用于检测激光发射器稳定性的方法、设备和介质技术

本公开的实施例涉及一种用于检测激光发射器稳定性的方法，包括：获取用于检测所述激光发射器的第一参数和第二参数；根据第一检测模型，调整所述第一参数，从而确定多个第一检测模型检测采样点；在多个第一检测模型检测采样点中的每个采样点上，步进变化所述第二参数，从而在每个采样点上获取对应于第二参数的多个第一边模抑制比；根据第二检测模型，调整所述第二参数，从而确定多个第二检测模型检测采样点；在多个第二检测模型检测采样点中的每个采样点上，步进变化所述第一参数，从而在每个采样点上获取对应于第一参数的多个第二边模抑制比；以及基于第一边模抑制比和第二边模抑制比，确定所述激光发射器的稳定性。确定所述激光发射器的稳定性。确定所述激光发射器的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
用于检测激光发射器稳定性的方法、设备和介质


[0001]本公开的实施例总体涉及光通信领域，并且更具体地涉及一种用于检测激光发射器稳定性的方法、设备和介质。

技术介绍

[0002]随着5G商用的大规模推广和光传感器在物联网领域的大量应用，对信息传输速率要求越来越高，因此对半导体激光发射器件（以下简称激光发射器）的波长稳定性要求非常严格。激光发射器尤其不能出现跳模和边模抑制比（SMSR）异常，这就需要激光发射器在工厂生产环节就能筛选出波长不稳定产品。
[0003]传统基于固定温度或固定电流测试激光发射器波长的检测方法不能完全检出波长不良产品。
[0004]综上所述传统的用于检测激光发射器稳定性的方案所存在的不足之处在于：依赖固定环境参数，在单个测试条件下不能完全检出波长不良的激光发射器。

