本发明专利技术公开了一种废光刻胶再生装置，包括控制系统和装置主体，所述装置主体包括混合罐、与混合罐通过管道连接的废胶罐溶剂罐和溶剂罐，以及与所述混合罐通过管道连接且沿光刻胶流动方向依次设置的过滤组件和新胶罐。废胶液和溶剂在混合罐中实现混合，以达到使用所需的胶液浓度标准，混合后经过过滤组件进行过滤即得再生胶液，再生胶液通过新胶罐进行存储。其中，第一计量泵和第二计量泵分别用于计量通入混合罐中的废胶液和溶剂的体积，第一粘度计和第二粘度计分别用于计量废胶罐和混合中胶液的粘度，以保证混合后的胶液达到标准浓度。通过本装置实现废光刻胶的再生利用，提升光刻胶的利用率，降低生产成本。降低生产成本。降低生产成本。
【技术实现步骤摘要】
一种废光刻胶再生装置及其再生方法
[0001]本专利技术涉及掩膜版制造
，更具体地说，涉及一种废光刻胶再生装置及其再生方法。
技术介绍
[0002]光刻掩膜版(Photomask)也称光罩或MASK，是一种用于微电子制造过程中的图形转移工具或模版。通过曝光、显影以及蚀刻等工序，在玻璃铬版上制作需要的微观图形，主要应用于微电子平版印刷。制作掩膜版所使用的原材料为铬版，其是一种硬面掩膜版材料，即掩膜版基版，它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射沉积上铬
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氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)制成铬版原料。
[0003]近年来，随着对半导体产业的投入加大，光刻掩膜版是整个半导体产业较关键的一个环节，随着半导体产业的大力发展，光刻掩膜版的需求也随之爆发式的增长，这样就对光刻胶用量大大增加。
[0004]在整个光刻掩膜版的涂胶阶段存在多个环节会出现废的光刻胶，例如在每次更换新光刻胶时都需要对光刻胶的管路进行排气处理，在这个阶段会有大量的光刻胶排到废胶收集瓶中，还有每次在涂胶生产喷胶前系统自动进行空喷2S，空喷的光刻胶一样也会流到废胶收集瓶中，再者就是在每张产品生产中涂的光刻胶只有10％左右的覆盖在产品上，90％的光刻胶都会被甩掉流入到废胶收集瓶中，废光刻胶在废胶收集瓶中由于溶剂的挥发导致废胶的粘度增加，同时还存在一定量的颗粒杂质，而无法重复使用，进而造成光刻胶的浪费。
技术实现思路
[0005]本专利技术的目的在于提供一种废光刻胶再生装置及其再生方法，对于废光刻胶的再生利用，降低生产成本，用以解决上述
技术介绍
中存在的技术问题。
[0006]本专利技术技术方案提供一种废光刻胶再生装置，包括控制系统和装置主体，所述装置主体包括混合罐、与混合罐通过管道连接的废胶罐溶剂罐和溶剂罐，以及与所述混合罐通过管道连接且沿光刻胶流动方向依次设置的过滤组件和新胶罐；
[0007]所述溶剂罐与所述混合罐的连接管道上设置有第一计量泵，所述废胶罐与所述混合罐的连接管道上设置有第二计量泵，且所述废胶罐内设置有第一粘度计，所述混合罐内设置有第二粘度计。
[0008]在一个优选地实施例中，所述混合罐为密封罐，所述混合罐内设置有搅拌器，所述混合罐上设置有排气管和取样管，所述排气管上设置有排气阀，所述取样管上设置有取样阀。
[0009]在一个优选地实施例中，所述过滤组件包括依次设置的一级过滤器和二级过滤器，所述混合罐与所述一级过滤器连接的管路上设置有出液泵。
[0010]在一个优选地实施例中，所述管道为特氟龙管道。
[0011]在一个优选地实施例中，所述控制系统包括键盘、显示器和处理器。
[0012]一种废光刻胶的再生方法，包括如下步骤：
[0013]S1：向溶剂罐中注入新的溶剂，将废胶罐收集在废光刻胶，并通过粘度计策奖废胶罐中的胶体粘度为C1；
[0014]S2：将废胶罐中的废光刻胶由进液阀泵入混合罐中，并通过第一计量泵来进行计量为V1；将溶剂罐中的溶剂由进液阀泵入混合罐中，并通过第一计量泵来进行计量为V2；
[0015]S3：使用的光刻胶粘度为一个确定的值C3，混合罐中的废胶和溶剂经过搅拌器搅拌充分混合后的粘度为C2，当C2＝C3时，通过公式：C1*V1＝C3(V1+V2)计算出所要添加的溶剂的体积V2，并按照计算体积V2添加溶剂；
[0016]S4：将S3得到的光刻胶通过出液泵泵入一级过滤器过滤，过滤后再通入二级过滤器进行二次过滤，最终得到再生的光刻胶，并通过新胶罐存储。
[0017]本专利技术技术方案的有益效果是：
[0018]废胶液和溶剂在混合罐中实现混合，以达到使用所需的胶液浓度标准，混合后经过过滤组件进行过滤即得再生胶液，再生胶液通过新胶罐进行存储。其中，第一计量泵和第二计量泵分别用于计量通入混合罐中的废胶液和溶剂的体积，第一粘度计和第二粘度计分别用于计量废胶罐和混合中胶液的粘度，以保证混合后的胶液达到标准浓度。通过本装置实现废光刻胶的再生利用，提升光刻胶的利用率，降低生产成本。
