一种方便调整可视角度的光刻膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种方便调整可视角度的光刻膜，包括膜体，膜体的表面上设置有支撑机构，支撑机构的上端设置有欧遮挡机构，支撑机构包括基板，基板固定连接在膜体的下表面上，基板的两端均开设有插孔，两个插孔的内部均插接有插杆，两个插杆的上端固定连接有同一个压环，膜体的中心处开设有蚀刻槽，本实用新型专利技术的有益效果是：通过外部的照射装置按压两个半圆板围绕转轴转动，使半圆板盖在压环的上表面上，通过半圆板将膜体的上表面挡住，只通过两个半圆槽使照射装置与蚀刻槽对应，当启动外部照射装置时，倾斜的散射光线被半圆板挡住，使散射的光线无法照射在膜体上，防止影响制成的圆晶芯片的质量。的圆晶芯片的质量。的圆晶芯片的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种方便调整可视角度的光刻膜


[0001]本技术涉及光刻膜
，具体为一种方便调整可视角度的光刻膜。

技术介绍

[0002]光刻掩膜是光的一种掩蔽模片，其作用有类似于照相的通过它，可以使它“底下“的光剂部分成光，难溶于有机药品，一部分不感光，易溶于有机药品，以而制得选择扩散所需的窗口和互速所需的图案。
[0003]现有的光刻掩膜在使用时引导紫外光形成需要照射在圆晶上的团，通过凸透镜的缩小后照射在圆晶的表面上蚀刻出图案，但是现有的岩膜在使用无法调整其可视角度，进而导致照射的光线除紫外光外还存在其他的光线，进而导致照射在圆晶上的光线强度受到影响，进而会影响制成的圆晶芯片的质量。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种方便调整可视角度的光刻膜，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种方便调整可视角度的光刻膜，包括膜体，所述膜体的表面上设置有支撑机构，所述支撑机构的上端设置有欧遮挡机构；
[0006]所述支撑机构包括基板，所述基板固定连接在膜体的下表面上，所述基板的两端均开设有插孔，两个所述插孔的内部均插接有插杆，两个所述插杆的上端固定连接有同一个压环，所述膜体的中心处开设有蚀刻槽；
[0007]所述遮挡机构包括两个固定块，两个所述固定块对称固定连接在压环的上表面上，两个所述固定块的内部均转动连接有转轴，两个所述转轴分别固定连接在两个转槽中，两个所述转槽分别开设在两个半圆槽的弧面上，两个所述半圆板的另一侧侧壁上均开设有半圆槽，两个所述半圆板的上表面上均固定连接有第一挂钩，两个所述第一挂钩上均挂接有拉簧，两个所述拉簧的另一端分别挂接在两个第二挂钩上，两个所述第二挂钩分别固定连接在圆筒的两端内壁上，所述圆筒固定连接在压环的上表面上。
[0008]优选的，两个所述半圆槽与同一个蚀刻槽相对应。
[0009]优选的，所述插孔与插杆相匹配。
[0010]优选的，所述第一挂钩固定连接在半圆板远离圆筒的一侧上表面上。
[0011]优选的，所述第二挂钩位于转轴的上方。
[0012]优选的，所述基板的中心处开设有圆孔。
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果是：通过外部的照射装置按压两个半圆板围绕转轴转动，使半圆板盖在压环的上表面上，通过半圆板将膜体的上表面挡住，只通过两个半圆槽使照射装置与蚀刻槽对应，当启动外部照射装置时，倾斜的散射光线被半圆板挡住，使散射的光线无法照射在膜体上，防止影响制成的圆晶芯片的质量。
附图说明
[0014]图1为本技术结构示意图；
[0015]图2为本技术的俯视结构示意图；
[0016]图3为本技术的压环仰视结构示意图；
[0017]图4为本技术的遮挡机构结构示意图；
[0018]图5为本技术的半圆板结构示意图。
[0019]图中：1、膜体；2、支撑机构；21、基板；22、插孔；23、插杆；24、压环；25、蚀刻槽；26、圆孔；3、遮挡机构；31、固定块；32、转轴；33、转槽；34、半圆板；35、半圆槽；36、第一挂钩；37、拉簧；38、第二挂钩；39、圆筒。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
‑
