具有独立电压和定时控制并降低功耗的双脉冲功率系统技术方案

提供了用于控制包括两个激光放电腔室的激光源的系统、设备、方法和计算机程序产品。示例激光控制系统可以包括第一脉冲动力系，该第一脉冲动力系包括被配置为生成第一谐振充电供应(RCS)输出电压的第一独立电路。第一RCS输出电压可以被配置为驱动第一激光放电腔室。示例激光控制系统还可以包括第二脉冲动力系，该第二脉冲动力系包括被配置为生成独立于第一RCS输出电压的第二RCS输出电压的第二独立电路。第二RCS输出电压可以被配置为驱动独立于第一激光放电腔室的第二激光放电腔室。第一激光放电腔室的第二激光放电腔室。第一激光放电腔室的第二激光放电腔室。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有独立电压和定时控制并降低功耗的双脉冲功率系统
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年12月31日提交的标题为“DUAL PULSED POWER SYSTEM WITH INDEPENDENT VOLTAGE AND TIMING CONTROL AND REDUCED POWERCONSUMPTION”的美国申请No.62/955,620的优先权，该美国申请通过引用被整体并入本文中。


[0003]本公开涉及用于控制在例如光刻设备和系统中使用的激光源的系统和方法。

技术介绍

[0004]光刻设备是将所需图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，图案形成装置(或者被称为掩模或掩模版)可以用于生成要在IC的单个层上形成的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或若干个裸片的部分)上。图案的转印通常经由成像到被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描仪，其中通过在给定方向(扫描方向)上通过辐射束扫描图案同时同步地平行或反平行于该扫描方向扫描目标部分来辐射每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转印到衬底。
[0005]激光源可以与光刻设备一起使用以生成用于照射图案形成装置的辐射。激光源可以包括双脉冲动力系，以驱动用于产生和放大在光刻设备中使用的激光束的两个分离的激光放电腔室。需要一种用于控制激光源及其双动力系的系统和方法。

