛光机构;
[0018]通过以转动方式调节抛光宽度的调节机构,来对抛光机构的抛光范围进行调节,能够满足日常使用的反应釜清理需求。
[0019]其中,抛光机构包括有两块旋转对称设置的调节板13,调节板13的外侧端部均固定有第二电机131,第二电机131的动力端均连接有抛光轮132,通过调节板13进行清理宽度的调节,第二电机131的转动带动抛光轮132进行转动,形成抛光效果,配合转动机构,形成水平的抛光效果。
[0020]其中,调节机构包括有设置在中部的主轴11,主轴11为齿杆,主轴11的下端转动连接有限位套111,限位套111的内部设置有两个贯穿的槽口,调节板13分别从两侧贯穿限位套111,调节板13与主轴11接触的一侧设置有与主轴11相啮合的内齿133,主轴11的上端设置有手轮112,转动主轴11时,其下侧的内齿133会跟随转动产生直线移动,由于两侧呈旋转对称设置,因此两侧的两个调节板13会形成反向运动,即形成同时向内部移动或者同时向外部扩散的情况,以此来达到进行宽度调节的功能。
[0021]其中,限位套111呈矩形,限位套111的四个边角处均固定有拉杆12,固定架10的中心位置设置有轴承14,轴承14的内环内侧一体成型有限位耳板141,拉杆12贯穿限位耳板141的中部位置,拉杆12的外侧螺纹连接有螺母142,螺母142设置于限位耳板141的上方,在顶部调节时,可以向上拉动拉杆12,从而调节清理高度,需要固定位置时,拧紧螺母142,使得螺母142紧贴限位耳板141从而达成固定,使得调节后的高度稳定。
[0022]其中,拉杆12的上端连接有圆形的连接板,连接板的上表面设置有第一电机121,第一电机121在使用时需要单独固定,一般是通过在第一电机121的尾部加装气缸之类可伸缩的结构进行固定,以保证第一电机121能够跟随拉杆12调节高度以及保证第一电机121能够在稳定的状态下进行转动,气缸需要单独固定。
[0023]工作原理:在进行使用时,直接将固定架10放置在需要抛光的反应釜顶部,将抛光机构完全放置在反应釜内部,控制拉杆12的高度,并将螺母142拧紧,使得螺母142与拉杆12的外部固定,而螺母142受到重力的作用下移,以达到对拉杆12的位置限制,然后转动手轮112,使得内齿133向外或者向内移动,进而达到控制调节板13与对应位置的内壁贴合,贴合后,控制第一电机121与第二电机131转动,第二电机131的转动能够实现抛光轮132对单点的位置进行打磨,而第一电机121的转动,能够控制拉杆12转动,进而能够实现底部的限位
套111转动,从而能够带动抛光轮132对环形面进行打磨,结构简单,打磨效果优秀。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反应釜加工用抛光设备,包括固定架(10),其特征在于:所述固定架(10)的中部位置设置有以转动方式调节抛光宽度的调节机构,所述抛光宽度调节机构的外侧设置有与固定架(10)转动连接的转动机构,所述转动机构的底部连接有抛光机构,所述抛光机构包括有两块旋转对称设置的调节板(13),所述调节板(13)的外侧端部均固定有第二电机(131),所述第二电机(131)的动力端均连接有抛光轮(132),所述调节机构包括有设置在中部的主轴(11),所述主轴(11)为齿杆,所述主轴(11)的下端转动连接有限位套(111),所述限位套(111)的内部设置有两个贯穿的槽口,所述调节板(13)分别从两侧贯穿限位套(111),所述调节板(13)与主轴(11)接触的...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩钢
申请(专利权)人:山东金盛通用设备有限公司
类型:新型
国别省市:

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