【技术实现步骤摘要】
一种防腐蚀的聚焦环
[0001]本技术涉及聚焦环
，具体为一种防腐蚀的聚焦环。
技术介绍
[0002]目前，在晶圆的生产流程中需采用等离子体对晶圆进行刻蚀工艺，将晶圆固定支撑在基座上，并在晶圆的侧边外环绕套设有聚焦环，在对晶圆进行刻蚀时，在晶圆上方分布用于刻蚀晶圆的反应气体，基座发射电磁波，将反应气体内的粒子转化为等离子体，并通过电场将等离子体对晶圆进行刻蚀。聚焦环采用石英或硅材质制成，其套设在晶圆的外圈，增加了晶圆的表面积，用于保护暴露在晶圆覆盖区域外的基座。
[0003]市场上的聚焦环在使用时，由于会暴露在刻蚀环境中，存在因环境中具有腐蚀性与污染性的刻蚀气体与聚焦环接触，影响聚焦环使用寿命的问题，为此，我们提出一种防腐蚀的聚焦环。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种防腐蚀的聚焦环，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种防腐蚀的聚焦环，包括基座和防护组件，所述基座的顶面中央设置有晶圆，且基座的顶面外端设置有聚焦环本体，用于...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种防腐蚀的聚焦环，包括基座（1）和防护组件（4），其特征在于，所述基座（1）的顶面中央设置有晶圆（2），且基座（1）的顶面外端设置有聚焦环本体（3），用于防腐蚀的所述防护组件（4）设置于聚焦环本体（3）的内侧，所述防护组件（4）包括拓展环（401）、环氧树脂涂层（402）和纳米陶瓷涂层（403），所述拓展环（401）的内侧设置有环氧树脂涂层（402），且环氧树脂涂层（402）的内侧设置有纳米陶瓷涂层（403），所述拓展环（401）的下端外侧与聚焦环本体（3）的内侧相啮合，且拓展环（401）的左端剖视形状呈“7”字状，所述聚焦环本体（3）的下端设置有用于高度调节的调节组件（5），且聚焦环本体（3）的外侧设置有用于冷却降温的冷却组件（6）。2.根据权利要求1所述的一种防腐蚀的聚焦环，其特征在于，所述调节组件（5）包括螺纹槽（501）、螺纹套（502）、底环（503）、定位板（504）和定位槽（505），所述螺纹槽（501）的内部安置有螺纹套（502），且螺纹套（502）的底端固定连接有底环（503），所述底环（503）的左右两端转动连接有定位板（504），所述聚焦环本体（3）的外侧下端开设有定位槽（505）。3.根据权利要求2...
【专利技术属性】
技术研发人员：邵永杰，
申请(专利权)人：杭州跨界耐磨零部件有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。