坩埚组件和晶体生长设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种坩埚组件和晶体生长设备，坩埚组件包括石墨坩埚、石英坩埚和环形卡扣，石墨坩埚限定出顶部敞开的安装腔，且石墨坩埚形成有排气通道，排气通道贯穿石墨坩埚的外表面且与安装腔连通，石英坩埚设于安装腔且限定出盛放腔，卡扣连接在石英坩埚的顶端，卡扣卡设于石墨坩埚的顶端，且与石墨坩埚的表面密封配合。根据本实用新型专利技术的坩埚组件，可以控制晶棒的含碳量，保证晶棒品质，同时实现了石英坩埚与石墨坩埚反应产生的气体的顺利排放。利排放。利排放。

【技术实现步骤摘要】
坩埚组件和晶体生长设备


[0001]本技术涉及晶体生长
，尤其是涉及一种坩埚组件和晶体生长设备。

技术介绍

[0002]相关技术中，晶体生长设备的石英坩埚外侧包裹有石墨坩埚，以保证石英坩埚长时间受热不会发生较大形变、热场稳定等。由于石英坩埚的主要成分是SiO2，石墨坩埚的主要成为是C，石英坩埚与石墨坩埚在高温下会发生如下反应：SiO2+3C＝SiC+2CO
↑
、SiC0+SiO2＝SiO+CO
↑
、SiO+2C＝SiC+CO
↑
。
[0003]可见，石英坩埚与石墨坩埚反应会产生CO气体，部分CO气体会进入到石英坩埚内的熔汤中，导致拉制的晶棒的含碳量升高，影响拉制的晶棒的含碳量，同时CO气体如果无法顺利排放会导致石英坩埚变形，影响晶棒正常拉制。

