【技术实现步骤摘要】
一种晶圆清洗设备用保护装置
[0001]本技术属于半导体晶圆清洗相关
,具体涉及一种晶圆清洗设备用保护装置。
技术介绍
[0002]晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆,在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品,钣金是一种针对金属薄板(通常在6mm以下)的综合冷加工工艺,包括剪、冲/切/复合、折、焊接、铆接、拼接、成型(如汽车车身)等,通过钣金工艺加工出的产品叫做钣金件,在晶圆的加工过程中,通常需要对晶圆进行多次的清洗,现有技术中,将晶圆放置到清洗设备的清洗台上,在清洗时无法对其进行固定,清洗完毕后,因溶剂的粘性,往往使得晶圆粘在花篮底部,不易取出。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供一种晶圆清洗设备用保护装置,以解决上述
技术介绍
中提出的技术问题。
[0004]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种晶圆清洗设备用保护装置,包括清洗台,所述清洗台上端外表面设置有支撑柱,所述支撑柱上端外表面固定连接有支撑板,所述支撑板 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶圆清洗设备用保护装置,包括清洗台(1),其特征在于:所述清洗台(1)上端外表面设置有支撑柱(2),所述支撑柱(2)上端外表面固定连接有支撑板(3),所述支撑板(3)上方设置有移动板(4),所述移动板(4)前后端靠近下端的位置均固定连接有连接件(5),所述支撑板(3)前端开设有螺纹孔(6),所述连接件(5)前端外表面与螺纹孔(6)对应位置设置有螺栓(7),所述螺栓(7)与螺纹孔(6)相互匹配且螺纹连接,所述移动板(4)一侧外表面固定连接有固定块(8),所述支撑柱(2)上端外表面中间靠近两侧的位置均开设有滑槽(9)。2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗设备用保护装置,其特征在于:所述移动板(4)下端外表面中间位置固定连接有滑块(41),所述滑块(41)与滑槽(9)相互匹配且滑块(41)...
【专利技术属性】
技术研发人员:马聪,费志明,李刚,
申请(专利权)人:苏州市相城区兴业电器成套设备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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