坩埚组件和晶体生长装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种坩埚组件和晶体生长装置，坩埚组件包括：石英坩埚具有用于盛放原料的容纳腔；石墨坩埚设于石英坩埚外，且石墨坩埚的底壁与石英坩埚的底壁间隔设置以形成间隔空间；承载组件设于间隔空间内，承载组件包括承载台，承载台设于石英坩埚的下侧，承载台适于在石英坩埚变形时承载石英坩埚且朝向石墨坩埚的内侧壁移动；支撑件，支撑件承载石英坩埚，且沿承载组件的周向设置，支撑件中设有移动件，移动件的一端与承载台相抵，当石英坩埚变形时，移动件适于在承载台移动的推力作用下支撑石英坩埚以使石英坩埚向容纳腔方向形成凸起。根据本发明专利技术的坩埚组件，能够避免石英坩埚软化后堆积，确保晶体中的含氧量分布均匀，减少晶体的体微缺陷。减少晶体的体微缺陷。减少晶体的体微缺陷。

【技术实现步骤摘要】
坩埚组件和晶体生长装置


[0001]本专利技术涉及单晶硅制造
，更具体地，涉及一种坩埚组件和晶体生长装置。

技术介绍

[0002]相关技术中，在晶体生长过程中，需要对容纳腔内的原料进行加热，石英坩埚内表面与原料发生反应会析出氧气，由于石英坩埚易受热软化进而发生形变，使得石英坩埚的部分产生堆积，导致石英坩埚与原料的接触面积减小，使得析出的氧气在原料中分布不均，导致晶体中含氧量分布不均，进而造成晶体中存在体微缺陷(Bulk Microdefect Density，BMD)。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种坩埚组件，所述坩埚组件能够避免石英坩埚软化后堆积，确保晶体中的含氧量分布均匀，减少晶体的体微缺陷。
[0004]本专利技术的另一个目的在于提出一种具有上述坩埚组件的晶体生长装置。
[0005]根据本专利技术实施例的坩埚组件，包括：石英坩埚，所述石英坩埚具有用于盛放原料的容纳腔；石墨坩埚，所述石墨坩埚设于所述石英坩埚外，且所述石墨坩埚的底壁与所述石英坩埚的底壁间隔设置以形成间隔空间；承载组件，所述承载组件设于所述间隔空间内，所述承载组件包括承载台，所述承载台设于所述石英坩埚的下侧，所述承载台适于在所述石英坩埚变形时承载所述石英坩埚且朝向所述石墨坩埚的内侧壁移动；支撑件，所述支撑件承载所述石英坩埚，且沿所述承载组件的周向设置，所述支撑件中设有移动件，所述移动件的一端与所述承载台相抵，当所述石英坩埚变形时，所述移动件适于在所述承载台移动的推力作用下支撑所述石英坩埚以使所述石英坩埚向所述容纳腔方向形成凸起。
[0006]根据本专利技术实施例的坩埚组件，通过石墨坩埚设于石英坩埚外，石墨坩埚的底壁与石英坩埚的底壁间隔设置以形成间隔空间，承载组件设于间隔空间内，承载组件的承载台设于石英坩埚的下侧，支撑件沿承载组件的周向设置，支撑件中设有移动件，移动件的一端与承载台相抵，在石英坩埚发生变形时，石英坩埚向下发生形变，承载台受石英坩埚的重力作用下朝向石墨坩埚的内侧壁移动，承载台能够推动与承载台相抵的移动件
[0007]在支撑件内移动，使得移动件可以在承载台移动的推力作用下支撑石英坩埚，移动件能5够实现对石英坩埚的拉伸，避免石英坩埚软化后堆积，增大了石英坩埚的表面积，从而
[0008]有效增加石英坩埚与原料的接触面积，使石英坩埚与原料反应析出的氧气均匀地扩散到原料中，确保晶体中的含氧量分布均匀，减少晶体的体微缺陷。
[0009]另外，根据本专利技术上述实施例的坩埚组件还可以具有如下附加的技术特征：
[0010]根据本专利技术一些实施例的坩埚组件，所述承载台包括多个承载件，多个所述承载件0沿所述石英坩埚的周向间隔设置，多个所述承载件共同限定出空腔，所述承载件与所述
[0011]移动件止抵，所述承载组件还包括：承载座，所述承载座位于所述承载台的上侧，所述承载座的横截面积向下逐渐减小且下端位于所述空腔内，当所述石英坩埚变形时，所述承载座受所述石英坩埚的重量向下移动以推动多个所述承载件朝向所述石墨坩埚的内侧壁移动。
[0012]5根据本专利技术的一些实施例，所述石英坩埚包括第一气泡层和第一透明层，所述第一
[0013]气泡层位于所述第一透明层的外侧，所述移动件包括第二气泡层和第二透明层，所述第二气泡层位于所述第二透明层的外侧。
[0014]根据本专利技术的一些实施例，所述支撑件限定出移动通道，所述移动通道的两端敞开，
[0015]且一端与所述石英坩埚相对，所述移动件设于所述移动通道内，所述移动件包括沿所述0移动通道排布的多个滚动体。
[0016]根据本专利技术的一些实施例，所述支撑件沿所述石英坩埚的周向至少间隔设置有一组对称的所述移动通道；或者，所述移动通道形成为绕所述石英坩埚周向方向的环形通道。
[0017]根据本专利技术的一些实施例，所述石英坩埚内设有分隔所述容纳腔的分隔件，所述分隔件上设有通孔，所述分隔件形成为沿所述容纳腔的周向方向延伸的环形。
