一种挡板可调节的镀膜设备制造技术

本申请涉及一种挡板可调节的镀膜设备，涉及镀膜技术领域，其包括机体，固定于机体的真空室，设置于真空室内的布气管道、挡板、玻璃基板及阴极靶材，所述挡板包括两长度方向与玻璃基板运输方向垂直的第一横板及两长度方向与玻璃基板运输方向平行的第二横板，所述第一横板与第二横板配合形成供粒子穿过的空间，所述真空室设置有用于调节第一横板与第二横板位置的第一滑移组件，所述真空室设置有用于驱动第一横板与第二横板滑移的驱动组件。本申请具有便于对挡板进行调整的效果。有便于对挡板进行调整的效果。有便于对挡板进行调整的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种挡板可调节的镀膜设备


[0001]本申请涉及镀膜
，尤其是涉及一种遮板可挡板的镀膜设备。

技术介绍

[0002]磁控溅射技术是一种常用的物理气相沉积方法，在现代工业镀膜中被广泛应用。
[0003]磁控溅射镀膜设备包括真空室、真空系统，阴极靶材、溅射电源、布气管道及挡板等。进行镀膜时，利用真空系统将真空室中的气体抽出，使真空室内气压达到规定气压，而后利用进气系统向真空室内冲入氩气，之后利用溅射电源给真空室内的氩气加上高压，使阴阳极之间产生辉光放电，极间氩原子被离子化，其中带正电的离子受阴极负电位的影响加速运动而撞击阴极靶材上，从而将其中的原子等粒子溅出，溅出的原子则沉积于位于阳极的基板上而形成薄膜。
[0004]薄膜光伏组件的制作应用了磁控溅射镀膜技术。在制作薄膜光伏组件的过程中，首先利用PECVD工艺在TCO玻璃基板的镀膜面上镀一层硅层，然后利用磁控溅射技术在硅层上镀背电极。
[0005]目前在镀膜时，通常设置挡板对溅射沉淀范围进行限定，但不同尺寸的玻璃基板需要镀膜的面积不同，而挡板不易根据玻璃基板的尺寸进行调整。