附图说明
[0019]图1为本专利技术整体流程图。
[0020]附图标记说明：1混合罐、2废胶罐、3溶剂罐、4第一计量泵、5第二计量泵、6第一粘度计、7第二粘度计、8搅拌器、9排气管、10取样管、11一级过滤器、12二级过滤器、13出液泵、14新胶罐。
具体实施方式
[0021]下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。本专利技术的实施例是为了示例和描述方便起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本专利技术限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本专利技术的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本专利技术从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。
[0022]如图1所示，本专利技术技术方案提供一种废光刻胶再生装置，包括控制系统和装置主体，所述装置主体包括混合罐、与混合罐通过管道连接的废胶罐溶剂罐和溶剂罐，以及与所述混合罐通过管道连接且沿光刻胶流动方向依次设置的过滤组件和新胶罐。废胶液和溶剂在混合罐中实现混合，以达到使用所需的胶液浓度标准，混合后经过过滤组件进行过滤即得再生胶液，再生胶液通过新胶罐进行存储。
[0023]所述溶剂罐与所述混合罐的连接管道上设置有第一计量泵，所述废胶罐与所述混合罐的连接管道上设置有第二计量泵，且所述废胶罐内设置有第一粘度计，所述混合罐内设置有第二粘度计。第一计量泵和第二计量泵分别用于计量通入混合罐中的废胶液和溶剂的体积，第一粘度计和第二粘度计分别用于计量废胶罐和混合中胶液的粘度，以保证混合
后的胶液达到标准浓度。
[0024]在一个优选地实施例中，所述混合罐为密封罐，所述混合罐内设置有搅拌器，所述混合罐上设置有排气管和取样管，所述排气管上设置有排气阀，所述取样管上设置有取样阀。因为混合罐为密闭空间，装有排气阀可以保证溶剂和废胶顺利进入混合罐中，通过取样管可以进行取样，方便对胶液进行测试。
[0025]在一个优选地实施例中，所述过滤组件包括依次设置的一级过滤器和二级过滤器，所述混合罐与所述一级过滤器连接的管路上设置有出液泵。也可以在二级过滤器后设置三级过滤器、四集过滤器等，以使再生的光刻胶中含有更少的杂质。
[0026]在一个优选地实施例中，所述管道为特氟龙管道。
[0027]在一个优选地实施例中，所述控制系统包括键盘、显示器和处理器。
[0028]一种废光刻胶的再生方法，包括如下步骤：S1：向溶剂罐中注入新的溶剂，将废胶罐收集在废光刻胶，并通过粘度计策奖废胶罐中的胶体粘度为C1；
[0029]S2：将废胶罐中的废光刻胶由进液阀泵入混合罐中，并通过第一计量泵来进行计量为V1；将溶剂罐中的溶剂由进液阀泵入混合罐中，并通过第一计量泵来进行计量为V2；S3：使用的光刻胶粘度为一个确定的值C3，混合罐中的废胶和溶剂经过搅拌器搅拌本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种废光刻胶再生装置，其特征在于，包括控制系统和装置主体，所述装置主体包括混合罐、与混合罐通过管道连接的废胶罐溶剂罐和溶剂罐，以及与所述混合罐通过管道连接且沿光刻胶流动方向依次设置的过滤组件和新胶罐；所述溶剂罐与所述混合罐的连接管道上设置有第一计量泵，所述废胶罐与所述混合罐的连接管道上设置有第二计量泵，且所述废胶罐内设置有第一粘度计，所述混合罐内设置有第二粘度计。2.根据权利要求1所述的一种废光刻胶再生装置，其特征在于，所述混合罐为密封罐，所述混合罐内设置有搅拌器，所述混合罐上设置有排气管和取样管，所述排气管上设置有排气阀，所述取样管上设置有取样阀。3.根据权利要求1所述的一种废光刻胶再生装置，其特征在于，所述过滤组件包括依次设置的一级过滤器和二级过滤器，所述混合罐与所述一级过滤器连接的管路上设置有出液泵。4.根据权利要求1所述的一种废光刻胶再生装置，其特征在于，所述管道为特氟龙管道。5.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：魏晖，熊启龙，龚清华，蔡舫，李伟，
申请(专利权)人：合肥清溢光电有限公司，
类型：发明
国别省市：
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