一种不含钾离子的彩膜显影液及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种不含钾离子的彩膜显影液及其制备方法，该显影液是由碱性化合物、非离子表面活性剂和超纯水组成。碱性化合物为不含金属离子的有机碱，如四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵以及四丙基氢氧化铵等一种或多种，阴离子表面活性剂选自醇醚羧酸盐、酚醚硫酸酯盐、醇醚磷酸盐、椰子油脂肪酸单乙醇酰胺、蓖麻油聚氧乙烯醚和苯乙烯苯酚中的至少一种。显影液主要用于液晶面板制程中显影工序，可以对基板面内光阻进行显影。本发明专利技术的彩膜显影液使用寿命长，不含金属钾离子，具有良好的显影效果，显影呈现出的图像无其他残渣，图形边缘整齐清晰，符合目前液晶显示制程中高分辨率高画质的要求。要求。

【技术实现步骤摘要】
一种不含钾离子的彩膜显影液及其制备方法


[0001]本专利技术涉及彩膜显影液
，具体为一种不含钾离子的彩膜显影液及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着现代信息技术的快速发展，液晶面板有功耗低、辐射低、色彩饱和度好、轻薄等优点，使得消费者对液晶显示屏的需求量越来越大，薄膜晶体管液晶显示器TFT
‑
LCD，已广泛应用于显示器、TV、手机、笔记本电脑、车载产品等各种显示终端设备上。显影工艺作为TFT
‑
LCD的重要工艺，直接影响着产品的色彩以及显示结构，如今在技术方面已经取得了重大关键技术的突破。
[0003]TFT
‑
LCD技术中，显影技术应用到显影(CF)工艺以及阵列(Array)工艺，显影设备通常位于曝光设备后。显影设备主要分为三个单元，显影单元、水洗单元和干燥单元，分别作用于曝光后光刻胶的溶解或保留(根据光刻胶特性而决定)、水循环清洗、吹干基板，从而形成所需的图形。
[0004]彩膜工艺流程主要将彩胶用涂敷、曝光、显影工艺方法，依次形成R、G、B三色图案，在制造中同样使用光刻蚀技术，所用装置主要是涂敷、曝光和显影装置。目前TFT行业内的彩膜工厂，较多采用氢氧化钾的水溶液作为光刻胶显影液，即氢氧化钾加上界面活性剂的水溶液。
[0005]氢氧化钾作为碱类化合物的无机碱，主要为活泼金属阳离子和氢氧根阴离子组合而成，碱性强度取决于金属元素钾的活泼程度；另一种碱类化合物无机碱主要为醇的碱金属盐类、有机金属化合物和氢氧化季铵盐等。
[0006]由于传统的显影液所使用的是氢氧化钾无机碱，故该类显影液含有大量的钾离子，不易被清洗完全，且残留的金属离子在基板上形成杂质，在线宽要求高的路线应用环境中极易导致线路板的短路，从而对晶体管的开关产生不利影响。
[0007]所以我们提出了一种不含钾离子的彩膜显影液及其制备方法，以便于解决上述中提出的问题。

