磁控溅射设备及导向架制造技术

技术编号:35294939 阅读:15 留言:0更新日期:2022-10-22 12:42
本实用新型专利技术涉及一种磁控溅射设备及导向架,当将托盘放置在承托件上时,防尘套至少部分与托盘的侧壁相抵触配合,从而在托盘移动过程中利用防尘套与外圈相对内圈的转动以对托盘进行导向,能够降低托盘与架本体之间的摩擦力,使得托盘的移动更加顺畅与省力。另外,将外圈和内圈安装在防尘腔内,从而能够避免或减轻粉尘进入外圈与内圈之间,进而能够避免出现卡顿或卡死的问题,保证托盘运动的顺畅性和连续性,能够提高溅射镀膜的均匀性,保证镀膜品质,并且,不需进行停机,生产效率高。生产效率高。生产效率高。

【技术实现步骤摘要】
磁控溅射设备及导向架


[0001]本技术涉及磁控溅射
,特别是涉及一种磁控溅射设备及导向架。

技术介绍

[0002]太阳能电池片、芯片等半导体器件生产过程中通常会使用磁控溅射设备,利用磁控溅射设备能够进行透明导电薄膜的制备。具体地,在真空腔内磁控溅射ITO(Indium tin oxide,氧化铟锡)靶材,ITO颗粒在磁场作用下沉积在电池片上。因此,真空腔内的粉尘较多,极易出现导向轮卡顿或卡死的问题,影响镀膜质量。

技术实现思路

[0003]基于此,有必要针对导向轮卡顿或卡死的问题,提供一种磁控溅射设备及导向架。
[0004]其技术方案如下:
[0005]一方面,提供了一种导向架,包括:
[0006]架本体;
[0007]承托件,所述承托件与所述架本体转动连接,所述承托件的转动轴线沿水平方向延伸;
[0008]导向轴承,所述导向轴承包括转动连接的内圈和外圈,所述内圈与所述架本体连接,所述外圈的转动轴线沿竖直方向延伸,且所述外圈至少部位设置于所述承托件的上方;及
[0009]防尘套,所述防尘套设于具有下端开口的防尘腔,所述外圈通过所述下端开口设置于所述防尘腔内,且所述防尘套与所述外圈连接。
[0010]下面进一步对技术方案进行说明:
[0011]在其中一个实施例中,所述导向架还包括阻隔件,所述阻隔件套设于所述架本体,且所述阻隔件位于所述下端开口的下方并与所述防尘套以预设间距间隔设置。
[0012]在其中一个实施例中,所述架本体设有轴肩,所述阻隔件套设于所述轴肩处,所述架本体还设有限位通孔,所述导向架还包括限位件,所述限位件插设于所述限位通孔处以对所述阻隔件进行限位。
[0013]在其中一个实施例中,所述阻隔件设置为阻隔环,所述阻隔环的外径大于或等于所述防尘套的外径。
[0014]在其中一个实施例中,所述承托件的转动轴线与所述外圈的转动轴线共面。
[0015]在其中一个实施例中,所述防尘套的顶壁设有第一安装孔,所述外圈设有与所述第一安装孔对应连通的第二安装孔,所述导向架还包括紧固件,所述紧固件与所述第一安装孔及所述第二安装孔均紧固配合。
[0016]在其中一个实施例中,所述第一安装孔及所述第二安装孔均设置为螺纹孔,所述紧固件设置为螺丝,所述螺丝与所述螺纹孔螺纹配合;或所述第一安装孔设置为通孔,所述第二安装孔设置为螺纹孔,所述紧固件设置为螺丝,所述螺丝与所述螺纹孔螺纹配合。
[0017]在其中一个实施例中,所述导向架还包括垫片,所述垫片套设于所述螺丝的外侧壁并与所述防尘套的顶壁贴合。
[0018]在其中一个实施例中,所述导向架还包括卡持件,所述卡持件与所述架本体卡接配合以对所述内圈进行固定。
[0019]另一方面,提供了一种磁控溅射设备,包括托盘及所述的导向架,所述承托件用于承托所述托盘,所述托盘与所述防尘套抵触配合。
[0020]上述实施例的磁控溅射设备及导向架,当将托盘放置在承托件上时,防尘套至少部分与托盘的侧壁相抵触配合,从而在托盘移动过程中利用防尘套与外圈相对内圈的转动以对托盘进行导向,能够降低托盘与架本体之间的摩擦力,使得托盘的移动更加顺畅与省力。另外,将外圈和内圈安装在防尘腔内,从而能够避免或减轻粉尘进入外圈与内圈之间,进而能够避免出现卡顿或卡死的问题,保证托盘运动的顺畅性和连续性,能够提高溅射镀膜的均匀性,保证镀膜品质,并且,不需进行停机,生产效率高。
附图说明
[0021]构成本申请的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解,本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术,并不构成对本技术的不当限定。
[0022]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为一个实施例的磁控溅射设备的托盘与导向架的配合示意图;
[0024]图2为图1的磁控溅射设备的导向架的结构示意图;
[0025]图3为图2的导向架的导向轴承与防尘套的装配示意图;
[0026]图4为图3的导向架A

