OPC建模方法、OPC建模装置及电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种OPC建模方法、OPC建模装置及电子设备。该方法包括：获取步骤：获取版图上的多个晶圆数据、与多个晶圆数据一一对应的多个权重以及预设建模条件；建模步骤：根据多个晶圆数据和多个权重建立预备OPC模型；判断步骤：判断预备OPC模型是否满足预设建模条件，在满足的情况下，确定预备OPC模型为目标OPC模型。通过上述方法，可以对版图上的晶圆图形进行预先的补偿修正，从而得到更接近于实际的数据版图结构，进而使得掩膜版的生产制作更加准确，为整个工艺流程的开发节省了宝贵的时间。为整个工艺流程的开发节省了宝贵的时间。为整个工艺流程的开发节省了宝贵的时间。

【技术实现步骤摘要】
OPC建模方法、OPC建模装置及电子设备


[0001]本专利技术涉及半导体集成电路制造领域，具体而言，涉及一种OPC建模方法、OPC建模装置及电子设备。

技术介绍

[0002]目前常规的OPC建模中需要将N个数据输入到建模程序中，并手动调整N个数据的权重，进而得到在此权重条件下的最佳OPC模型和应用此模型的模拟仿真数据。
[0003]随着光刻工艺的复杂和拟合精度要求的提高，拟合参量的数目会增多，数据量会大大增加。通过这种手动调整数据权重的方法不仅繁琐易出错，而且随着节点的一步步推进，N值越来越大，操作非常耗时，大大延缓了研发的进度，降低研发效率。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的在于提供一种OPC建模方法、OPC建模装置及电子设备，以解决现有技术中OPC建模耗时易出错，以及研发效率低的问题。
[0005]为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种OPC建模方法，包括：获取步骤：获取版图上的多个晶圆数据、与多个晶圆数据一一对应的多个权重以及预设建模条件；建模步骤：根据多个晶圆数据和多个权重建立预备OPC模型；判断步骤：判断预备OPC模型是否满足预设建模条件，在满足的情况下，确定预备OPC模型为目标OPC模型。
[0006]可选地，判断步骤还包括：在不满足的情况下，根据预备OPC模型，调整多个权重，以得到多个更新的权重，OPC建模方法还包括：在不满足的情况下，重复执行建模步骤和判断步骤至少一次，直到预备OPC模型满足预设建模条件时停止，得到目标OPC模型。
[0007]可选地，根据预备OPC模型调整多个权重，以得到多个更新的权重，包括：根据预备OPC模型确定多个归一化图像对数斜率，归一化图像对数斜率与晶圆数据一一对应；根据多个归一化图像对数斜率调整多个权重，以得到多个更新的权重。
[0008]可选地，根据预备OPC模型确定多个归一化图像对数斜率，包括：获取预备OPC模型的多个透光区宽度和多个图像对数斜率，透光区宽度和图像对数斜率均与晶圆数据一一对应；根据多个透光区宽度和多个图像对数斜率，确定多个归一化图像对数斜率。
[0009]可选地，根据多个归一化图像对数斜率调整多个权重，以得到多个更新的权重，包括：获取多个归一化图像对数斜率与多个权重的比例关系；根据比例关系以及多个权重，得到多个更新的权重。
[0010]可选地，重复执行建模步骤和判断步骤至少一次，包括：根据多个更新的权重，调整预备OPC模型的加权函数；根据加权函数和多个晶圆数据，得到更新的预备OPC模型；判断更新的预备OPC模型是否满足预设建模条件，在满足的情况下，确定预备OPC模型为目标OPC模型，在不满足的情况下，根据预备OPC模型，调整多个权重，以得到多个更新的权重。
[0011]可选地，判断预备OPC模型是否满足预设建模条件，包括：获取预备OPC模型的多个仿真数据，仿真数据与晶圆数据一一对应；根据多个仿真数据和多个晶圆数据，得到第一差
值；判断第一差值是否满足预设建模条件。
[0012]可选地，第一差值为均方根值，预设建模条件至少包括：均方根值小于预设特征值。
[0013]根据本专利技术的另一方面，还提供一种OPC建模装置，包括：获取模块，用于获取版图上的多个晶圆数据、与多个晶圆数据一一对应的多个权重以及预设建模条件；建模模块，用于根据多个晶圆数据和多个权重建立预备OPC模型；判断模块，用于判断预备OPC模型是否满足预设建模条件，在满足的情况下，得到目标OPC模型，在不满足的情况下，根据预备OPC模型以及多个晶圆数据调整多个权重，以得到多个更新的权重。
[0014]可选地，判断模块还用于在不满足的情况下，根据预备OPC模型，调整多个权重，以得到多个更新的权重，OPC建模装置还包括：循环模块，用于在不满足的情况下，重复执行建模模块中的步骤和判断模块中的步骤至少一次，直到预备OPC模型满足预设建模条件时停止，得到目标OPC模型。