技术实现思路

[0004]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种坩埚组件，所述坩埚组件可以控制晶棒的含碳量，保证晶棒品质，同时实现了石英坩埚与石墨坩埚反应产生的气体的顺利排放。
[0005]本技术还提出一种具有上述坩埚组件的晶体生长设备。
[0006]根据本技术第一方面实施例的坩埚组件，包括：石墨坩埚，所述石墨坩埚限定出顶部敞开的安装腔，且所述石墨坩埚形成有排气通道，所述排气通道贯穿所述石墨坩埚的外表面且与所述安装腔连通；石英坩埚，所述石英坩埚设于所述安装腔且限定出盛放腔；环形卡扣，所述卡扣连接在所述石英坩埚的顶端，所述卡扣卡设于所述石墨坩埚的顶端，且与所述石墨坩埚的表面密封配合。
[0007]根据本技术实施例的坩埚组件，通过在石英坩埚的顶端设置环形卡扣，并使卡扣卡设于石墨坩埚的顶端，且卡扣与石墨坩埚的表面密封配合，石英坩埚与石墨坩埚发生反应产生的气体例如一氧化碳无法向上排出，以避免上述气体通过盛放腔的顶侧进入熔汤中，从而便于控制晶棒的含碳量，保证晶棒的品质；同时，石墨坩埚形成有排气通道，使得石英坩埚与石墨坩埚反应产生的气体可以通过排气通道排出，避免气体在石英坩埚和石墨坩埚之间积聚导致石英坩埚变形等，保证了石英坩埚的结构稳定性，有利于晶棒的正常拉制。
[0008]在一些实施例中，所述卡扣卡设于所述石墨坩埚的顶面且与所述石墨坩埚的顶面密封配合；或者，所述卡扣形成有开口朝下的插槽，所述石墨坩埚的顶端插配于所述插槽，所述插槽的壁面与所述石墨坩埚的外周壁密封配合。
[0009]在一些实施例中，所述卡扣形成有插槽时，所述插槽的壁面与所述石墨坩埚螺纹配合。
[0010]在一些实施例中，所述石墨坩埚包括埚体和底座，所述埚体包括内外依次设置的内层埚体和外层埚体，所述底座支撑在所述内层埚体和所述外层埚体的底部，所述排气通
道包括彼此连通的第一排气通道和第二排气通道，所述第一排气通道形成在所述内层埚体上，所述第二排气通道形成在所述外层埚体上；或者，所述排气通道包括彼此连通的第一排气通道和第三排气通道，所述第一排气通道形成在所述内层埚体上，所述第三排气通道形成在所述底座上。
[0011]在一些实施例中，所述内层埚体具有第一蜂窝状结构，所述第一蜂窝状结构与所述石英坩埚接触且限定出多个连通的所述第一排气通道。
[0012]在一些实施例中，所述第一排气通道沿所述石墨坩埚的周向延伸为环形。
[0013]在一些实施例中，所述排气通道包括彼此连通的第一排气通道和第二排气通道时，所述第二排气通道与所述卡扣上下间隔设置，所述第二排气通道设于所述外层埚体的R角处且由内向外倾斜向下延伸。
[0014]在一些实施例中，所述排气通道包括彼此连通的第一排气通道和第三排气通道时，所述底座具有第二蜂窝状结构，所述第二蜂窝状结构限定出多个沿所述石墨坩埚的轴向延伸的所述第三排气通道。
[0015]在一些实施例中，所述第一排气通道横截面外边缘的内切圆直径为d1，所述第三排气通道横截面外边缘的内切圆直径为d2，1＜d2/d1≤2。
[0016]根据本技术第二方面实施例的晶体生长设备，包括根据本技术上述第一方面实施例的坩埚组件。
[0017]根据本技术实施例的晶体生长设备，通过采用上述的坩埚组件，便于实现晶棒的正常拉制，控制晶棒的含碳量，保证晶棒品质。
[0018]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0019]本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0020]图1是根据本技术一个实施例的坩埚组件的剖视图；
[0021]图2是图1中所示的坩埚组件的爆炸图；
[0022]图3是根据本技术另一个实施例的坩埚组件的剖视图；
[0023]图4是图3中所示的底座的示意图；
[0024]图5是根据本技术再一个实施例的坩埚组件的剖视图。
[0025]附图标记：
[0026]坩埚组件100、
[0027]石墨坩埚1、安装腔1a、排气通道10、
[0028]第一排气通道10a、第二排气通道10b、第三排气通道10c、
[0029]埚体11、内层埚体111、第一蜂窝状结构1110、外层埚体112、
[0030]底座12、第二蜂窝状结构120、
[0031]石英坩埚2、盛放腔2a、
[0032]卡扣3、插槽3a。
具体实施方式
[0033]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0034]下文的公开提供了许多不同的实施例或例子用来实现本技术的不同结构。为了简化本技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本技术。此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。此外，本技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的可应用于性和/或其他材料的使用。
[0035]下面，参考附图，描述根据本技术实施例的坩埚组件100。
[0036]如图1和图3所示，坩埚组件100包括石墨坩埚1、石英坩埚2和环形卡扣3。
[0037]石墨坩埚1限定出顶部敞开的安装腔1a，石英坩埚2设于安装腔1a，且石英坩埚2限定出盛放腔2a，盛放腔2a可以用于盛放物料；卡扣3连接在石英坩埚2的顶端，且卡扣3沿石英坩埚2的顶端边缘延伸为环形，卡扣3卡设于石墨坩埚1的顶端，且卡扣3与石墨坩埚1的表面密封配合，便于使得石英坩埚2与石墨坩埚1之间的间隙的顶部通过卡扣3实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种坩埚组件(100)，其特征在于，包括：石墨坩埚(1)，所述石墨坩埚(1)限定出顶部敞开的安装腔(1a)，且所述石墨坩埚(1)形成有排气通道(10)，所述排气通道(10)贯穿所述石墨坩埚(1)的外表面且与所述安装腔(1a)连通；石英坩埚(2)，所述石英坩埚(2)设于所述安装腔(1a)且限定出盛放腔(2a)；环形卡扣(3)，所述卡扣(3)连接在所述石英坩埚(2)的顶端，所述卡扣(3)卡设于所述石墨坩埚(1)的顶端，且与所述石墨坩埚(1)的表面密封配合。2.根据权利要求1所述的坩埚组件(100)，其特征在于，所述卡扣(3)卡设于所述石墨坩埚(1)的顶面且与所述石墨坩埚(1)的顶面密封配合；或者，所述卡扣(3)形成有开口朝下的插槽(3a)，所述石墨坩埚(1)的顶端插配于所述插槽(3a)，所述插槽(3a)的壁面与所述石墨坩埚(1)的外周壁密封配合。3.根据权利要求2所述的坩埚组件(100)，其特征在于，所述卡扣(3)形成有插槽(3a)时，所述插槽(3a)的壁面与所述石墨坩埚(1)螺纹配合。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的坩埚组件(100)，其特征在于，所述石墨坩埚(1)包括埚体(11)和底座(12)，所述埚体(11)包括内外依次设置的内层埚体(111)和外层埚体(112)，所述底座(12)支撑在所述内层埚体(111)和所述外层埚体(112)的底部，所述排气通道(10)包括彼此连通的第一排气通道(10a)和第二排气通道(10b)，所述第一排气通道(10a)形成在所述内层埚体(111)上，所述第二排气通道(10b)形成在所述外层埚体(112)上；或者，所述排气通道...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈俊宏，
申请(专利权)人：徐州鑫晶半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：