本发明专利技术公开了一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，包括载气气路D、调节气路C、工作气路B和测量气路E；载气气路D和调节气路C并接，工作气路B和测量气路E并接且均连接在载气气路D和调节气路C的输出端；所述测量气路E包括测量阀Z3和连接在测量阀Z3输出端的气体浓度测量装置5，本发明专利技术的掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，利用朗伯比尔定律对载气中Cr(CO)6含量进行检测，及时地了解LCVD载气浓度及载气中Cr(CO)6含量，当载气浓度及载气中Cr(CO)6含量降低或者升高时，可以通过调整气体配比使气体浓度在规格范围内，保证了沉积的薄膜致密性。的薄膜致密性。的薄膜致密性。
【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备
[0001]本专利技术属于掩膜版镀膜设备领域，更具体的说涉及一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备。
技术介绍
[0002]掩膜版也叫Mask或者光罩，作为一种图形的载体，通过显影蚀刻等工艺形成所需的图形，再通过曝光机将图形转移到显示基板上。在掩膜版表面一般镀有一层100nm厚度的铬(Cr)膜，由于工艺原因，部分Cr层会缺失，产生少Cr缺陷，少Cr位置会导致曝光时漏光，造成产品在使用时不需要曝光的地方产生曝光。一般地，上述这种缺陷需要是使用LCVD(Laserchemicalvapordeposition，激光化学气相沉积)设备来修补。LCVD修补空白缺陷一般是先通过加热修补材料六羰基铬(Cr(CO)6)，这种物质一般在40
°
会升华成气体，再通过氩气(Ar)作为载体和保护气，将含有Cr(CO)6的载气(载气中含有升华的Cr(CO)6和氩气)送到需要修补的缺陷处，经一束特定波长的激光照射后，Cr(CO)6气体分子发生光降解和热降解反应，形成一层100nm左右厚度的Cr膜覆盖在缺陷处，从而实现对空白缺陷的修复。
[0003]由于在Cr膜形成过程中，一些工艺参数如激光功率、反应气体温度、反应气体流量等条件非常敏感，参数的不稳定会导致形成的Cr膜不够致密，造成Cr膜轻微透光或者粘附力不佳脱落。其中含Cr(CO)6载气对薄膜的形成非常敏感，目前常规的LCVD设备气路中只有流量计监测载气流量，并不能对载气中Cr(CO)6含量进行监测，当粉罐中的Cr粉量随使用减少后，载气中Cr(CO)6含量降低时，不能及时发现，影响LCVD的沉积效果。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，利用朗伯比尔定律对载气中Cr(CO)6含量进行检测，及时地了解LCVD载气浓度及载气中Cr(CO)6含量，当载气浓度及载气中Cr(CO)6含量降低或者升高时，可以通过调整气体配比使气体浓度在规格范围内，保证了沉积的薄膜致密性，不会发生透光和脱落影响产品品质。
[0005]本专利技术技术方案一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，包括并接且均与保护气罐(1)的出口连通的载气气路(D)和调节气路(C)，还包括工作气路(B)和测量气路(E)；所述工作气路(B)和测量气路(E)并接且均连接在载气气路(D)和调节气路(C)的输出端；
[0006]所述载气气路(D)包括与保护气罐(1)的出口连接的载气流量计(F1)和连接在载气流量计(F1)后部的含铬粉罐(2)；
[0007]所述调节气路(C)包括与保护气罐(1)的出口连接的调节气流量计(F2)；
[0008]所述工作气路(B)包括镀膜阀(Z1)和与镀膜阀(Z1)出口连接的掩膜版镀膜装置(4)；镀膜阀(Z1)的进口通过第一三通(B1)与含铬粉罐(2)的出口和调节气路(C)输出端连接；所述调节气路(C)输出端通过节流阀(Z2)与第一三通(B1)连接；
[0009]所述测量气路(E)包括测量阀(Z3)和连接在测量阀(Z3)输出端的气体浓度测量装
置(5)；所述测量阀(Z3)的进口通过第二三通(B2)与载气气路(D)和调节气路(C)的输出端连接；
[0010]所述气体浓度测量装置包括一红外光源、光电倍增管检测器、由所述红外光源发射红外光的测量光路以及设置在测量光路中且被红外光穿过的气体管；所述红外光源和光电倍增管检测器分别设置在所述气体管的两侧，所述气体管上设置有测量气入口和测量气出口，经过测量阀(Z3)的测量气由所述测量气入口进入气体管，红外光源发射出的红外光被气体管内的测量气吸收后，剩余部分穿过所述气体管被所述光电倍增管检测器检测，光电倍增管检测器检测出透射光强；通过将红外光源发出的红外光的入射光强与透射光强做比值，获得被测量气吸光度；最后依据朗伯比尔定律，根据被测量气吸光度计算出测量气浓度。