A的剖视图;
[0027]图5为图4的导向架B部分的局部放大图。
[0028]附图标记说明:
[0029]10、导向架;100、架本体;110、轴肩;120、限位通孔;200、承托件;300、导向轴承;310、内圈;320、外圈;400、防尘套;410、防尘腔;500、阻隔件;600、限位件;700、紧固件;800、垫片;900、卡持件;20、托盘。
具体实施方式
[0030]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进,因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0031]如图1所示,在一个实施例中,提供了一种磁控溅射设备,包括托盘20及导向架10。如此,将基片放置在托盘20上,托盘20在导向架10的承托以及导向作用下在真空腔内移动至ITO靶材的溅射位置,进而能够对基片进行透明导电薄膜的制备。
[0032]需要进行说明的是,磁控溅射设备还包括磁控溅射室、射频电源等部件,各个部件之间相互协同以完成对基片进行透明导电薄膜的制备,由于其可以属于现有技术,在此不再赘述。
[0033]在现有技术中,由于真空腔内的粉尘较多,托盘20在导向架10的承托和导向作用下移动时,极易出现导向轮卡顿或卡死的问题,从而影响托盘20移动的顺畅性和连续性,进而影响溅射镀膜的均匀性,影响镀膜质量;并且,导向轮发生卡顿或卡死后,还需停机打开真空腔进行维修,影响生产效率。
[0034]在一个实施例中,提供了一种导向架10,利用该导向架10对托盘20进行承托和导向,不会发生卡顿或卡死,保证托盘20运动的顺畅性和连续性,能够提高溅射镀膜的均匀性,保证镀膜品质,并且,不需进行停机,生产效率高。
[0035]如图2所示,具体地,导向架10包括架本体100、承托件200、导向轴承300及防尘套400。
[0036]其中,架本体100可以作为承托件200和导向轴承300的支撑主体和安装主体,架本体100可以采取螺接、卡接等方式安装在真空腔内。
[0037]其中,承托件200可以采取铰接等方式与架本体100实现转动连接,并且,承托件200的转动轴线沿水平方向延伸,如此,当托盘20放置在承托件200上时,承托件200能够对托盘20进行支撑,并且,托盘20移动过程中,承托件200能够相对架本体100绕自身的转动轴线转动,能够降低托盘2本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种导向架,其特征在于,包括:架本体;承托件,所述承托件与所述架本体转动连接,所述承托件的转动轴线沿水平方向延伸;导向轴承,所述导向轴承包括转动连接的内圈和外圈,所述内圈与所述架本体连接,所述外圈的转动轴线沿竖直方向延伸,且所述外圈至少部位设置于所述承托件的上方;及防尘套,所述防尘套设于具有下端开口的防尘腔,所述外圈通过所述下端开口设置于所述防尘腔内,且所述防尘套与所述外圈连接。2.根据权利要求1所述的导向架,其特征在于,所述导向架还包括阻隔件,所述阻隔件套设于所述架本体,且所述阻隔件位于所述下端开口的下方并与所述防尘套以预设间距间隔设置。3.根据权利要求2所述的导向架,其特征在于,所述架本体设有轴肩,所述阻隔件套设于所述轴肩处,所述架本体还设有限位通孔,所述导向架还包括限位件,所述限位件插设于所述限位通孔处以对所述阻隔件进行限位。4.根据权利要求2所述的导向架,其特征在于,所述阻隔件设置为阻隔环,所述阻隔环的外径大于或等于所述防尘套的外径。5.根据权利要求1至4任一项所述的导向架,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈锐范斌张天立
申请(专利权)人:中威新能源成都有限公司
类型:新型
国别省市:

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