【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，尤其涉及一种测试异常的分析方法及装置、可读存储介质、终端。
技术介绍
1、晶圆制造生产流程包含的工艺步骤繁多，在发生测试异常后，溯源分析非常具有难度，却又意义重大。具体而言，当晶圆发生低良率、高缺陷或测试参数异常等测试异常问题时，往往需要通过各种分析方法找到发生低良率、高缺陷或测试参数异常的批次（lot）或晶圆（wafer）是否存在共性，以及生产过程中的量测参数、等待时间、工艺返工等是否有相关性。
2、在现有技术中，上述分析通常会自晶圆维度出发，分析发生同一问题的晶圆在其生产履历过程中的共性，例如，分析这些有问题的晶圆是否由共同的机台（equipment）或共同的腔室（chamber）或共同的工艺配方（recipe）等制造而成的，从而对确定有问题的执行机台、执行腔室或工艺配方进行调整改进。
3、然而，现有的测试异常的分析方法的准确性、可靠性和分析效率欠佳。
技术实现思路
1、本专利技术解决的技术问题是提供一种测试异常的分析方法及装置、可读存储介...
【技术保护点】
1.一种测试异常的分析方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据各个分析因子的各个配方组合的晶圆的数量及测试值均值，确定每个分析因子的异常相关指数，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述差异分析算法为ANOVA算法或Anosim算法。
4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述差异分析算法为ANOVA算法；
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，满足以下一项或多项：
6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，还包括：
7.根据权利要求6...
【技术特征摘要】
1.一种测试异常的分析方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据各个分析因子的各个配方组合的晶圆的数量及测试值均值，确定每个分析因子的异常相关指数，包括：
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述差异分析算法为anova算法或anosim算法。
4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述差异分析算法为anova算法；
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，满足以下一项或多项：
6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，还包括：
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述对各个分析因子的差异值进行归一化处理，以得到每个分析因子的归一化差异值，包括：
【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：全芯智造技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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