[0011]优选地，所述测量光路包括第一测量光路和第二测量光路，气体管包括分别设置在第一测量光路和第二测量光路中的第一气体管和第二气体管，所述第一气体管和第二气体管参数相同；
[0012]所述红外光源后部依次设置有单色器、斩波器和第一半透半反镜，第一半透半反镜的透光路为第一测量光路，第一半透半反镜的反光路为第二测量光路；
[0013]第一测量光路中，所述第一气体管设置在第一半透半反镜的透光路上，第一气体管后部设置有第一平面镜，第一平面镜的反光路上设置有第二半透半反镜，所述光电倍增管检测器设置在第二半透半反镜的反光路上，第二半透半反镜将第一平面镜的反射光反射至光电倍增管检测器上；
[0014]第二测量光路中，第一半透半反镜的反射光路上设置有第二平面镜，第二气体管设置在第二平面镜的反射光路上，第二半透半反镜同时位于第二气体管的透光路上，第二半透半反镜透过第二气体管的透射光至光电倍增管检测器。
[0015]优选地，所述第一测量光路和第二测量光路中分别设置有第一遮光罩和第二遮光罩，所述第一遮光罩和第二遮光罩分别设置在第一气体管和第二气体管前部。
[0016]优选地，所述测量阀(Z3)的进口通过第二三通(B2)与调节气流量计(F2)出口和节流阀(Z2)远离第一三通(B1)端连接。
[0017]本专利技术技术方案的一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备的有益效果是：
[0018]1、通过增加与载气气路并接的调节气路，对载气浓度进行调节。在含铬粉罐中Cr(CO)6含量较高时，通过对调节气路中调节气流量的调节，增加调节气量，实现降低载气浓度，即对进入内的掩膜版镀膜装置中的Cr(CO)6浓度降低。在含铬粉罐中Cr(CO)6含量较低时，通过对调节气路中调节气量调节，降低调节气量，实现提高载气浓度，即通过降低调节气量，来提高进入掩膜版镀膜装置中的Cr(CO)6浓度。在含铬粉罐中载气中Cr(CO)6含量足够低时，及时的向含铬粉罐中补充Cr(CO)6，确保载气中Cr(CO)6含量在规定范围内，确保LCVD的沉积效果。
[0019]2、通过气体浓度测量装置，依据朗伯比尔定律对气体浓度进行检测，检测精度高。
附图说明
[0020]图1为本专利技术技术方案的一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备结构示意图，
[0021]图2为气体浓度测量装置结构和原理图。
具体实施方式
[0022]为便于本领域技术人员理解本专利技术技术方案，现结合说明书附图对本专利技术技术方案做进一步的说明。
[0023]如图1所示，本专利技术技术方案一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，包括并接且均与保护气罐1的出口连通的载气气路D和调节气路C，还包括工作气路B和测量气路E。工作气路B和测量气路E并接且均连接在载气气路D和调节气路C的输出端。
[0024]载气气路D包括与保护气罐1的出口连接的载气流量计F1和连接在载气流量计F1后部的含铬粉罐2。
[0025]调节气路C包括与保护气罐1的出口连本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩膜版镀膜LCVD载气浓度调节与测量设备，其特征在于，包括并接且均与保护气罐(1)的出口连通的载气气路(D)和调节气路(C)，还包括工作气路(B)和测量气路(E)；所述工作气路(B)和测量气路(E)并接且均连接在载气气路(D)和调节气路(C)的输出端；所述载气气路(D)包括与保护气罐(1)的出口连接的载气流量计(F1)和连接在载气流量计(F1)后部的含铬粉罐(2)；所述调节气路(C)包括与保护气罐(1)的出口连接的调节气流量计(F2)；所述工作气路(B)包括镀膜阀(Z1)和与镀膜阀(Z1)出口连接的掩膜版镀膜装置(4)；镀膜阀(Z1)的进口通过第一三通(B1)与含铬粉罐(2)的出口和调节气路(C)输出端连接；所述调节气路(C)输出端通过节流阀(Z2)与第一三通(B1)连接；所述测量气路(E)包括测量阀(Z3)和连接在测量阀(Z3)输出端的气体浓度测量装置(5)；所述测量阀(Z3)的进口通过第二三通(B2)与载气气路(D)和调节气路(C)的输出端连接；所述气体浓度测量装置包括一红外光源、光电倍增管检测器、由所述红外光源发射红外光的测量光路以及设置在测量光路中且被红外光穿过的气体管；所述红外光源和光电倍增管检测器分别设置在所述气体管的两侧，所述气体管上设置有测量气入口和测量气出口，经过测量阀(Z3)的测量气由所述测量气入口进入气体管，红外光源发射出的红外光被气体管内的测量气吸收后，剩余部分穿过所述气体管被所述光电倍增管检测器检测，光电倍增管检测器检测出透射光强；通过将红外光源发出的红外光的入射光强...
【专利技术属性】
技术研发人员：王亚腾，
申请(专利权)人：合肥清溢光电有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。