炉管镀膜设备制造技术

本发明专利技术提供了一种炉管镀膜设备。本发明专利技术的炉管镀膜设备包括炉体、供气装置和反射单元；所述炉体中空密封设置，所述炉体用于承载待镀膜对象，所述炉体并用于对所述镀膜对象进行加热，所述供气装置与所述炉体的中空处连通，所述供气装置用于所述镀膜对象提供镀膜所需原料；所述反射单元设置于所述炉体内，所述反射单元用于反射热量。本发明专利技术的炉管镀膜设备通过所述炉体对待镀膜的对象进行承载和加热，通过所述供气装置对所述炉体进行供气，提供镀膜用原料，并通过在所述炉体内设置所述反射单元，对所述炉体内的热量进行反射，能够提升所述炉体内的温度均匀性，进而解决温度炉体两端镀膜均匀性差的问题，能够在保证产能的同时保证镀膜均匀性。膜均匀性。膜均匀性。

【技术实现步骤摘要】
炉管镀膜设备


[0001]本专利技术涉及管式镀膜
，尤其涉及一种炉管镀膜设备。

技术介绍

[0002]随着太阳能发电的普及，相关的光伏产品需求量越来越大，因此对光伏设备的要求越来越高。一方面需要保证设备的产能要求，另一方面需要保证设备极高的镀膜均匀性。
[0003]现有的管式低压力化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition，LPCVD)镀膜设备、管式等离子体增强化学的气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)镀膜设备、管式扩散镀膜设备等管式镀膜设备，受管式镀膜设备腔体结构的设计限制，腔体的炉口和炉尾保温性能差、热量流失严重、温度均匀性差，造成腔体两端的镀膜均匀性差。
[0004]现有技术中，为了保证镀膜的均匀性，通常在靠近腔体炉口和炉尾的位置不放置硅片进行镀膜，致使设备相比于原有的产能有所下降，导致腔体空间利用率降低，即通过损失产能的方式保证了均匀性。
[0005]因此需要设计一种能够同时保证产能和均匀性的炉管镀膜设备