5，本技术提供一种技术方案：一种方便调整可视角度的光刻膜，包括膜体1，膜体1的表面上设置有支撑机构2，支撑机构2的上端设置有欧遮挡机构3；
[0022]支撑机构2包括基板21，基板21固定连接在膜体1的下表面上，基板21的两端均开设有插孔22，两个插孔22的内部均插接有插杆23，两个插杆23的上端固定连接有同一个压环24，膜体1的中心处开设有蚀刻槽25，将插杆23插接在对应的插孔22中，使压环24与基板21完成固定，通过插杆23使膜体1与压环24完成对位，然后根据蚀刻槽25的位置完成外部紫外光射线的位置；
[0023]遮挡机构3包括两个固定块31，两个固定块31对称固定连接在压环24的上表面上，两个固定块31的内部均转动连接有转轴32，两个转轴32分别固定连接在两个转槽33中，两个转槽33分别开设在两个半圆槽34的弧面上，两个半圆板34的另一侧侧壁上均开设有半圆槽35，两个半圆板35的上表面上均固定连接有第一挂钩36，两个第一挂钩36上均挂接有拉簧37，两个拉簧37的另一端分别挂接在两个第二挂钩38上，两个第二挂钩38分别固定连接在圆筒39的两端内壁上，圆筒39固定连接在压环24的上表面上，通过外部的照射装置按压两个半圆板34围绕转轴32转动，使半圆板34盖在压环24的上表面上，通过半圆板34将膜体1的上表面挡住，只通过两个半圆槽35使照射装置与蚀刻槽25对应，当启动外部照射装置时，倾斜的散射光线被半圆板34挡住，使散射的光线无法照射在膜体1上，防止影响制成的圆晶芯片的质量。
[0024]两个半圆槽35与同一个蚀刻槽25相对应，进而使光线通过半圆槽35照射在蚀刻槽25上。
[0025]插孔22与插杆23相匹配，进而使压环24与基板21对位固定。
[0026]第一挂钩36固定连接在半圆板34远离圆筒39的一侧上表面上，进而使第一挂钩36拉动半圆板34远离圆筒24的一端转动。
[0027]第二挂钩38位于转轴32的上方，使半圆板24的向上转动。
[0028]基板21的中心处开设有圆孔26，方便光线照向圆晶。
[0029]具体的，使用本技术时，首先将插杆23插接在对应的插孔22中，使压环24与基板21完成固定，通过插杆23使膜体1与压环24完成对位，然后根据蚀刻槽25的位置完成外部紫外光射线的位置，完成对位后通过外部的照射装置按压两个半圆板34围绕转轴32转动，使半圆板34盖在压环24的上表面上，通过半圆板34将膜体1的上表面挡住，只通过两个半圆槽35使照射装置与蚀刻槽25对应，当启动外部照射装置时，倾斜的散射光线被半圆板34挡住，使散射的光线无法照射在膜体1上，防止影响制成的圆晶芯片的质量。
[0030]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“同轴”、“底部”、“一端”、“顶部”、“中部”、“另一端”、“上”、“一侧”、“顶部”、“内”、“前部”、“中央”、“两端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0031]此外，术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种方便调整可视角度的光刻膜，包括膜体(1)，其特征在于：所述膜体(1)的表面上设置有支撑机构(2)，所述支撑机构(2)的上端设置有欧遮挡机构(3)；所述支撑机构(2)包括基板(21)，所述基板(21)固定连接在膜体(1)的下表面上，所述基板(21)的两端均开设有插孔(22)，两个所述插孔(22)的内部均插接有插杆(23)，两个所述插杆(23)的上端固定连接有同一个压环(24)，所述膜体(1)的中心处开设有蚀刻槽(25)；所述遮挡机构(3)包括两个固定块(31)，两个所述固定块(31)对称固定连接在压环(24)的上表面上，两个所述固定块(31)的内部均转动连接有转轴(32)，两个所述转轴(32)分别固定连接在两个转槽(33)中，两个所述转槽(33)分别开设在两个半圆板(34)的弧面上，两个所述半圆板(34)的另一侧侧壁上均开设有半圆槽(35)，两个所述半圆板(34)的上表面上均固定连接有第一挂钩(36)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋福龙，王涛，
申请(专利权)人：三海威深圳新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：