保护膜组件、光掩膜版、光刻机及由其制作的产品制造技术

本发明专利技术提供了一种保护膜组件、光掩膜版、光刻机及由其制作的产品，保护膜组件适用于光掩膜版，包括保护膜和用于支撑保护膜的支撑架，支撑架包括：第一架体，第一架体设置于光掩膜版的基底上；第二架体，第二架体上安装有保护膜；其中，第一架体和第二架体可拆卸地连接。本发明专利技术的保护膜组件解决了现有技术中的光掩膜版上的保护膜不便于拆装的问题。膜版上的保护膜不便于拆装的问题。膜版上的保护膜不便于拆装的问题。

【技术实现步骤摘要】
保护膜组件、光掩膜版、光刻机及由其制作的产品


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，具体而言，涉及一种保护膜组件、光掩膜版、光刻机及由其制作的产品。

技术介绍

[0002]光刻的本质是把临时电路结构复制到之后要进行刻蚀和离子注入的硅片上，而这些临时电路结构首先会以图形的形式制作在光掩膜版(photomask)上，然后将紫外光透过光掩膜版，使光掩膜版上的图形经过曝光后转移到光刻胶上。
[0003]因此，光掩膜版必须细致地进行清洗，以便于多次重复曝光使用，以形成完美的图像。在使用光掩膜版时，存在很多可能的损伤来源，例如掉铬、表面擦伤、静电放电(ESD)和灰尘颗粒(Particle)等。在一块光掩膜版的电路图上，即使只有一个灰尘颗粒，它也会在硅片上的每个位置重复，而如果灰尘颗粒落在光掩膜版上的关键区域，就会损害电路并造成成像缺陷。
[0004]为了避免外部的颗粒或其他污染物落在光罩功能图形上，进而进一步导致晶圆良率降低，通常需要在功能图形面再蒙贴一层光罩保护膜(pellicle membrane)以保护光掩膜版的版本体表面。保护膜主要由一个极薄的透光薄膜、一个密封的光罩支撑框架(Pellicle frame)以及底胶构成，透光薄膜被紧绷在金属框架上，制作光掩膜版的最后一道工序是将金属框架通过底胶粘附在光掩膜版的版本体上，从而完成保护膜的安装，且透光薄膜大约在光掩膜版的版本体表面上方5～10mm的位置处。如果一个灰尘颗粒落到光掩膜版的版本体表面的保护膜上，来自该灰尘颗粒的光通过透镜后的聚焦点A
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距离焦平面很远，并且对于投影光学系统是不可见的，因此，保护膜可以有效保护光掩膜版上的集成电路，避免因灰尘颗粒到达光掩膜版表面而导致电路受到污染，进而导致其后黄光制程时线路断路或短路。
[0005]但是，光掩膜版的保护膜也会出现被污染的情况，保护膜被污染的具体情况如下：
[0006](1)新的光掩膜版在进厂初进行进料检验(IQC)时，偶尔会检测到有颗粒附着在光掩膜版的保护膜上。
[0007](2)当光掩膜版被频繁使用后，也会有颗粒附着在光掩膜版的保护膜上
[0008](3)光掩膜版的保护膜会由于人为因素导致保护膜上出现划痕或其它污染物。
[0009]一般情况下，出现在光掩膜版保护膜上的杂质在很大程度上难以被氮气枪吹去，这可能会对晶圆的良率下降造成一定的风险。这时，我们就需要将光掩膜版送回厂家进行重新组装，将旧的支撑框架取下，重新蒙贴新的支撑框架，并重新进行正常的出货检测，无误后，再将光掩膜版寄回客户手中。这一过程，一般需要花费大量的时间成本，将会对产品的研发进度和产量造成较大影响。
[0010]然而，在现有光掩膜版中，保护膜是通过胶合方式安装在版本体上，返厂重装时通常会出现如下缺陷：
[0011](1)底胶会出现漏气(out
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gas)问题，而漏气是造成光掩膜版上出现发雾(haze)问
题的重要原因之一。
[0012](2)在保护膜破损需要维修时，移除保护膜会使得底胶残留在光掩膜版的版本体上，在洗净残留底胶时容易造成光掩膜版和清洗机器的污染。

