【技术实现步骤摘要】
一种芯片封装结构及其制备方法
[0001]本专利技术涉及半导体封装
,特别是涉及一种芯片封装结构及其制备方法。
技术介绍
[0002]近年来,集成电路封装发展迅速,倒装芯片电子封装成为主流,占据了整个集成电路封装市场的60
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70%。在倒装芯片封装中,用于封装堆叠的材料之间存在较大的热膨胀系数(CTE)不匹配,如图1所示,基板101的CTE为16
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18ppm/℃,半导体芯片301(通常为硅片)的CTE为2.6
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2.8ppm/℃,用于电子封装的铜盖的CTE为18
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19ppm/℃。在倒装芯片集成电路封装组装和测试过程中,当半导体芯片301通过大规模回流焊工艺或热压缩键合工艺连接到基板101上时,倒装芯片集成电路封装往往会因为半导体芯片301和基板101之间的CTE不匹配而发生翘曲,键合在基板101下表面的器件层112也会因翘曲而出现焊点失效。同时随着半导体芯片的厚度逐渐减薄至100um以下,使得封装翘曲变得更易发生。
[0003]为了减少 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种芯片封装结构,其特征在于,包括:基板,所述基板的下表面形成有器件层及第一导电层;翘曲补偿层,所述翘曲补偿层键合于所述器件层的下表面,所述翘曲补偿层的热膨胀系数为2
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8ppm/℃;半导体芯片,所述半导体芯片键合于所述基板的上表面;电路板,所述电路板对应设置于所述基板的下方,所述电路板上表面的第二导电层与所述第一导电层对应电连接。2.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其特征在于,所述基板为有机聚合物基板,其热膨胀系数为16
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18ppm/℃;所述半导体芯片为硅晶圆,其热膨胀系数为2.6
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2.8ppm/℃;所述翘曲补偿层为玻璃、陶瓷或有机物材料。3.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其特征在于,所述器件层的间隙中形成有填充胶层,所述器件层与所述填充胶层的下表面齐平,所述翘曲补偿层键合于所述器件层与所述填充胶层的下表面。4.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其特征在于,所述翘曲补偿层的上表面形成有与所述器件层中间隙相匹配的凹凸结构,以使所述翘曲补偿层包覆所述器件层。5.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其特征在于,所述第一导电层与第二导电层通过导线进行电连接或通过金属焊球进行电连接。6.一...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨进,林正忠,
申请(专利权)人:盛合晶微半导体江阴有限公司,
类型:发明
国别省市:
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