技术实现思路

[0008]本专利技术的目的在于提供一种不含钾离子的彩膜显影液及其制备方法，以解决上述
技术介绍
提出的目前市场上传统的显影液所使用的是氢氧化钾无机碱，故该类显影液含有大量的钾离子，不易被清洗完全，且残留的金属离子在基板上形成杂质，在线宽要求高的路线应用环境中极易导致线路板的短路，从而对晶体管的开关产生不利影响的问题。
[0009]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种不含钾离子的彩膜显影液，包括以下组成成分：碱性化合物水溶液、非离子表面活性剂和高纯水。
[0010]优选的，所述碱性溶液为碱性化合物，碱性化合物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵单甲胺、二甲胺、三甲胺、2
‑
羟基
‑
氢氧三甲胺、三乙胺、单异丙胺、
二异丙胺和乙醇胺中的至少一种，优选四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵和四丙基氢氧化铵中的至少一种，更优选四甲基氢氧化铵。
[0011]优选的，所述非离子表面活性剂选自醇醚羧酸盐、酚醚硫酸酯盐、醇醚磷酸盐、椰子油脂肪酸单乙醇酰胺、蓖麻油聚氧乙烯醚和苯乙烯苯酚中的至少一种。
[0012]优选的，所述高纯水为工业用水，每克高纯水中总金属离子的质量不大于500
×
10
‑
9g。
[0013]优选的，所述碱性化合物占所述显影液总重的1％～20％，所述非离子表面活性剂占所述显影液总重的表面活性剂0％～6％，其余成分为高纯水。
[0014]一种不含钾离子的彩膜显影液的制备方法，包括以下步骤：
[0015](1)原材料的称取：按照权利要求5称取三种原材料；
[0016](2)原材料的处理：对步骤(1)中称取的碱性化合物和非离子表面活性剂进行检查，对其中成块的部分进行人工粉碎；
[0017](3)高纯水的处理：将适量的高纯水放入至加恒温热装置中，进行电加热，维持水温恒定；
[0018](4)显影液的混合：将步骤(2)中处理后的碱性化合物和非离子表面活性剂加入至步骤(3)中的高纯水中，进行搅拌溶解，直至高纯水中午颗粒物质；
[0019](5)显影液的储存：将步骤(4)中配制好的显影液倒入专用的储存装置中，进行低温避光保存。
[0020]优选的，所述步骤(2)中碱性化合物和非离子表面活性剂的粉碎采用人工挤压粉碎。
[0021]优选的，所述步骤(3)中高纯水的水温处于20
‑
30℃，温差在3℃以下。
[0022]优选的，所述步骤(4)中搅拌溶解采用机械转动搅拌，搅拌时间为10
‑
20min。
[0023]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：该不含钾离子的彩膜显影液及其制备方法，设置有碱性化合物，该彩膜显影液采用碱性化合物、非离子表面活性剂和超纯水组成，其中使用碱性化合物来代替传统的钾离子混合物，使彩膜显影液中不含金属钾离子，改善了彩膜显影液的使用效果，使彩膜显影液更加容易被清理，降低该彩膜显影液在基板上的残留，使基板的处理效果更加良好，增加了基板的稳定性，降低了基板的故障率，且该彩膜显影液具有良好的显影效果，显影呈现出的图像无其他残渣，图形边缘整齐清晰，符合目前液晶显示制程中高分辨率高画质的要求。
具体实施方式
[0024]下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0025]本专利技术提供一种技术方案：一种不含钾离子的彩膜显影液，包括以下组成成分：碱性化合物水溶液、非离子表面活性剂和高纯水。
[0026]碱性溶液为碱性化合物，碱性化合物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵单甲胺、二甲胺、三甲胺、2
‑
羟基
‑
氢氧三甲胺、三乙胺、单异丙胺、二异丙胺和乙
醇胺中的至少一种，优选四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵和四丙基氢氧化铵中的至少一种，更优选四甲基氢氧化铵。
[0027]非离子表面活性剂选自醇醚羧酸盐、酚醚硫酸酯盐、醇醚磷酸盐、椰子油脂肪酸单乙醇酰胺、蓖麻油聚氧乙烯醚和苯乙烯苯酚中的至少一种。
[0028]高纯水为工业用水，每克高纯水中总金属离子的质量不大于500
×
10
‑
9g。
[0029]碱性化合物占所述显影液总重的1％～20％，所述非离子表面活性剂占所述显影液总重的表面活性剂0％～6％，其余成分为高纯水。
[0030]一种不含钾离子的彩膜显影液的制备方法，包括以下步骤：
[0031](1)原材料的称取：按照权利要求5称取三种原材料；
[0032](2)原材料的处理：对步骤(1)中称取的碱性化合物和非离子表面活性剂进行检查，对其中成块的部分进行人工粉碎；
[0033](3)高纯水的处理：将适量的高纯水本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种不含钾离子的彩膜显影液，其特征在于，包括以下组成成分：碱性化合物水溶液、非离子表面活性剂和高纯水。2.根据权利要求1所述的一种不含钾离子的彩膜显影液，其特征在于：所述碱性溶液为碱性化合物，碱性化合物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵单甲胺、二甲胺、三甲胺、2
‑
羟基
‑
氢氧三甲胺、三乙胺、单异丙胺、二异丙胺和乙醇胺中的至少一种，优选四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵和四丙基氢氧化铵中的至少一种，更优选四甲基氢氧化铵。3.根据权利要求1所述的一种不含钾离子的彩膜显影液，其特征在于：所述非离子表面活性剂选自醇醚羧酸盐、酚醚硫酸酯盐、醇醚磷酸盐、椰子油脂肪酸单乙醇酰胺、蓖麻油聚氧乙烯醚和苯乙烯苯酚中的至少一种。4.根据权利要求1所述的一种不含钾离子的彩膜显影液，其特征在于：所述高纯水为工业用水，每克高纯水中总金属离子的质量不大于500
×
10
‑
9g。5.根据权利要求1所述的一种不含钾离子的彩膜显影液，其特征在于：所述碱性化合物占所述显影液总重的1％～20％，所述非离子表面活性剂占所述显影液总重的表面活性剂0％～6％，其余成...

【专利技术属性】
技术研发人员：王金城，钱凯，徐晴，许维慧，
申请(专利权)人：镇江润晶高纯化工科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：