本发明专利技术提供了一种双柱砂箱定位装置，涉及造型机技术领域。它包括导向光轴、旋转承托组件、上辅助造型室、上造型室、下造型室、下辅助造型室和下工作台，上辅助造型室、下辅助造型室和下工作台由上至下依次与导向光轴活动连接，上辅助造型室与上机架相连接，下辅助造型室与下工作台相连接并且下工作台运动能够带动下辅助造型室同步运动，上造型室和下造型室放置在旋转承托组件上，旋转承托组件能够限制上造型室和下造型室向下移动的极限位置并且能够带动上造型室和下造型室转动，通过设置有导向光轴，上辅助造型室、下辅助造型室和下工作台都统一在导向光轴上进行导向定位，实现了高精度定位，避免合箱时上下型的产品错位，提升产品成品率。升产品成品率。升产品成品率。
【技术实现步骤摘要】
双柱砂箱定位装置
[0001]本专利技术涉及造型机
，尤其是涉及一种双柱砂箱定位装置。
技术介绍
[0002]造型机是一种用于制造砂型的铸造设备，双工位造型机是造型机的一个分类，双工位造型机由于旋转台布置的原因，其上下造型机构的导向机构通常分别设置在上机架和下机架上，通常选择在上机架和下机架上分别布置导向杆。
[0003]本申请人发现现有技术中至少存在以下技术问题：由于行程比较大，上下造型机构的导向机构在合箱的时候会产生轻微的错位现象，导致上下型的产品错位。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种双柱砂箱定位装置，以解决现有技术中存在的上下造型机构的导向机构通常分别设置在上机架和下机架上，导致在合箱时容易产生错位的技术问题。本专利技术提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供了以下技术方案：
[0006]一种双柱砂箱定位装置，包括导向光轴、旋转承托组件、上辅助造型室、上造型室、下造型室、下辅助造型室和下工作台，所述上辅助造型室、所述下辅助造型室和所述下工作台由上至下依次与所述导向光轴活动连接，所述上辅助造型室与上机架相连接，所述下辅助造型室与所述下工作台相连接并且所述下工作台运动能够带动所述下辅助造型室同步运动，所述上造型室和所述下造型室放置在所述旋转承托组件上，所述旋转承托组件能够限制所述上造型室和所述下造型室向下移动的极限位置并且能够带动所述上造型室和所述下造型室转动。
[0007]优选地，所述旋转承托组件包括旋转结构和承托结构，所述承托结构连接在所述旋转结构上，所述上造型室和所述下造型室均放置在所述承托结构上，所述旋转结构能够带动所述承托结构转动。
[0008]优选地，所述承托结构包括上旋转托架和下旋转托架，所述上造型室放置在所述上旋转托架上，所述下造型室放置在所述下旋转托架上。
[0009]优选地，所述旋转结构包括旋转轴和固定支撑，所述固定支撑连接在所述旋转轴上，所述上旋转托架和下旋转托架均与所述固定支撑相连接。
[0010]优选地，所述导向光轴的数量为两个，两个所述导向光轴平行设置，所述上辅助造型室的两端、所述下辅助造型室的两端和所述下工作台的两端均分别与两个所述导向光轴活动连接。
[0011]优选地，所述导向光轴竖直设置。
[0012]优选地，所述上造型室的数量为两个，两个所述上造型室均放置在所述上旋转托架上并且相对所述旋转轴对称设置。
[0013]优选地，所述下造型室的数量为两个，两个所述下造型室均放置在所述下旋转托架上并且相对所述旋转轴对称设置。
[0014]本专利技术的有益效果为：通过设置有导向光轴，上辅助造型室、辅助造型室和下工作台都统一在导向光轴上进行导向定位，实现了高精度定位，避免合箱时上下型的产品错位，提升了产品的成品率。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为本专利技术隐藏模具及配件的结构图；
[0017]图2为本专利技术带有模具及配件的结构图；
[0018]图中1、导向光轴；
[0019]2、旋转承托组件；21、旋转结构；211、旋转轴；212、固定支撑；22、承托结构；221、上旋转托架；222、下旋转托架；
[0020]3、上辅助造型室；
[0021]4、上造型室；
[0022]5、下造型室；
[0023]6、下辅助造型室；
[0024]7、下工作台；
[0025]81、第一调节油缸；82、第二调节油缸；
[0026]9、模具。
具体实施方式