技术实现思路

[0013]本专利技术的主要目的在于提供一种保护膜组件、光掩膜版、光刻机及由其制作的产品，以解决现有技术中的光掩膜版上的保护膜不便于拆装的问题。
[0014]为了实现上述目的，根据本专利技术的第一个方面，提供了一种保护膜组件，适用于光掩膜版，保护膜组件包括保护膜和用于支撑保护膜的支撑架，支撑架包括：第一架体，第一架体设置于光掩膜版的基底上；第二架体，第二架体上安装有保护膜；其中，第一架体和第二架体可拆卸地连接。
[0015]进一步地，支撑架还包括：插头，设置在第一架体和第二架体中的一个上；凹槽，设置在第一架体和第二架体中的另一个上；其中，插头与凹槽之间插接配合。
[0016]进一步地，插头和凹槽之间通过按压锁扣连接，按压锁扣包括：卡槽，设置在插头上；锁扣组件，包括外壳和相对于外壳可运动地设置的锁扣，外壳设置在凹槽内，锁扣的一部分位于外壳内，锁扣的另一部分伸出外壳外；其中，通过沿靠近或远离第一架体的方向按动或松开第二架体来控制锁扣位于外壳内的长度来控制锁扣与卡槽之间的距离，以使与锁扣与卡槽卡接或分离。
[0017]进一步地，锁扣组件还包括：运动块，沿靠近或远离外壳的底部的方向可运动地设置于外壳内，锁扣设置在运动块上且相对于运动块可运动地设置；弹性件，设置于外壳内且位于运动块和外壳的底部之间；连接杆，设置于外壳内，连接杆的第一端与运动块铰接，连接杆的第二端可活动地设置于外壳内壁上的导向槽内；其中，连接杆的第二端在运动块受到的外部按压力与弹性件的弹性力的共同作用下在导向槽内往复运动，以调节锁扣位于外壳内的长度。
[0018]进一步地，卡槽和锁扣均为两个，两个卡槽分别位于插头的相对两侧，两个锁扣与两个卡槽一一对应地设置；和/或锁扣包括连接部和锁勾，锁勾通过连接部与运动块连接，锁勾朝向连接部靠近相应的卡槽的一侧凸出，以用于与卡槽卡接或分离。
[0019]进一步地，导向槽包括相连接的第一槽段和第二槽段；其中，第一槽段和第二槽段之间呈预定夹角设置，预定夹角大于0度且小于180度；沿远离外壳的底部的方向，第一槽段和第二槽段之间的距离逐渐增大；第一槽段的长度小于第二槽段的长度。
[0020]进一步地，第一架体包括沿第一方向间隔布置的两个第一边框和沿第二方向间隔布置的两个第二边框，以共同围成支撑空间；插头或凹槽设置在第一边框上；其中，第一边框在第一方向上的宽度大于第二边框在第二方向上的宽度；第一边框在第二方向上的长度大于第二边框在第一方向上的长度。
[0021]进一步地，第二架体的远离第一架体的一侧设置有安装槽，保护膜安装在安装槽内。
[0022]根据本专利技术的第二个方面，提供了一种光掩膜版，包括：基底；光罩图形，设置在基底上；保护膜组件，设置在基底上以将光罩图形罩设，保护膜组件为上述的保护膜组件。
[0023]根据本专利技术的第三个方面，提供了一种光刻机，包括上述的光掩膜版。
[0024]根据本专利技术的第四个方面，提供了一种半导体器件，由上述的光刻机制作而成。
[0025]根据本专利技术的第五个方面，提供了一种三维存储器，包括上述的半导体器件。
[0026]根据本专利技术的第六个方面，提供了一种存储系统，包括存储控制器和上述的三维存储器，三维存储器被配置为存储数据，存储控制器耦合到三维存储器并被配置为控制三维存储器。
[0027]应用本专利技术的技术方案，本专利技术的保护膜组件适用于光掩膜版，保护膜组件包括保护膜和用于支撑保护膜的支撑架，支撑架包括：第一架体，第一架体设置于光掩膜版的基底上；第二架体，第二架体上安装有保护膜；其中，第一架体和第二架体可拆卸地连接。这样，当保护膜上有无法去除的灰尘等杂质时，可以将第二架体进行快速地更换，大大节省了光掩膜版的更换保护膜的整个流程所花费的时间，相比于返厂进行重新安装的工本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种保护膜组件，其特征在于，适用于光掩膜版，所述保护膜组件包括保护膜(20)和用于支撑所述保护膜(20)的支撑架(10)，所述支撑架(10)包括：第一架体(1)，所述第一架体(1)设置于所述光掩膜版的基底(100)上；第二架体(2)，所述第二架体(2)上安装有所述保护膜(20)；其中，所述第一架体(1)和所述第二架体(2)可拆卸地连接。2.根据权利要求1所述的保护膜组件，其特征在于，所述支撑架(10)还包括：插头(3)，设置在所述第一架体(1)和所述第二架体(2)中的一个上；凹槽(4)，设置在所述第一架体(1)和所述第二架体(2)中的另一个上；其中，所述插头(3)与所述凹槽(4)之间插接配合。3.根据权利要求2所述的保护膜组件，其特征在于，所述插头(3)和所述凹槽(4)之间通过按压锁扣连接，所述按压锁扣包括：卡槽(5)，设置在所述插头(3)上；锁扣组件(6)，包括外壳(65)和相对于所述外壳(65)可运动地设置的锁扣(61)，所述外壳(65)设置在所述凹槽(4)内，所述锁扣(61)的一部分位于所述外壳(65)内，所述锁扣(61)的另一部分伸出所述外壳(65)外；其中，通过沿靠近或远离所述第一架体(1)的方向按动或松开所述第二架体(2)来控制所述锁扣(61)位于所述外壳(65)内的长度来控制所述锁扣(61)与所述卡槽(5)之间的距离，以使与所述锁扣(61)与所述卡槽(5)卡接或分离。4.根据权利要求3所述的保护膜组件，其特征在于，所述锁扣组件(6)还包括：运动块(62)，沿靠近或远离所述外壳(65)的底部的方向可运动地设置于所述外壳(65)内，所述锁扣(61)设置在所述运动块(62)上且相对于所述运动块(62)可运动地设置；弹性件(63)，设置于所述外壳(65)内且位于所述运动块(62)和所述外壳(65)的底部之间；连接杆(64)，设置于所述外壳(65)内，所述连接杆(64)的第一端与所述运动块(62)铰接，所述连接杆(64)的第二端可活动地设置于所述外壳(65)内壁上的导向槽(650)内；其中，所述连接杆(64)的第二端在所述运动块(62)受到的外部按压力与所述弹性件(63)的弹性力的共同作用下在所述导向槽(650)内往复运动，以调节所述锁扣(61)位于所述外壳(65)内的长度。5.根据权利要求4所述的保护膜组件，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：穆钰平，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：