[0015]根据本专利技术的另一方面，还提供了一种电子设备，包括：处理器；用于存储处理器可执行指令的存储器；其中，处理器被配置为执行指令，以实现上述的OPC建模方法。
[0016]应用本专利技术的技术方案，提供了一种OPC建模方法，该方法在获取步骤获取版图上的多个晶圆数据、与多个晶圆数据一一对应的多个权重以及预设建模条件；继而采用建模步骤根据多个晶圆数据和多个权重建立预备OPC模型；然后利用判断步骤判断预备OPC模型是否满足预设建模条件，进而在满足的情况下，确定预备OPC模型为目标OPC模型；可选地，在不满足的情况下，根据预备OPC模型调整多个权重，以得到多个更新的权重；重复执行建模步骤和判断步骤至少一次，直到预备OPC模型满足预设建模条件时停止，得到目标OPC模型。采用上述OPC建模方法，可以对版图上的晶圆图形进行预先的补偿修正，从而得到更接近于实际的数据版图结构，进而使得掩膜版的生产制作更加准确，为整个工艺流程的开发节省了宝贵的时间。可选地，在得到的OPC模型不满足建模预设的建模条件的情况下，能够根据得到的OPC模型和多个晶圆数据对形成上述OPC模型中的多个权重进行调整，进而得到与上述多个权重一一对应的新的多个权重，继而根据新的多个权重和多个晶圆数据得到新的OPC模型，并判断新的OPC模型是否满足预设的建模条件，在满足的条件下，完成建模，在不满足的情况下，再调整新的多个权重得到更新的多个权重，并依此类推，进而实现了自动调整权重并根据调整之后的权重进行OPC建模的过程，从而减少了人工干预的操作，降低了出现差错的可能性，大大加快了研发的进度，提高了研发效率。
附图说明
[0017]构成本专利技术的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1是根据本专利技术实施例1示出的一种OPC建模方法的流程框图；图2是根据本专利技术实施例1示出的另一种OPC建模方法的流程框图；图3是根据本专利技术实施例2示出的一种OPC建模装置的结构框图；图4是根据本专利技术实施例2示出的另一种OPC建模装置的结构框图；图5是根据本专利技术实施例3示出的一种电子设备的结构框图。
具体实施方式
[0018]需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。
[0019]为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。
[0020]需要说明的是，本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本专利技术的实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OPC建模方法，其特征在于，包括：获取步骤：获取版图上的多个晶圆数据、与所述多个晶圆数据一一对应的多个权重以及预设建模条件；建模步骤：根据所述多个晶圆数据和所述多个权重建立预备OPC模型；判断步骤：判断所述预备OPC模型是否满足所述预设建模条件，在满足的情况下，确定所述预备OPC模型为目标OPC模型。2.根据权利要求1所述的OPC建模方法，其特征在于，所述判断步骤还包括：在不满足的情况下，根据所述预备OPC模型，调整所述多个权重，以得到多个更新的权重，所述OPC建模方法还包括：在所述不满足的情况下，重复执行所述建模步骤和所述判断步骤至少一次，直到所述预备OPC模型满足所述预设建模条件时停止，得到所述目标OPC模型。3.根据权利要求2所述的OPC建模方法，其特征在于，所述根据所述预备OPC模型调整所述多个权重，以得到多个更新的权重，包括：根据所述预备OPC模型确定多个归一化图像对数斜率，所述归一化图像对数斜率与所述晶圆数据一一对应；根据所述多个归一化图像对数斜率调整所述多个权重，以得到所述多个更新的权重。4.根据权利要求3所述的OPC建模方法，其特征在于，所述根据所述预备OPC模型确定多个归一化图像对数斜率，包括：获取所述预备OPC模型的多个透光区宽度和多个图像对数斜率，所述透光区宽度和所述图像对数斜率均与所述晶圆数据一一对应；根据所述多个透光区宽度和所述多个图像对数斜率，确定所述多个归一化图像对数斜率。5.根据权利要求3所述的OPC建模方法，其特征在于，所述根据所述多个归一化图像对数斜率调整所述多个权重，以得到所述多个更新的权重，包括：获取所述多个归一化图像对数斜率与所述多个权重的比例关系；根据所述比例关系以及所述多个权重，得到所述多个更新的权重。6.根据权利要求2所述的OPC建模方法，其特征在于，所述重复执行所述建模步骤和所述判断步骤至少一次，包括：根据所述多个更新的权重，调整所述预备OPC模型的加权函...

【专利技术属性】
技术研发人员：王康，罗招龙，吕攀，
申请(专利权)人：合肥新晶集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：