一种真空腔体用布气盒制造技术

本申请涉及硅薄膜沉积设备技术领域，且公开了一种真空腔体用布气盒，包括布气盒主体、反应仓和盖板，所述布气盒主体的侧面固接有反应仓，反应仓的上表面活动连接有盖板，盖板的上表面中心处固定安装有进气阀口，盖板的上表面一端固接有拉柄，布气盒主体的表面固定安装有抽气泵，盖板的内部开设有储气仓，盖板的下表面等距开设有气孔，反应仓的内部底端固接有固定座，固定座的内部等距横向开设有排气槽，固定座的内部中心处纵向开设有集气槽。本申请通过安装储气仓和气孔，可以使反应气体均匀的涌入到基板的表面，使沉积薄膜更均匀，通过安装滑块，可以便于对盖板进行滑动，能够便于对反应仓内部的薄膜取出。反应仓内部的薄膜取出。反应仓内部的薄膜取出。

【技术实现步骤摘要】
一种真空腔体用布气盒


[0001]本申请涉及硅薄膜沉积设备
，尤其涉及一种真空腔体用布气盒。

技术介绍

[0002]在硅薄膜制备工艺中，通常要通过等离子体增强化学气相沉积的方式进行制备。在这种PECVD工艺中，多采用平板电极和微孔式结构的布气方式，PECVD薄膜一般会通过真空布气盒进行制备，在薄膜制备时通入的反应气体在电场的作用下被分解为离子和活性基团等并沉积在基板上，最终硅薄膜会沉积在羁绊的表面。
[0003]在实现本申请过程中，专利技术人发现该技术中至少存在如下问题：现有的布气盒是直接在基板侧面进行抽气，这样基板中央不利于硅薄膜沉积的SH基团向基板四周扩散，使得处于基板四周位置的SiH2基才浓度偏大，最终会导致基板四周沉积的硅薄膜的性能与基板中间位置沉积的硅薄膜有很大差别，整块基板沉积薄膜的均匀性变差，尤其在大面积硅薄膜上表现更为明显。