[0018]5根据本专利技术的一些实施例，在所述石英坩埚的中轴线的由下至上的方向上，所述移
[0019]动件的支撑位置在所述石英坩埚R角的1/4
‑
3/4。
[0020]根据本专利技术的一些实施例，所述石墨坩埚设有贯穿所述石墨坩埚底壁的排气孔，所述排气孔与所述间隔空间连通。
[0021]根据本专利技术实施例的晶体生长装置包括根据本专利技术实施例所述的坩埚组件。
[0022]0根据本专利技术实施例的晶体生长装置，通过石墨坩埚设于石英坩埚外，石墨坩埚的底
[0023]壁与石英坩埚的底壁间隔设置以形成间隔空间，承载组件设于间隔空间内，承载组件的承载台设于石英坩埚的下侧，支撑件沿承载组件的周向设置，支撑件中设有移动件，移动件的一端与承载台相抵，在石英坩埚发生变形时，石英坩埚向下发生形变，承载台受石英坩埚的重力作用下朝向石墨坩埚的内侧壁移动，承载台能够推动与承载台相抵的移动件在支撑件内移动，使得移动件可以在承载台移动的推力作用下支撑石英坩埚，移动件能够实现对石英坩埚的拉伸，避免石英坩埚软化后堆积，增大了石英坩埚的表面积，从而有效增加石英坩埚与原料的接触面积，使石英坩埚与原料反应析出的氧气均匀地扩散到原料中，确保晶体中的含氧量分布均匀，减少晶体的体微缺陷。
[0024]根据本专利技术的一些实施例，所述石墨坩埚设有贯通所述石墨坩埚底壁的第一透射部，所述承载台设有沿所述承载台厚度方向贯通的第二透射部，所述第二透射部与所述第一透射部相对且所述第二透射部的宽度大于所述第一透射部的宽度，所述晶体生长装置还包括测距仪，所述测距仪位于所述石墨坩埚的远离所述承载台的一侧，所述测距仪与所述第一透射部相对。
[0025]本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。
附图说明
[0026]本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0027]图1是根据本专利技术实施例的晶体生长装置的结构示意图；
[0028]图2是根据本专利技术第一实施例的坩埚组件的结构示意图；
[0029]图3是根据本专利技术第一实施例的坩埚组件的结构示意图(其中，移动件支撑石英坩埚)；
[0030]图4是根据本专利技术第二实施例的坩埚组件的结构示意图；
[0031]图5是根据本专利技术第二实施例的坩埚组件的结构示意图(其中，移动件支撑石英坩埚)；
[0032]图6是根据本专利技术第三实施例的坩埚组件的结构示意图；
[0033]图7是根据本专利技术第三实施例的坩埚组件的结构示意图(其中，移动件支撑石英坩埚)。
[0034]附图标记：
[0035]100、坩埚组件；200、原料；300、晶体生长装置；
[0036]10、石英坩埚；11、容纳腔；12、分隔件；101、周壁；102、底壁；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种坩埚组件，其特征在于，包括：石英坩埚，所述石英坩埚具有用于盛放原料的容纳腔；石墨坩埚，所述石墨坩埚设于所述石英坩埚外，且所述石墨坩埚的底壁与所述石英坩埚的底壁间隔设置以形成间隔空间；承载组件，所述承载组件设于所述间隔空间内，所述承载组件包括承载台，所述承载台设于所述石英坩埚的下侧，所述承载台适于在所述石英坩埚变形时承载所述石英坩埚且朝向所述石墨坩埚的内侧壁移动；支撑件，所述支撑件承载所述石英坩埚，且沿所述承载组件的周向设置，所述支撑件中设有移动件，所述移动件的一端与所述承载台相抵，当所述石英坩埚变形时，所述移动件适于在所述承载台移动的推力作用下支撑所述石英坩埚以使所述石英坩埚向所述容纳腔方向形成凸起。2.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特征在于，所述承载台包括多个承载件，多个所述承载件沿所述石英坩埚的周向间隔设置，多个所述承载件共同限定出空腔，所述承载件与所述移动件止抵，所述承载组件还包括：承载座，所述承载座位于所述承载台的上侧，所述承载座的横截面积向下逐渐减小且下端位于所述空腔内，当所述石英坩埚变形时，所述承载座受所述石英坩埚的重量向下移动以推动多个所述承载件朝向所述石墨坩埚的内侧壁移动。3.根据权利要求2所述的坩埚组件，其特征在于，所述石英坩埚包括第一气泡层和第一透明层，所述第一气泡层位于所述第一透明层的外侧，所述移动件包括第二气泡层和第二透明层，所述第二气泡层位于所述第二透明层的外侧。4.根据权利要求1所述的坩埚组件，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈俊宏，
申请(专利权)人：徐州鑫晶半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：