一种低导磁率的实用型镍靶材制造技术

本实用新型专利技术公开了一种低导磁率的实用型镍靶材，包括靶芯与靶座，所述靶芯底部设有基座，所述基座两侧壁均设有两个对称设置的插孔，所述靶座两侧壁均设有开口，所述开口内垂直设置有升降螺纹杆，所述升降螺纹杆外壁螺纹连接有升降螺母，所述升降螺母上滑动贯穿有两根与插孔对应的插杆，所述插杆通过复位机构与升降螺母连接，所述开口内设有与升降螺母配合的限制机构。本实用新型专利技术通过设置升降螺纹杆、升降螺母、插杆与插孔，能利用拖拽块使插杆端部带动防脱块与插孔分离，随即解除了靶芯与靶座的固定，能随着靶芯被消耗将靶芯移出靶座，从而为使用过程提供实用性，同时利用插孔与插杆活动式卡接固定，使装置具备一定便利性。使装置具备一定便利性。使装置具备一定便利性。

【技术实现步骤摘要】
一种低导磁率的实用型镍靶材


[0001]本技术涉及镍靶材
，尤其涉及一种低导磁率的实用型镍靶材。

技术介绍

[0002]镍具有耐高温，耐腐蚀，耐磨，抗氧化(防锈)等特性，因此磁控溅射镀镍(此镀膜方式无污染)已逐渐被社会认可并投入应用。
[0003]现有技术中的靶芯与靶座之间多为固定式连接，因此靶芯在使用的时候随着靶芯的消耗其外部会发生凹陷，而其一旦发生凹陷其外壁则会低于靶座表面，使靶芯在后续使用过程中产生一定不便，因此为了保证靶芯与靶座的稳定连接以及靶芯的有效支撑使用，需要设计一种低导磁率的实用型镍靶材。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种低导磁率的实用型镍靶材。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种低导磁率的实用型镍靶材，包括靶芯与靶座，所述靶芯底部设有基座，所述基座两侧壁均设有两个对称设置的插孔，所述靶座两侧壁均设有开口，所述开口内垂直设置有升降螺纹杆，所述升降螺纹杆外壁螺纹连接有升降螺母，所述升降螺母上滑动贯穿有两根与插孔对应的插杆，所述插杆通过复位机构与升降螺母连接，所述开口内设有与升降螺母配合的限制机构，所述靶座内底壁滑动连接有两块对称设置的推板，两块所述推板均通过电动伸缩杆与靶座内壁连接。
[0007]优选地，所述复位机构包括固定于插杆端部的拖拽块，所述拖拽块与升降螺母外壁之间弹性连接有弹簧。
[0008]优选地，所述限制机构包括固定于升降螺母外壁的限位块，所述开口内壁设有与限位块配合的限位槽。
[0009]优选地，所述插杆另一端固定有防脱块，所述防脱块与插孔大小相同。
[0010]优选地，所述靶座上端面设有两个与升降螺纹杆对应的凹槽，所述凹槽内设有与升降螺纹杆端部固定连接的转动块。
[0011]本技术的有益效果：
[0012]1、通过设置升降螺纹杆、升降螺母、插杆与插孔，能利用拖拽块使插杆端部带动防脱块与插孔分离，随即解除了靶芯与靶座的固定，能随着靶芯被消耗将靶芯移出靶座，从而为使用过程提供实用性，同时利用插孔与插杆活动式卡接固定，使装置具备一定便利性，且靶芯还能通过电动伸缩杆与推板在靶座内平移，避免了镀膜过程中高速荷能粒子只在靶芯的一块区域进行轰击，从而提高靶芯利用率。
[0013]2、通过设置限位块与限位槽，升降螺纹杆在转动的时候升降螺母可以通过限位块与限位槽受到限制，不会在升降螺纹杆转动的时候跟随升降螺纹杆一起转动，从而能使升
降螺母实现在开口内进行垂直运动，从而能通过插杆与插孔配合带动靶芯远离靶座，从而适应靶芯消耗。
附图说明
[0014]图1为本技术提出的一种低导磁率的实用型镍靶材的靶芯立体结构示意图；
[0015]图2为本技术提出的一种低导磁率的实用型镍靶材的靶座内部结构示意图；
[0016]图3为本技术提出的一种低导磁率的实用型镍靶材的限位槽结构示意图。
[0017]图中：1靶芯、2基座、3插孔、4靶座、5开口、6升降螺纹杆、 7升降螺母、8插杆、9弹簧、10防脱块、11凹槽、12转动块、13 限位槽、14推板。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0019]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0020]参照图1