[0027]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本专利技术的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式，都属于本专利技术所保护的范围。
[0028]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“侧向”、“长度”、“宽度”、“高度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“侧”等指示的方位或位置关系为基于附图1所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0029]在本专利技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0030]参照图1到图2,本专利技术提到了一种双柱砂箱定位装置，包括导向光轴1、旋转承托
组件2、上辅助造型室3、上造型室4、下造型室5、下辅助造型室6和下工作台7，上辅助造型室3、下辅助造型室6和下工作台7由上至下依次与导向光轴1活动连接，此处连接优选为滑动连接，导向光轴1优选具有光滑的外表面，使与其连接的结构物易于滑动，上辅助造型室3优选包括相连接的上辅助造型室本体和滑动支架，下辅助造型室6优选包括相连接的下辅助造型室本体和滑动支架，下工作台7优选包括相连接的下工作台本体和滑动支架，上辅助造型室本体、下辅助造型室本体和下工作台本体均优选通过滑动支架与导向光轴1实现滑动连接，滑动支架可套设在导向光轴1的外部，值得注意的是，导向光轴1只对上述结构物起到导向作用，在上述结构物的移动方向上并不会起到限位作用。
[0031]上辅助造型室3与上机架相连接，通过上机架实现对上辅助造型室3的限位作用，可优选通过第一调节油缸81连接上辅助造型室3与上机架，第一调节油缸81的油缸座连接在上机架上，第一调节油缸81的活塞杆连接在上辅助造型室3上，由于上机架本身结构保持固定，因此在第一调节油缸81不工作的状态下，能够保持上辅助造型室3的相对静止，同时第一调节油缸81还能够对上辅助造型室3的位置起到微调作用，以适配不同尺寸的模具，使装置具有普适性，上机架本身结构为较为常规现有技术，因此未在附图中展示，第一调节油缸81的数量优选为两个，分别连接在上辅助造型室3的两端。
[0032]下辅助造型室6与下工作台7相连接并且下工作台7运动能够带动下辅助造型室6同步运动，可优选通过第二调节油缸82连接下辅助造型室6与下工作台7，第二调节油缸82的油缸座连接在下辅助造型室6上，第二调节油缸82的活塞杆连接在下工作台7上，下工作台7的底部本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种双柱砂箱定位装置，其特征在于，包括导向光轴(1)、旋转承托组件(2)、上辅助造型室(3)、上造型室(4)、下造型室(5)、下辅助造型室(6)和下工作台(7)，其中：所述上辅助造型室(3)、所述下辅助造型室(6)和所述下工作台(7)由上至下依次与所述导向光轴(1)活动连接，所述上辅助造型室(3)与上机架相连接，所述下辅助造型室(6)与所述下工作台(7)相连接并且所述下工作台(7)运动能够带动所述下辅助造型室(6)同步运动，所述上造型室(4)和所述下造型室(5)放置在所述旋转承托组件(2)上，所述旋转承托组件(2)能够限制所述上造型室(4)和所述下造型室(5)向下移动的极限位置并且能够带动所述上造型室(4)和所述下造型室(5)转动。2.根据权利要求1所述的双柱砂箱定位装置，其特征在于：所述旋转承托组件(2)包括旋转结构(21)和承托结构(22)，所述承托结构(22)连接在所述旋转结构(21)上，所述上造型室(4)和所述下造型室(5)均放置在所述承托结构(22)上，所述旋转结构(21)能够带动所述承托结构(22)转动。3.根据权利要求2所述的双柱砂箱定位装置，其特征在于：所述承托结构(22)包括上旋转托架(221)和下旋转托架(222...
【专利技术属性】
技术研发人员：张建诗，邱玲，孙清，邱晗，
申请(专利权)人：卓杰江苏工业智能装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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