选择光阻模型的方法、设备和计算机可读存储介质技术

本发明专利技术涉及半导体制造技术领域，并且更具体地，涉及选择光阻模型的方法、设备和计算机可读存储介质。该方法包括：收集光阻模型在掩模版图上的采样位置；获得采样位置上多种类型信号的信号量；针对每一类型的信号，根据信号量和采样位置的坐标获得效应信号；基于所获得的效应信号，计算该类型的信号的总信号值；基于每一类型的信号的总信号值，计算该类型的信号的效应贡献占比；根据效应贡献占比选择光阻模型。本发明专利技术的实施例能够有效地分析各类信号的效应贡献占比利于用户分析当前模型的行为，迭代获得更优的模型。迭代获得更优的模型。迭代获得更优的模型。

【技术实现步骤摘要】
选择光阻模型的方法、设备和计算机可读存储介质


[0001]本专利技术的实施例主要涉及半导体制造
，并且更具体地，涉及选择光阻模型的方法、设备和计算机可读存储介质。

技术介绍

[0002]OPC（光学邻近校正）是一种光刻增强技术，OPC主要在半导体芯片的生产过程中使用，目的是为了保证曝光后硅片上得到的实际图形与设计图形一致。若不做OPC光学邻近修正实际曝光后得到的图形将与设计图形有显著差异，如实际线宽度比设计的窄或宽，这些都可以通过改变掩模版来补偿成像；其他的失真，如圆角、光强度，受光学工具分辨率的制约，更加难以弥补。这些失真如果不纠正，可能大大改变生产出来的电路的电气性能。OPC光学邻近修正通过移动掩模版上图形的边缘或添加额外的多边形来补偿这些失真。
[0003]OPC光阻模型，会模拟光刻机中发生的一系列光学效应和光阻效应。其中，光阻效应还分为物理/化学等多个不同的效应，分别存在对应的效应信号。在这些效应的共同作用下，OPC光阻模型得以尽可能仿真光刻机中，从光源到掩模，过棱镜，进光阻的整个过程的实际行为。然而，在现有技术中，各个效应在总效应中的占比分成并不能直观地展示给用户。对用户来说，各个效应在总效应中的占比完全是未知的，这非常不利于用户分析当前模型的行为，迭代获得更优模型，掌握积累各个效应的相关经验。