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种炉管镀膜设备，用以改善现有技术中产能和均匀性无法同时保证的问题。
[0007]本专利技术提供了一种炉管镀膜设备，包括炉体、供气装置和反射单元；所述炉体中空密封设置，所述炉体用于承载待镀膜对象，所述炉体并用于对所述镀膜对象进行加热，所述供气装置与所述炉体的中空处连通，所述供气装置用于所述镀膜对象提供镀膜所需原料；所述反射单元设置于所述炉体内，所述反射单元用于反射热量。
[0008]本专利技术的炉管镀膜设备的有益效果在有：通过所述炉体对待镀膜的对象进行承载和加热，通过所述供气装置对所述炉体进行供气，提供镀膜用原料，并通过在所述炉体内设置所述反射单元，对所述炉体内的热量进行反射，能够提升所述炉体内的温度均匀性，进而解决温度炉体两端镀膜均匀性差的问题，能够在保证产能的同时保证镀膜均匀性。
[0009]在一种可行的方案中，所述反射单元设置于所述炉体的两端。其有益效果在于：由于设备的侧壁通常布置加热装置，且设备的两端通常是温度薄弱区，将所述反射单元设置于所述炉体的两端，能够提升两端的保温效果，布局合理，恒温效果稳定。
[0010]在一种可行的方案中，所述反射单元包括第一反射组和第二反射组；所述第一反射组和所述第二反射组分别设置于所述炉体的两端，且所述第一反射组和所述第二反射组相对设置。其有益效果在于：通过将所述反射单元设置为第一反射组和第二反射组，便于对两者进行分别布局和安装，通过将所述第一反射组和所述第二反射组相对设置，能够使得两者之间形成振荡回路，提升反射效果。
[0011]在一种可行的方案中，所述第一反射组和/或所述第二反射组包括第一反射件；所
述第一反射件设有扰流孔，所述扰流孔用于混合通过所述第一反射件的气体。其有益效果在于：通过在所述第一反射件设置所述扰流孔，便于混合进入所述炉体内的气体，提升气体的均匀性。
[0012]在一种可行的方案中，所述扰流孔的轴向与所述炉体轴向相交设置。其有益效果在于：这样设置使得经过所述扰流孔的气体的运动方向与所述炉体的轴向形成一定的角度，并使得经过所述扰流孔的气体能够与未经过所述扰流孔的气体发生冲击，进而提升气体的均匀性。
[0013]在一种可行的方案中，所述扰流孔设置为若干个，若干个所述扰流孔均匀设置于所述第一反射件。其有益效果在于：将所述扰流孔设置为若干个，并均匀设置于所述第一反射件，能够在所述扰流孔处形成多个倾斜的气流，提升气体混合的均匀性。
[0014]在一种可行的方案中，各个所述扰流孔的截面积之和占比所述第一反射件的截面积的5％至20％。其有益效果在于：限定所述扰流孔的截面积占比，保证所述第一反射件的发射效果。
[0015]在一种可行的方案中，所述第一反射件设置为若干个。其有益效果在于：将所述第一反射件设置为若干个，提升混气和保温效果。
[0016]在一种可行的方案中，若干个所述第一反射件中存在至少两个所述第一反射件对称设置。其有益效果在于：将所述第一反射件设置成对称设置的两个，能够在原有设置的基础上，反向调整混气方向，促进混气的均匀性。
[0017]在一种可行的方案中，相邻的所述第一反射件的扰流孔错位设置。其有益效果在于：这样能够增加相邻的所述第一反射板之间的扰流孔件的气体运动路径。
[0018]在一种可行的方案中，所述第一反射组和/或所述第二反射组还包括第二反射件；所述第二反射件设有导向孔，所述第二反射件设置于所述第一反射件靠近于所述炉体中心的一侧，所述导向孔的轴向与所述炉体的轴向平行设置。其有益效果在于：将所述第一反射组和/或第二反射组靠近中心的一侧设置所述第二反射件，通过所述第二反射件上的导向孔对所述炉体内的气体进行导向，使得经过所述第二反射件的气体流向于所述炉体的轴向平行，使得气体均匀的作用在待镀膜对象上，提升气体作用使得均匀性。
[0019]在一种可行的方案中，所述第一反射件和/或所述第二反射件设置为若干个。其有益效果在于：通过设置若干个所述第一反射件能够提升混气效果，通过设置若干个所述第二反射件能够提升气体流通时的均匀度。
[0020]在一种可行的方案中，还包括辅加热器；所述辅加热器设置于所述第一反射组和/或所述第二反射组的一侧，所述辅加热器用于加热。其有益效果在于：通过设置所述辅加热器，对所述炉体的两端进行辅助加热，提升所述炉体两端温度的均匀性。
[0021]在一种可行的方案中，所述辅加热器设置于所述第一反射组和/或所述第二反射组靠近所述炉体中心的一侧。其有益效果在于：将所述辅加热器设置于所述反射组靠近所述炉体中心的一侧，便于利用所述反射组的反射效果。
[0022]在一种可行的方案中，所述辅加热器设置为至少两个，且所述第一反射组和/或所述第二反射组一侧的所述辅加热器的数量设置为至少两个。其有益效果在于：在所述炉体的一端设置至少两个所述辅加热器，可以通过开启不同加热器的数量调整炉体端部的加热功率。
[0023]在一种可行的方案中，所述炉体包括加热炉、进气件和补气件；所述加热炉中空贯穿设置，所述进气件和所述补气件分别设置于所述加热炉的两端，所述加热炉用于承载所述镀膜对象，且所述加热炉用于对所述镀膜对象进行加热，所述进气件和所述补气件用于密封所述加热炉，所述供气装置与所述进气件和所述补气件连通。其有益效果在于：通过设置所述加热炉实现加工空间和加热的目的，通过设置所述进气件和所述补气件，便于向所述加热炉内通入反应气体，并将所述进气件和所述补气件分别设置于所述加热炉的两端，通过两端进气的方式对所述加热炉进行供气，保证炉内整体的气体均匀度。
[0024]在一种可行的方案中，还包括补气管；所述补气管设置于所述加热炉内，所述补气管与所述补气件连通，所述供气装置用于通过所述补气件和所述补气管向所述加热炉供气。其有益效果在于：通过设置所述补气管，对所述补气件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种炉管镀膜设备，其特征在于，包括炉体、供气装置和反射单元；所述炉体中空密封设置，所述炉体用于承载待镀膜对象，所述炉体并用于对所述镀膜对象进行加热，所述供气装置与所述炉体的中空处连通，所述供气装置用于所述镀膜对象提供镀膜所需原料；所述反射单元设置于所述炉体内，所述反射单元用于反射热量。2.根据权利要求1所述的炉管镀膜设备，其特征在于，所述反射单元设置于所述炉体的两端。3.根据权利要求2所述的炉管镀膜设备，其特征在于，所述反射单元包括第一反射组和第二反射组；所述第一反射组和所述第二反射组分别设置于所述炉体的两端，且所述第一反射组和所述第二反射组相对设置。4.根据权利要求3所述的炉管镀膜设备，其特征在于，所述第一反射组和/或所述第二反射组包括第一反射件；所述第一反射件设有扰流孔，所述扰流孔用于混合通过所述第一反射件的气体。5.根据权利要求4所述的炉管镀膜设备，其特征在于，所述扰流孔的轴向与所述炉体轴向相交设置。6.根据权利要求4所述的炉管镀膜设备，其特征在于，所述扰流孔设置为若干个，若干个所述扰流孔均匀设置于所述第一反射件。7.根据权利要求6所述的炉管镀膜设备，其特征在于，各个所述扰流孔的截面积之和占比所述第一反射件的截面积的5％至20％。8.根据权利要求4所述的炉管镀膜设备，其特征在于，所述第一反射件设置为若干个。9.根据权利要求8所述的炉管镀膜设备，其特征在于，若干个所述第一反射件中存在至少两个所述第一反射件对称设置。10.根据权利要求8所述的炉管镀膜设备，其特征在于，相邻的所述第一反射件的扰流孔错位设置。11.根据权利要求4所述的炉管镀膜设备，其特征在于，所述第一反射组和/或所述第二反射组还包括第二反射件；所述第二反射件设有导向孔，所述第二反射件设置于所述第一反射件靠近于所述炉体中心的一侧，所述导向孔的轴向与所述炉体的轴向平行设置。12.根据权利要求11所述的炉管镀膜设备，其特征在于，所述第一反射件和/或所述第二反射件设置为若干个。13.根据权利要求3所述的炉管镀膜设备，其特征在于，还包括辅加热器；所述辅加热器设置于所述第一反射组和/或所述第二反射组的一侧，所述辅加热器用于加热。14.根据权利要求13所述的炉管镀膜设备，其特征在于，所述辅加热...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱双双，康旭，
申请(专利权)人：江苏微导纳米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：