技术实现思路

[0006]本公开描述了用于控制激光源及其动力系的系统、设备、方法和计算机程序产品的各个方面，诸如具有独立电压和定时控制并且在一些情况下降低功耗的双脉冲功率系统。在一些方面，本公开为每个动力系提供独立的电压控制。在一些方面，本公开提供了对每个脉冲动力系的独立控制以允许三种操作模式：(i)单个脉冲动力系操作；(ii)具有独立电压操作的同步双输出；或(iii)具有独立电压操作的交错双输出。在一些方面，本公开提供了单通道操作以允许“软着陆”或“跛行”性能或能力来服务一个动力系而另一动力系仍在操作中。在一些方面，本公开提供了单通道操作以允许将低的功耗和降低的寿命减少。
[0007]在一些方面，本公开描述了一种激光控制系统。该激光控制系统可以包括第一脉冲动力系，该第一脉冲动力系包括第一独立电路，该第一独立电路被配置为生成第一谐振充电供应(RCS)输出电压。第一RCS输出电压可以被配置为驱动第一激光放电腔室。该激光控制系统还可以包括第二脉冲动力系，该第二脉冲动力系包括第二独立电路，该第二独立电路被配置为生成第二RCS输出电压，该第二RCS输出电压独立于第一RCS输出电压。第二RCS输出电压可以被配置为驱动第二激光放电腔室，该第二激光放电腔室独立于第一激光
放电腔室。
[0008]在一些方面，本公开描述了一种设备。该设备可以包括第一脉冲动力系，该第一脉冲动力系包括第一独立电路，该第一独立电路被配置为生成第一RCS输出电压。第一RCS输出电压可以被配置为驱动第一激光放电腔室。该设备可以还包括第二脉冲动力系，该第二脉冲动力系包括第二独立电路，该第二独立电路被配置为生成第二RCS输出电压，该第二RCS输出电压独立于第一RCS输出电压。第二RCS输出电压可以被配置为驱动第二激光放电腔室，该第二激光放电腔室独立于第一激光放电腔室。
[0009]在一些方面，本公开了描述一种用于制造设备的方法。该方法可以包括提供第一脉冲动力系，该第一脉冲动力系包括第一独立电路，该第一独立电路被配置为生成第一RCS输出电压。第一RCS输出电压可以被配置为驱动第一激光放电腔室。该方法可以还包括提供第二脉冲动力系，该第二脉冲动力系包括第二独立电路，该第二独立电路被配置为生成第二RCS输出电压，该第二RCS输出电压独立于第一RCS输出电压。第二RCS输出电压可以被配置为驱动第二激光放电腔室，该第二激光放电腔室独立于第一激光放电腔室。该方法可以还包括形成激光控制系统，该激光控制系统包括第一脉冲动力系和第二脉冲动力系。
[0010]下面参考附图详细描述其他特征以及各个方面的结构和操作。应注意，本公开不限于本文所述的具体方面。本文仅出于说明目的而呈现此类方面。基于本文所包含的教导，额外的方面将对于相关领域的技术人员而言是明显的。
附图说明
[0011]被并入本文且形成说明书的部分的附图图示了本公开，并且与描述一起进一步用于解释本公开的方面的原理且使相关领域的技术人员能够制作和使用本公开的方面。
[0012]图1A是根据本公开的一些方面的示例反射式光刻设备的示意图。
[0013]图1B是根据本公开的一些方面的示例透射式光刻设备的示意图。
[0014]图2是根据本公开的一些方面的图1A所示的反射式光刻设备的更详细的示意图。
[0015]图3是根据本公开的一些方面的示例光刻单元的示意图。
[0016]图4是根据本公开的一些方面的包括示例激光控制系统的示例激光源的示意图。
[0017]图5是根据本公开的一些方面的包括另一示例激光控制系统的另一示例激光源的示意图。
[0018]图6是根据本公开的一些方面的包括又一示例激光控制系统的又一示例激光源的示意图。
[0019]图7是图示了用于制造根据本公开的一些方面的设备或其(多个)部分的方法的示例的流程图。
[0020]图8是用于实现本公开的一些方面或其(多个)部分的示例计算机系统。
[0021]从以下结合附图所阐述的具体实施方式中，本公开的特征和优势将变得更加明显，在附图中相似的附图标记始终标识对应的元件。在附图中，除非另有说明，相似的附图标记通常表示相同的、功能类似的和/或结构类似的元素。另外，通常，附图标记的最左边的(多个)数字标识附图标记首次出现的附图。除非另有说明，在整个公开中提供的附图不应被解释为按比例绘制的附图。
具体实施方式
[0022]本说明书公开了包含本公开的特征的一个或多个实施例。所公开的(多个)实施例仅描述了本公开。本公开的范围不限于所公开的(多个)实施例。本公开的宽度和范围由所附权利要求及其等效来限定。
[0023]所描述的(多个)实施例以及说明书中对“一个实施例”、“实施例”、“示例实施例”等的引用指示所描述的(多个)实施例可以包括特定特征、结构或特性，但是每个实施例可以不必包括该特定特征、结构或特性。此外，这些短语未必是指同一实施例。另外，当结合实施例描述特定特征、结构或特性时，应理解，无论是否明确描述，结合其他实施例来影响该特征、结构或特性是在本领域技术人员的知识范围内。
[0024]为了便于描述，可以在本文中使用诸如“下方”、“下面”、“下”、“上方”、“上面”、“上”等空间相关术语来描本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种激光控制系统，包括：第一脉冲动力系，包括第一独立电路，所述第一独立电路被配置为生成第一谐振充电供应RCS输出电压，其中所述第一RCS输出电压被配置为驱动第一激光放电腔室；以及第二脉冲动力系，包括第二独立电路，所述第二独立电路被配置为生成第二RCS输出电压，所述第二RCS输出电压独立于所述第一RCS输出电压，其中所述第二RCS输出电压被配置为驱动第二激光放电腔室，所述第二激光放电腔室独立于所述第一激光放电腔室。2.根据权利要求1所述的激光控制系统，其中所述激光控制系统被配置为：独立地控制所述第一脉冲动力系的第一电压和所述第二脉冲动力系的第二电压；以及独立地控制所述第一脉冲动力系的第一定时和所述第二脉冲动力系的第二定时。3.根据权利要求1所述的激光控制系统，其中所述激光控制系统被配置为：独立地控制所述第一脉冲动力系的第一电压和所述第二脉冲动力系的第二电压；控制所述第一脉冲动力系的第一定时；以及基于所述第一脉冲动力系的所述第一定时，控制所述第二脉冲动力系的第二定时。4.根据权利要求3所述的激光控制系统，其中所述激光控制系统被配置为：基于相对于所述第一脉冲动力系的所述第一定时的延迟，控制所述第二脉冲动力系的所述第二定时。5.根据权利要求4所述的激光控制系统，其中所述延迟基于所述第一激光放电腔室与所述第二激光放电腔室之间的光传播时间。6.根据权利要求4所述的激光控制系统，其中所述延迟是可控参数。7.根据权利要求4所述的激光控制系统，其中所述延迟基于由所述第二放电光腔室产生的光的期望带宽。8.根据权利要求1所述的激光控制系统，其中所述激光控制系统被配置为：在第一操作模式下，触发所述第二脉冲动力系以与所述第一脉冲动力系同时操作；以及在第二操作模式下，触发所述第一脉冲动力系以相对于所述第二脉冲动力系而被延迟。9.根据权利要求1所述的激光控制系统，还包括：公共RCS，包括所述第一独立电路、所述第二独立电路、以及公共储存电容器，所述公共储存电容器被配置为电耦合到所述第一独立电路和所述第二独立电路；以及高电压电源(HVPS)，被配置为将高电压信号传输到所述公共储存电容器。10.根据权利要求1所述的激光控制系统，还包括：第一RCS，包括所述第一独立电路和第一储存电容器，所述第一储存电容器被配置为电耦合到所述第一独立电路；第二RCS，包括所述第二独立电路和第二储存电容器，所述第二储存电容器被配置为电耦合到所述第二独立电路；以及高电压电源(HVPS)，被配置为：将第一高电压信号传输到所述第一储存电容器，以及将第二高电压信号传输到所述第二储存电容器。11.根据权利要求1所述的激光控制系统，还包括：
第一RCS，包括所述第一独立电路和第一储存电容器，所述第一储存电容器被配置为电耦合到所述第一独立电路；第二RCS...

【专利技术属性】
技术研发人员：P，
申请(专利权)人：西默有限公司，
类型：发明
国别省市：