技术实现思路

[0004]根据本专利技术的示例性实施例，提供了一种用于选择光阻模型的方案。
[0005]在本专利技术的第一方面中，提供了一种选择光阻模型的方法，该方法包括：收集光阻模型在掩模版图上的采样位置；获得采样位置上多种类型信号的信号量；针对每一类型的信号，根据信号量和采样位置的坐标获得效应信号；基于所获得的效应信号，计算该类型的信号的总信号值；基于每一类型的信号的总信号值，计算该类型的信号的效应贡献占比；根据效应贡献占比选择光阻模型。
[0006]在本专利技术的第二方面中，提供了一种电子设备，包括：处理器；以及与处理器耦合的存储器，存储器具有存储于其中的指令，该指令在被处理器执行时使设备执行动作。这些动作包括：收集光阻模型在掩模版图上的采样位置；获得采样位置上的多种类型信号的信号量；针对每一类型的信号，根据信号量和采样位置的坐标获得效应信号；基于所获得的效应信号，计算该类型的信号的总信号值；基于每一类型的信号的总信号值，计算该类型的信号的效应贡献占比；根据效应贡献占比选择光阻模型。
[0007]在本专利技术的第三方面中，提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序在被处理器执行时实现根据本专利技术的第一方面的方法。
[0008]在一些实施例中，根据效应贡献占比选择光阻模型包括：确定多种类型信号中的目标信号；基于该目标信号的效应贡献占比，选择光阻模型。
[0009]在一些实施例中，基于目标信号的效应贡献占比，选择光阻模型，包括：在目标信
号的效应贡献占比大于或等于第一预设阈值时，选择光阻模型。
[0010]在另一些可替换的实施例中，基于目标信号的效应贡献占比，选择光阻模型，包括：基于以下公式：， ，以目标信号的效应贡献占比为输入值，计算预设函数的函数值；在该函数值小于或等于第二预设阈值时，选择光阻模型，其中，Rmse为均方根误差，是光阻模型在每一采样位置的关键尺寸仿真值与历史真值的偏差的平方和与采样次数的比值的平方根；Rmse_weight为均方根误差权重；NT1为目标信号的效应贡献占比，Da和Db为预设的常数，F(NT1)为指数函数，F(NT1)_weight为指数函数的权重。
[0011]在一些实施例中，针对每一类型的信号，根据信号量和采样位置获得效应信号包括：确定采样位置的两端的关键尺寸（CD）位置的位置坐标；基于所确定的位置坐标和每一类型的信号的信号量，形成与该类型的信号对应的三维信号量矩阵；基于每一三维信号量矩阵，获得该类型的信号对应采样位置的效应信号。
[0012]在一些实施例中，基于所确定的位置坐标和每一类型的信号的信号量，形成与该类型的信号对应的三维信号量矩阵，包括：获得采样位置的关键尺寸（CD）的中心位置；基于中心位置形成矩形的矩阵范围；等间距划分所述矩阵范围，形成多个参考点坐标；基于每一类型的信号，获取与多个参考点坐标对应的信号量；基于所获取的信号量和矩阵范围形成该类型的信号的三维信号量矩阵。
[0013]在一个优先的实施例中，基于每一三维信号量矩阵，获得该类型的信号对应采样位置的效应信号，包括：对于每一采样位置，通过插值算法基于参考点坐标进行插值拟合，以获得采样位置的两端分别对应的信号量；以该两端分别对应的信号量的平均值作为该采样位置的效应信号。
[0014]在一些实施例中，基于所获得的效应信号，计算该类型的信号的总信号值包括：针对每一类型的信号，获得所有采样位置的效应信号的总和；将效应信号的总和作为该类型的信号的总信号值。
[0015]在一些实施例中，基于每一类型的信号的总信号值，计算该类型的信号的效应贡献占比包括：基于总信号值，计算每一类型的信号的贡献值；基于每一类型的信号的贡献值，计算所有信号的总贡献值；将每一类型的信号的贡献值与总贡献值的比值作为该类型的信号的效应贡献占比。
[0016]在一些实施例中，基于总信号值，计算每一类型的信号的贡献值，包括：基于光阻模型，确定每一类信号的效应系数；计算每一类型的信号的效应系数与总信号值的乘积，以该乘积作为该类型的信号的贡献值。
[0017]在一些实施例中，目标信号为光学类信号。
[0018]在一些实施例中，获得目标信号的目标信号量包括：至少根据光源类型，掩模衍射
和透镜传递函数基于傅里叶运算获得目标信号量。
[0019]提供专利技术的内容部分是为了简化的形式来介绍对概念的选择，它们在下文的具体实施方式中将被进一步描述。本
技术实现思路
部分无意标识本
技术实现思路
的关键特征或主要特征，也无意限制本
技术实现思路
的范围。应当理解，
技术实现思路
部分中所描述的内容并非旨在限定本专利技术的实施例的关键或重要特征，亦非用于限制本专利技术的范围。本专利技术的其它特征将通过以下的描述变得容易理解。
附图说明
[0020]通过参考附图阅读下文的详细描述，本专利技术的实施例的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例而非限制性的方式示出了本专利技术的实施例，其中：图1示出了根据专利技术的实施例能够在其中实现的示例性环境的示意图；图2示出了根据专利技术的一些实施例的基于信号贡献占比选择光阻模型的方法的流程图；图3示出了根据本专利技术的一些实施例的掩模版图的其中一个区域的俯视图；图4示出了根据本专利技术的一些实施例光阻模型A的各类型信号的效应贡献占比分布图；图5示出了根据本专利技术的一些实施例光阻模型A的信号曲线图；图6示出了根据本专利技术的一些实施例光阻模型B的各类型信号的效应贡献占比分布图；图7示出了根据本专利技术的一些实施例光阻模型B的信号曲线图；图8示出了用来实施本专利技术的实施例的示例设备700的示意性框图。
具体实施方式
[0021]下面将参照附图更本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种选择光阻模型的方法，包括：收集光阻模型在掩模版图上的采样位置；获得所述采样位置上多种类型信号的信号量；针对每一类型的信号，根据所述信号量和所述采样位置的坐标获得效应信号；基于所获得的效应信号，计算该类型的信号的总信号值；基于每一类型的信号的所述总信号值，计算该类型的信号的效应贡献占比；根据所述效应贡献占比选择所述光阻模型。2.根据权利要求1所述的方法，根据所述效应贡献占比选择所述光阻模型包括：确定所述多种类型信号中的目标信号；基于所述目标信号的效应贡献占比，选择光阻模型。3.根据权利要求2所述的方法，基于所述目标信号的效应贡献占比，选择光阻模型，包括：在所述目标信号的效应贡献占比大于或等于第一预设阈值时，选择光阻模型。4.根据权利要求2所述的方法，基于所述目标信号的效应贡献占比，选择光阻模型，包括：基于以下公式：，，以所述目标信号的效应贡献占比为输入值，计算预设函数的函数值；在所述函数值小于或等于第二预设阈值时，选择光阻模型；其中，Rmse为均方根误差，是光阻模型在每一采样位置的关键尺寸仿真值与历史真值的偏差的平方和与采样次数的比值的平方根；Rmse_weight为均方根误差权重；NT1为目标信号的效应贡献占比；Da和Db为预设的常数，F(NT1)为指数函数，F(NT1)_weight为指数函数的权重。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，针对每一类型的信号，根据所述信号量和所述采样位置的坐标获得效应信号包括：确定所述采样位置的两端的关键尺寸（CD）位置的位置坐标；基于所确定的位置坐标和每一类型的信号的信号量，形成与该类型的信号对应的三维信号量矩阵；基于每一所述三维信号量矩阵，获得该类型的信号对应所述采样位置的效应信号。6.根据权利要求5所述的方法，其中，基于所确定的位置坐标和每一类型的信号的信号量，形成与该类型的信号对应的三维信号量矩阵，包括：获得所述采样位置的关键尺寸（CD）的中心位置；基于所述中心位置形成矩形的矩阵范围；等间距划分所述矩阵范围，形成多个参考点坐标；基于每一类型的信号，获取与多个所述参考点坐标对应的信号量；
基于所获取的信号量和所述矩阵范围形...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：全芯智造技术有限公司，
类型：发明
国别省市：