技术实现思路

[0004]本申请的目的是为了解决现有技术中基板沉积薄膜不均匀，而提出的一种真空腔体用布气盒。
[0005]为了实现上述目的，本申请采用了如下技术方案：
[0006]一种真空腔体用布气盒，包括布气盒主体、反应仓和盖板，所述布气盒主体的侧面固接有反应仓，反应仓的上表面活动连接有盖板，盖板的上表面中心处固定安装有进气阀口，盖板的上表面一端固接有拉柄，布气盒主体的表面固定安装有抽气泵，盖板的内部开设有储气仓，盖板的下表面等距开设有气孔，反应仓的内部底端固接有固定座，固定座的内部等距横向开设有排气槽，固定座的内部中心处纵向开设有集气槽，固定座的上表面固接有基板，反应仓的内部开设有吸槽，吸槽的内部固定安装有连接管。
[0007]优选的，所述进气阀口的一端和储气仓的内部相连通，气孔的一端和储气仓的内部相连通，气孔的另一端延伸到盖板的下表面，反应仓的上表面和盖板的下表面均固接有密封块。
[0008]优选的，所述排气槽的一端延伸到固定座的外表面，固定座的另一端与集气槽和吸槽的内部均互相连通。
[0009]优选的，所述连接管的延伸到布气盒主体的内部，且连接管的一端与抽气泵的进气端相连。
[0010]优选的，所述盖板的下表面两端均固接有滑块，反应仓的上表面等距开设有滑槽，滑块的内部活动安装有固定杆，固定杆的外表面固定安装有滚轮，固定杆的外表面固接有连接杆，连接杆的表面固定安装有弹簧。
[0011]优选的，所述滑块和滑槽均为“T”形，且滑块的外表面滑动连接在滑槽的内部，滑槽的末端开设有斜槽，且滚轮的外表面抵靠在斜槽的内部。
[0012]优选的，所述连接杆一端的直径大于另一端直径，弹簧的一端固接在滑槽顶端的表面，弹簧的另一端固接在滑块的内部。
[0013]与现有技术相比，本申请提供了一种真空腔体用布气盒，具备以下有益效果：
[0014]1、该真空腔体用布气盒，通过安装储气仓和气孔，可以使反应气体均匀的涌入到基板的表面，并且通过安装固定座，可以精良避免当抽气泵启动时，反应仓内部气流出现紊乱而导致沉积薄膜不均匀。
[0015]2、该真空腔体用布气盒，通过安装滑块，可以便于对盖板进行滑动，能够便于对反应仓内部的薄膜取出，加强了实用性。
[0016]而且该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本申请通过安装储气仓和气孔，可以使反应气体均匀的涌入到基板的表面，使沉积薄膜更均匀，通过安装滑块，可以便于对盖板进行滑动，能够便于对反应仓内部的薄膜取出。
附图说明
[0017]图1为本申请提出的一种真空腔体用布气盒的结构示意图；
[0018]图2为本申请提出的一种真空腔体用布气盒的纵向剖视图；
[0019]图3为本申请提出的一种真空腔体用布气盒中反应仓的剖视图；
[0020]图4为图2中A处的放大图。
[0021]图中：1、布气盒主体；2、反应仓；3、盖板；4、进气阀口；5、拉柄；6、抽气泵；7、储气仓；8、气孔；9、固定座；10、基板；11、排气槽；12、集气槽；13、吸槽；14、连接管；15、滑块；16、滑槽；17、滚轮；18、固定杆；19、连接杆；20、弹簧。
具体实施方式
[0022]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0023]实施例1如图1
‑
2所示，一种真空腔体用布气盒，包括布气盒主体1、反应仓2和盖板3，布气盒主体1的侧面固接有反应仓2，反应仓2的上表面活动连接有盖板3，反应仓2的上表面和盖板3的下表面均固接有密封块，盖板3的上表面中心处固定安装有进气阀口4，盖板3的上表面一端固接有拉柄5，布气盒主体1的表面固定安装有抽气泵6。
[0024]盖板3的内部开设有储气仓7，进气阀口4的一端和储气仓7的内部相连通，盖板3的下表面等距开设有气孔8，气孔8的一端和储气仓7的内部相连通，气孔8的另一端延伸到盖板3的下表面，反应仓2的内部底端固接有固定座9，反应气体能够均匀的涌入到基板10的表面。
[0025]固定座9的内部等距横向开设有排气槽11，固定座9的内部中心处纵向开设有集气槽12，固定座9的上表面固接有基板10，反应仓2的内部开设有吸槽13，排气槽11的一端延伸到固定座9的外表面，固定座9的另一端与集气槽12和吸槽13的内部均互相连通，吸槽13的内部固定安装有连接管14，连接管14的延伸到布气盒主体1的内部，且连接管14的一端与抽气泵6的进气端相连，能够对反应仓2内部抽空的同时能够将反应仓2内部的废气排出。
[0026]实施例2在实施例1的基础上，如图1
‑
图4所示，盖板3的下表面两端均固接有滑块15，反应仓2的上表面等距开设有滑槽16，滑块15的内部活动安装有固定杆18，固定杆18的
外表面固定安装有滚轮17，滑块15和滑槽16均为“T”形，且滑块15的外表面滑动连接在滑槽16的内部，滑槽16的末端开设有斜槽，且滚轮17的外表面抵靠在斜槽的内部，便于对盖板3进行滑动，减小了摩擦力。
[0027]固定杆18的外表面固接有连接杆19，连接杆19一端的直径大于另一端直径，连接杆19的表面固定安装有弹簧20，弹簧20的一端固接在滑槽16顶端的表面，弹簧20的另一端固接在滑块15的内部，通过弹簧20的弹性，可以让滚轮17上下滑动。
[0028]工作原理，使用时，先通过抽气泵6对反应仓2的内部抽气，使反应仓2的内部呈真空状态，反应气体通过进气阀口4进入到储气仓7的内部，然后均匀从气孔8进入到反应仓2的内部，并同时涌入到基板10的表面生成覆膜，反应仓2内部生成的废气通过排气槽11进入到集气槽12的内部，然后通过集气槽12流到吸槽13的内部，最终通过连接管14从抽气泵6排出，通过安装储气仓7和气孔8，可以使反应气体均匀的涌入到基板10的表面，并且通过安装固定座9，可以精良避免当抽气泵6启动时，反应仓2内部气流出现紊乱而导致沉积薄膜不本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空腔体用布气盒，包括布气盒主体(1)、反应仓(2)和盖板(3)，其特征在于，所述布气盒主体(1)的侧面固接有反应仓(2)，反应仓(2)的上表面活动连接有盖板(3)，盖板(3)的上表面中心处固定安装有进气阀口(4)，盖板(3)的上表面一端固接有拉柄(5)，布气盒主体(1)的表面固定安装有抽气泵(6)，盖板(3)的内部开设有储气仓(7)，盖板(3)的下表面等距开设有气孔(8)，反应仓(2)的内部底端固接有固定座(9)，固定座(9)的内部等距横向开设有排气槽(11)，固定座(9)的内部中心处纵向开设有集气槽(12)，固定座(9)的上表面固接有基板(10)，反应仓(2)的内部开设有吸槽(13)，吸槽(13)的内部固定安装有连接管(14)。2.根据权利要求1所述的一种真空腔体用布气盒，其特征在于，所述进气阀口(4)的一端和储气仓(7)的内部相连通，气孔(8)的一端和储气仓(7)的内部相连通，气孔(8)的另一端延伸到盖板(3)的下表面，反应仓(2)的上表面和盖板(3)的下表面均固接有密封块。3.根据权利要求1所述的一种真空腔体用布气盒，其特征在于，所述排气槽(11)的一端延伸到固定座(9...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩万华，董彬，
申请(专利权)人：无锡升滕半导体技术有限公司，
类型：新型
国别省市：