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3，一种低导磁率的实用型镍靶材，包括靶芯1与靶座 4，靶芯1底部设有基座2，基座2两侧壁均设有两个对称设置的插孔3，靶座4两侧壁均设有开口5，开口5内垂直设置有升降螺纹杆6，升降螺纹杆6外壁螺纹连接有升降螺母7，升降螺母7上滑动贯穿有两根与插孔3对应的插杆8，插杆8通过复位机构与升降螺母7 连接，复位机构包括固定于插杆8端部的拖拽块，拖拽块与升降螺母 7外壁之间弹性连接有弹簧9，在弹簧9的弹性势能作用下可以利用拖拽块带动插杆8横向移动，从而配合防脱块10进入插孔3内完成靶芯1与靶座4的稳定连接。
[0021]开口5内设有与升降螺母7配合的限制机构，限制机构包括固定于升降螺母7外壁的限位块，开口5内壁设有与限位块配合的限位槽 13，升降螺纹杆6在转动的时候其外壁的升降螺母7在限位块与限位槽13的配合下，能避免升降螺母7与升降螺纹杆6一起转动，从而完成升降螺母7在开口5内进行垂直运动。
[0022]插杆8另一端固定有防脱块10，防脱块10与插孔3大小相同，防脱块10能避免插杆8与升降螺母7发生脱离，防脱块10与插孔3 大小相同能保证通过插杆8与防脱块10固定的靶芯1的稳定性。
[0023]靶座4上端面设有两个与升降螺纹杆6对应的凹槽11，凹槽11 内设有与升降螺纹杆6端部固定连接的转动块12，设置凹槽11是为了隐藏转动块12，而转动块12的作用是带动升降螺纹杆6发生转动。
[0024]靶座4内底壁滑动连接有两块对称设置的推板14，两块推板14 均通过电动伸缩杆与靶座4内壁连接，其中一根电动伸缩杆收缩而另一根伸长即可利用推板14带动靶芯1在靶座4内平移，避免了镀膜过程中高速荷能粒子只在靶芯1的一块区域进行轰击，使得靶芯1其他区域都能够被高速荷能粒子轰击，进而提高了靶芯1的利用率。
[0025]本技术使用时，拖拽托抓块避免其对靶芯1造成阻碍，随后将靶芯1放入靶座4中，利用转动块12带动升降螺纹杆6转动，从而调节升降螺母7移动至与插孔3对应，此时松开拖拽块，在弹簧9 的弹性势能作用下可以利用拖拽块带动插杆8横向移动，从而配合防脱块10进入插孔3内完成靶芯1与靶座4的稳定连接，靶芯1在使用过程中会发生消耗，利用转动块12带动升降螺纹杆6转动可以通过升降螺母7、插杆8带动靶芯1与靶座4脱离，从而将靶芯1有效部位伸出靶座4继续使用；
[0026]由于镍具有很好的导磁性，因此在磁控溅射设备上使用时安装靶材极其不方便且会造成磁场短路，从而出现被镀膜层结构不致密，附着力差等缺点，目前采取的办法是减低靶材厚度，提高设备磁场强度，使之磁场尽可能的穿透靶面，这既降低了靶材的利用率，同时为了提高磁通量又给设备制造增加了难度，因此可以在靶芯1内掺杂钨元素，并使钨元素的含量大于6％，就能使靶芯1导磁率变为零，值得注意的是掺杂五元素粉末经需要通过混合后再充分搅拌压制烧结成靶材，因而其在使用时不会造成磁场短路，从而不会产生被镀膜层结构不致密、附着力差等缺点，同时钨元素还具备较高的耐磨性，能提高装置的耐磨性，值得注意的是，掺杂的钨元素还可以是钒元素，当钒本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低导磁率的实用型镍靶材，包括靶芯(1)与靶座(4)，其特征在于，所述靶芯(1)底部设有基座(2)，所述基座(2)两侧壁均设有两个对称设置的插孔(3)，所述靶座(4)两侧壁均设有开口(5)，所述开口(5)内垂直设置有升降螺纹杆(6)，所述升降螺纹杆(6)外壁螺纹连接有升降螺母(7)，所述升降螺母(7)上滑动贯穿有两根与插孔(3)对应的插杆(8)，所述插杆(8)通过复位机构与升降螺母(7)连接，所述开口(5)内设有与升降螺母(7)配合的限制机构,所述靶座(4)内底壁滑动连接有两块对称设置的推板(14)，两块所述推板(14)均通过电动伸缩杆与靶座(4)内壁连接。2.根据权利要求1所述的一种低导磁率的实用型镍靶材，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨懿，杨荣春，
申请(专利权)人：上海博译金属有限公司，
类型：新型
国别省市：