技术实现思路

[0006]为了便于对挡板进行调整，本申请提供一种挡板可调节的镀膜设备。
[0007]本申请提供的一种挡板可调节的镀膜设备采用如下的技术方案：
[0008]一种挡板可调节的镀膜设备，包括机体，固定于机体的真空室，设置于真空室内的布气管道、挡板、玻璃基板及阴极靶材，所述挡板包括两第一横板及两长度方向与第一横板长度方向垂直的第二横板，所述第一横板与第二横板配合形成供粒子穿过的空间，所述真空室设置有用于调节第一横板与第二横板位置的第一滑移组件，所述真空室设置有用于驱动第一横板与第二横板滑移的驱动组件。
[0009]通过采用上述技术方案，通过第一滑移组件与驱动组件对第一横板与第二横板的位置进行调整，从而对第一横板与第二横板形成的供粒子穿过的空间的尺寸进行调整，进而使其适应不同尺寸的玻璃基板。
[0010]可选的，所述第一滑移组件包括若干连接杆、固定于连接杆一端的第一滑移块及开设于真空室侧壁供第一滑移块滑移的第一滑移槽，若干所述连接杆背离第一滑移块的一端分别固定连接于各第一横板与第二横板。
[0011]通过采用上述技术方案，第一滑移块滑移连接于第一滑移槽内，使得连接杆能够沿第一滑移槽长度方向进行稳定滑移，从而带动第一横板及第二横板分别进行移动。
[0012]可选的，所述驱动组件包括固定于连接杆靠近第一滑移块一端侧壁的齿条、转动连接于真空室侧壁的驱动杆、同轴固定于驱动杆一端的驱动齿轮、同轴固定于驱动杆背离驱动齿轮一端的第一斜齿轮、固定于真空室侧壁的驱动电机及同轴固定于驱动电机输出轴
的第二斜齿轮，所述齿条与驱动齿轮啮合，所述第一斜齿轮与第二斜齿轮啮合。
[0013]通过采用上述技术方案，驱动电机转动通过第一斜齿轮与第二斜齿轮驱动传导带动驱动杆转动，从而带动驱动齿轮转动，使得齿条移动并带动连接杆移动。
[0014]可选的，所述齿条的锯齿面背离真空室侧壁设置，所述齿条靠近真空室侧壁的一侧与真空室侧壁之间设置有第二滑移组件。
[0015]通过采用上述技术方案，第二滑移组件提升齿条移动时的稳定性。
[0016]可选的，所述第二滑移组件包括固定于齿条靠近真空室侧壁一侧的第二滑移块及开设于真空室侧壁的第二滑移槽，所述第二滑移块滑移连接于滑移槽内，所述第二滑移块的滑移方向与第一滑移块的滑移方向平行。
[0017]通过采用上述技术方案，第二滑移块滑移连接于第二滑移槽，使得齿条稳定移动。
[0018]可选的，所述布气管道包括第一进气管与第二进气管，所述第一进气管相对设置于玻璃基板的两侧且朝向玻璃基板的中心设置，所述第二进气管相对设置于阴极靶材的两侧且朝向阴极靶材的中心设置。
[0019]通过采用上述技术方案，使得镀膜过程中，既能减少阴极靶材表面生成反应生成化合物，减少膜层的缺陷，又能使得等离子体分布更加均匀，使得膜厚均匀性更好控制，从而提高薄膜的质量。
[0020]可选的，若干所述连接杆背离第一滑移块的一端与第一横板之间设置有安装组件，若干所述连接杆背离第一滑移块的一端与第二横板之间设置有安装组件。
[0021]通过采用上述技术方案，使得第一横板与第二横板便于安装与拆卸，便于定期对第一横板与第二横板进行清理。
[0022]可选的，所述安装组件包括固定于连接杆背离第一滑移块一端的安装块、开设于第一横板与第二横板靠近连接杆一侧的安装槽及固定螺钉，所述固定螺钉螺纹穿设于安装块，所述固定螺钉的螺纹端螺纹连接于安装槽侧壁
[0023]通过采用上述技术方案，安装块置于安装槽内，便于安装时第一横板与第二横板的定位，固定螺钉便于第一横板与第二横板的安装固定与拆卸。
[0024]综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
[0025]1.通过第一滑移组件与驱动组件对第一横板与第二横板的位置进行调整，从而对第一横板与第二横板形成的供粒子穿过的空间的尺寸进行调整，进而使其适应不同尺寸的玻璃基板；
[0026]2.通过设置第一进气管与第二进气管，使得镀膜过程中，既能减少阴极靶材表面生成反应生成化合物，减少膜层的缺陷，又能使得等离子体分布更加均匀，使得膜厚均匀性更好控制，从而提高薄膜的质量。
附图说明
[0027]图1是本申请实施例的整体结构示意图。
[0028]图2是本申请实施例中真空室的内部结构示意图。
[0029]图3是本申请实施例中第一滑移组件、驱动组件以及第二滑移组件的结构示意图。
[0030]图4是本申请实施例中安装组件的结构示意图。
[0031]附图标记说明：
[0032]1、机体；2、真空室；3、布气管道；31、第一进气管；32、第二进气管；4、挡板；41、第一横板；42、第二横板；5、玻璃基板；6、阴极靶材；7、第一滑移组件；71、连接杆；72、第一滑移块；73、第一滑移槽；8、驱动组件；81、齿条；82、驱动杆；83、驱动齿轮；84、第一斜齿轮；85、驱动电机；86、第二斜齿轮；9、第二滑移组件；91、第二滑移块；92、第二滑移槽；10、安装组件；101、安装块；102、安装槽；103、固定螺钉。
具体实施方式
[0033]以下结合附图1
‑
4对本申请作进一步详细说明。
[0034]本申请实施例公开一种挡板4可调节的镀膜设备。参照图1与图2，包括机体1，通过螺钉固定于机体1的真空室2，设置于真空室2内的布气管道3、挡板4、玻璃基板5及阴极靶材6，挡板4包括两长度方向与玻璃基板5运输方向平行的第一横板41与两长度方向与玻璃基板5运输方向垂直的第二横板42，第二横板42位于第一横板41的上方，且第二横板42的下表面与第一横板41的上表面接触，两第一横板41与两第二横板42配合形成供粒子穿过呈矩形的空间，真空室2内设置有用于调节第一横板41与第二本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种挡板可调节的镀膜设备，包括机体(1)，固定于机体(1)的真空室(2)，设置于真空室(2)内的布气管道(3)、挡板(4)、玻璃基板(5)及阴极靶材(6)，其特征在于：所述挡板(4)包括两第一横板(41)及两长度方向与第一横板(41)长度方向垂直的第二横板(42)，所述第一横板(41)与第二横板(42)配合形成供粒子穿过的空间，所述真空室(2)设置有用于调节第一横板(41)与第二横板(42)位置的第一滑移组件(7)，所述真空室(2)设置有用于驱动第一横板(41)与第二横板(42)滑移的驱动组件(8)。2.根据权利要求1所述的一种挡板可调节的镀膜设备，其特征在于：所述第一滑移组件(7)包括若干连接杆(71)、固定于连接杆(71)一端的第一滑移块(72)及开设于真空室(2)侧壁供第一滑移块(72)滑移的第一滑移槽(73)，若干所述连接杆(71)背离第一滑移块(72)的一端分别固定连接于各第一横板(41)与第二横板(42)。3.根据权利要求2所述的一种挡板可调节的镀膜设备，其特征在于：所述驱动组件(8)包括固定于连接杆(71)靠近第一滑移块(72)一端侧壁的齿条(81)、转动连接于真空室(2)侧壁的驱动杆(82)、同轴固定于驱动杆(82)一端的驱动齿轮(83)、同轴固定于驱动杆(82)背离驱动齿轮(83)一端的第一斜齿轮(84)、固定于真空室(2)侧壁的驱动电机(85)及同轴固定于驱动电机(85)输出轴的第二斜齿轮(86)，所述齿条(81)与驱动齿轮(83)啮合，所述第一斜齿轮(84)与第二斜齿轮(86)啮合。4.根据权利要求3所述的一种挡板可调节的镀膜设备，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶利松，
申请(专利权)人：浙江合特光电有限公司，
类型：新型
国别省市：