【技术实现步骤摘要】
一种干法刻蚀机的晶圆固定装置
[0001]本技术涉及环保商砼混合多叶均匀搅拌
，具体涉及一种干法刻蚀机的晶圆固定装置。
技术介绍
[0002]刻蚀均匀性一直是干法刻蚀工艺中重要的参数，刻蚀机台气体的分布、ESC的温度、背氦的流量、腔体构造等都会影响刻蚀均匀性。
[0003]在对晶圆进行固定时，传统的固定结构稳定性较差，都是存在对中性很差，而且晶圆作为一个圆柱形外观，普通的夹具很难将其进行夹持，且无法对晶圆进行自动化固定。
[0004]由此可见需要提供一种干法刻蚀机的晶圆固定装置。
技术实现思路
[0005]有鉴于此，本技术的目的在于提供一种干法刻蚀机的晶圆固定装置，以解决稳定性较差以及对中性很差的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术通过以下技术方案实现：
[0007]一种干法刻蚀机的晶圆固定装置，包括底座，所述底座的上表面固定连接有涡轮分子泵，所述底座的上表面固定连接有支撑板，所述支撑板的上表面设置有静电吸附盘，所述静电吸附盘的上表面固定连接有工作板，所述静电吸附盘的上表面固定连接有固定框，所述固定框的内表面固定连接有进气管，所述工作板的上表面固定连接有固定连接有工作台，所述工作台的上表面固定连接有第二连接板，所述第二连接板的上表面固定连接有伺服电机，所述工作台的上表面活动连接有双层圆盘架，所述双层圆盘架的外表面固定连接有第三连接板，所述第三连接板的上表面活动连接有螺母，所述工作台的上表面活动连接有三个活动杆，所述双层圆盘架的内表面活动连接有三个活动架。>[0008]进一步，三个所述活动杆的外表面分别于三个活动架的内表面滑动连接，三个所述活动杆远离工作台的一端均设置有小滚轮。
[0009]进一步，所述伺服电机的输出端固定连接有螺纹杆，所述螺纹杆远离伺服电机的一端固定连接有小挡板。
[0010]进一步，所述伺服电机的外表面设置有防护罩，所述涡轮分子泵的外表面设置有防尘罩。
[0011]进一步，所述涡轮分子泵的外表面设置有控制台，所述伺服电机的外表面设置有开关。
[0012]进一步，所述进气管的下表面设置有分流装置。
[0013]本技术的有益效果在于:
[0014]1.本技术通过设置有涡轮分子泵，涡轮分子泵开始工作时就会带动一系列结构开始联动，这样就可以带动固定好晶圆开始加工。
[0015]2.本技术通过设置有伺服电机，当伺服电机开始转动时就会带动螺纹杆开始
转动，当螺纹杆开始转动时就会带动螺母开始发生位移，当螺母发生位移时就会带动双层圆盘架开始转动，当双层圆盘架开始转动时就会带动三个活动架开始同时发生位移，当三个活动架发生位移时就会三个活动杆发生角度倾斜，这样就可以确定中心点位置并且将其进行固定。
[0016]简而言之，本申请技术方案利用连贯而又紧凑的结构，以解决稳定性较差以及对中性很差的问题。
[0017]本技术的其他优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述，并且在某种程度上，基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的，或者可以从本技术的实践中得到教导。本技术的目标和其他优点可以通过下面的说明书来实现和获得。
附图说明
[0018]图1为本技术的正视内部结构示意图；
[0019]图2为本技术的图1中工作台处放大结构示意图；
[0020]图3为本技术的图1中双层圆盘架处放大结构示意图；
[0021]图中：1、底座；2、涡轮分子泵；3、支撑板；4、静电吸附盘；5、工作板；6、固定框；7、进气管；8、工作台；9、第二连接板；10、第二伺服电机；11、双层圆盘架；12、第三连接板；13、螺母；14、螺纹杆；15、活动杆；16、活动架；17、小滚轮；18、小挡板；19、分流装置；20、控制台。
具体实施方式
[0022]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0023]因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0025]在本技术的上述描述中，需要说明的是，术语“一侧”、“另一侧”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0026]此外，术语“相同”等术语并不表示要求部件绝对相同，而是可以存在微小的差异。术语“垂直”仅仅是指部件之间的位置关系相对“平行”而言更加垂直，并不是表示该结构一定要完全垂直，而是可以稍微倾斜。
[0027]请参阅图1
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3，本技术提供一种技术方案：干法刻蚀机的晶圆固定装置，包括底座1，底座1的上表面固定连接有涡轮分子泵2，底座1的上表面固定连接有支撑板3，支撑板3的上表面设置有静电吸附盘4，静电吸附盘4的上表面固定连接有工作板5，静电吸附盘4的上表面固定连接有固定框6，固定框6的内表面固定连接有进气管7，工作板5的上表面固定连接有固定连接有工作台8，工作台8的上表面固定连接有第二连接板9，第二连接板9的上表面固定连接有伺服电机10，工作台8的上表面活动连接有双层圆盘架11，双层圆盘架11的外表面固定连接有第三连接板12，第三连接板12的上表面活动连接有螺母13，工作台8的上表面活动连接有三个活动杆15，双层圆盘架11的内表面活动连接有三个活动架16。
[0028]本技术中，三个活动杆15的外表面分别于三个活动架16的内表面滑动连接，三个活动杆15远离工作台8的一端均设置有小滚轮17，小滚轮17可以对晶圆进行定位。
[0029]本技术中，伺服电机10的输出端固定连接有螺纹杆14，螺纹杆14远离伺服电机10的一端固定连接有小挡板18，小挡板18可以控制螺纹杆14的工作距离。
[0030]本技术中，伺服电机10的外表面设置有防护罩，涡轮分子泵2的外表面设置有防尘罩，可以对装置进行一个保护。
[0031]本技术中，涡轮分子泵2的外表面设置有控制台20，伺服电机本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种干法刻蚀机的晶圆固定装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上表面固定连接有涡轮分子泵(2)，所述底座(1)的上表面固定连接有支撑板(3)，所述支撑板(3)的上表面设置有静电吸附盘(4)，所述静电吸附盘(4)的上表面固定连接有工作板(5)，所述静电吸附盘(4)的上表面固定连接有固定框(6)，所述固定框(6)的内表面固定连接有进气管(7)，所述工作板(5)的上表面固定连接有固定连接有工作台(8)，所述工作台(8)的上表面固定连接有第二连接板(9)，所述第二连接板(9)的上表面固定连接有伺服电机(10)，所述工作台(8)的上表面活动连接有双层圆盘架(11)，所述双层圆盘架(11)的外表面固定连接有第三连接板(12)，所述第三连接板(12)的上表面活动连接有螺母(13)，所述工作台(8)的上表面活动连接有三个活动杆(15)，所述双层圆盘架(11)的内表面活动连接有三个活动架(16)。2.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：唐建成，颜维逸，赵佳伟，梁晓航，
申请(专利权)人：无锡芯汉电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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