技术实现思路

[0005]针对上述问题，本公开提供了一种用于检测激光发射器稳定性的方法、设备和介质。基于以上方案，可以基于不同环境参数，在动态调整的测试条件下检测激光发射器，从而检出所有波长不良或边模抑制比异常的激光发射器。
[0006]根据本公开的第一方面，提供了用于检测激光发射器稳定性的方法，包括：获取用于检测所述激光发射器的第一参数和第二参数；根据第一检测模型，调整所述第一参数，从而确定多个第一检测模型检测采样点；在多个第一检测模型检测采样点中的每个采样点上，步进变化所述第二参数，从而在每个采样点上获取对应于第二参数的多个第一边模抑制比；根据第二检测模型，调整所述第二参数，从而确定多个第二检测模型检测采样点；在多个第二检测模型检测采样点中的每个采样点上，步进变化所述第一参数，从而在每个采样点上获取对应于第一参数的多个第二边模抑制比；以及基于第一边模抑制比和第二边模抑制比，确定所述激光发射器的稳定性。
[0007]根据本公开的第二方面，提供了一种计算设备，包括：至少一个处理器；以及与至少一个处理器通信连接的存储器；存储器存储有可被至少一个处理器执行的指令，指令被至少一个处理器执行，以使至少一个处理器能够执行本公开的第一方面的方法。
[0008]在本公开的第三方面中，提供了一种存储有计算机指令的非瞬时计算机可读存储介质，其中计算机指令用于使计算机执行本公开的第一方面的方法。
[0009]应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
[0010]结合附图并参考以下详细说明，本公开各实施例的上述和其他特征、优点及方面
将变得更加明显。在附图中，相同或相似的附图标注表示相同或相似的元素。
[0011]图1示出了用于实现根据本专利技术的实施例的用于检测激光发射器稳定性的方法的系统的示意图。
[0012]图2示出了用于实现根据本专利技术的实施例的用于检测激光发射器稳定性的系统的示意图。
[0013]图3示出了根据本公开的实施例的用于检测激光发射器稳定性的方法300的流程图。
[0014]图4示出了根据本公开的实施例的用于检测激光发射器稳定性的方法400的流程图。
[0015]图5示出了可以用来实施本公开内容的实施例的示例电子设备500的示意性框图。
具体实施方式
[0016]以下结合附图对本公开的示范性实施例做出说明，其中包括本公开实施例的各种细节以助于理解，应当将它们认为仅仅是示范性的。因此，本领域普通技术人员应当认识到，可以对这里描述的实施例做出各种改变和修改，而不会背离本公开的范围和精神。同样，为了清楚和简明，以下的描述中省略了对公知功能和结构的描述。
[0017]在本文中使用的术语“包括”及其变形表示开放性包括，即“包括但不限于”。除非特别申明，术语“或”表示“和/或”。术语“基于”表示“至少部分地基于”。术语“一个示例实施例”和“一个实施例”表示“至少一个示例实施例”。术语“另一实施例”表示“至少一个另外的实施例”。术语“第一”、“第二”等等可以指代不同的或相同的对象。下文还可能包括其他明确的和隐含的定义。
[0018]传统基于固定温度或固定电流测试激光发射器波长的检测方法不能完全检出波长不良产品。
[0019]综上所述传统的用于检测激光发射器稳定性的方案所存在的不足之处在于：依赖固定环境参数，在单个测试条件下不能完全检出波长不良的激光发射器。
[0020]为了至少部分地解决上述问题以及其他潜在问题中的一个或者多个，本公开的示例实施例提出了一种用于检测激光发射器稳定性的方案。本专利技术提出的检测激光发射器稳定性的方案可以基于不同环境参数，在动态调整的测试条件下检测激光发射器，从而检出所有波长不良或边模抑制比异常的激光发射器。
[0021]图1示出了用于实现根据本专利技术的实施例的用于检测激光发射器稳定性的方法的系统的示意图。如图1中所示，系统包括计算设备110和激光发射器运行管理设备130和网络140。计算设备110、激光发射器运行管理设备130可以通过网络140（例如，因特网）进行数据交互。
[0022]激光发射器运行管理设备130，其例如可以存储有一份或多份激光发射器环境数据。激光发射器运行管理设备例如而不限于是：电子计算机、网络服务器、存储计算器等。计算设备110可以接收来自用户或者激光发射器运行管理设备130的激光发射器环境数据。通过应用本公开公开提供的方法，计算设备110可以对激光发射器进行测试。
[0023]计算设备110可以具有一个或多个处理单元，包括诸如GPU、FPGA和ASIC等的专用处理单元以及诸如CPU的通用处理单元。另外，在每个计算设备110上也可以运行着一个或
多个虚拟机。在一些实施例中，计算设备110与激光发射器运行管理设备130可以集成在一起，也可以是彼此分立设置。在一些实施例中，计算设备110例如包括获取模块112、预处理模块114、绘制模块116、控制点模块118、平滑处理模块120。
[0024]获取模块112，获取模块112配置成获取用于检测所述激光发射器的第一参数和第二参数。
[0025]调整模块114，调整模块114配置成根据第一检测模型，调整所述第一参数，从而确定多个第一检测模型检测采样点。
[0026]变化模块116，调整模块116配置成在多个第一检测模型检测采样点中的每个采样点上，步进变化所述第二参数，从而在每个采样点上获取对应于第二参数的多个第一边模抑制比。
[0027]调整模块114还配置成根据第二检测模型，调整所述第二参数，从而获取多个第二检测模型检测采样点。
[0028]调整模块116还配置成在多个第二检测模型检测采样点中的每个采样点上，步进变化所述第一参数，从而在每个采样点上获取对应于第一参数的多个第二边模抑制比。
[0029]确定模块118，确定模块118配置成基于第一边模抑制比和第二边模抑制比，确定所述激光发射器的稳定性。
[0030]图2示出了用于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.用于检测激光发射器稳定性的方法，包括：获取用于检测所述激光发射器的第一参数和第二参数；根据第一检测模型，调整所述第一参数，从而确定多个第一检测模型检测采样点；在多个第一检测模型检测采样点中的每个采样点上，步进变化所述第二参数，从而在每个采样点上获取对应于第二参数的多个第一边模抑制比；根据第二检测模型，调整所述第二参数，从而确定多个第二检测模型检测采样点；在多个第二检测模型检测采样点中的每个采样点上，步进变化所述第一参数，从而在每个采样点上获取对应于第一参数的多个第二边模抑制比；以及基于第一边模抑制比和第二边模抑制比，确定所述激光发射器的稳定性。2.根据权利要求1所述的方法，其中基于第一边模抑制比和第二边模抑制比，确定所述激光发射器的稳定性包括：响应于所述第一边模抑制比和所述第二边模抑制比中任一边模抑制比低于边模抑制比阈值，则所述激光发射器不稳定。3.根据权利要求1所述的方法，还包括：将所获取的第一边模抑制比作为输入特征，训练所述第一检测模型；将所获取的第二边模抑制比作为输入特征，训练所述第二检测模型；基于所训练的第一检测模型，确定所述激光发射器的稳态温度
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电流
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边模抑制比曲线；以及基于所训练的第二检测模型，确定所述激光发射器的稳态电流
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温度
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边模抑制比曲线。4.根据权利要求3所述的方法，还包括：基于所确定的稳态TIS曲线，确定第一边模抑制比阈值；基于所确定的稳态ITS曲线，确定...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁家勇，崔晓磊，赵忠锐，张丽，
申请(专利权)人：大连优迅科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：