一种显影液及其制备方法、光刻胶的显影方法技术

本申请提供了一种显影液及其制备方法、光刻胶的显影方法，所述显影液包括以下重量份数的各组分：1

【技术实现步骤摘要】
一种显影液及其制备方法、光刻胶的显影方法


[0001]本申请涉及显影液
，具体涉及一种显影液及其制备方法、光刻胶的显影方法。

技术介绍

[0002]在电子元器件的制备过程中，需通过显影处理才能将预设的图案通过光刻胶转移至元件基板上。业界常采用碱性显影液处理光刻胶，碱能与未经固化的光刻胶中的树脂反应，使其形成水溶性的有机聚合物盐，从而除去未经固化的光刻胶，以完成预设图案的转移。但在显影的过程中，随着上述有机物聚合物盐浓度的增加，形成的不溶物会返粘在基板或光刻胶表面，造成膜污，造成局部显影不全、显影精度低等问题。但显影液中的碱也会对基板中的金属造成腐蚀。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本申请克服了现有技术中的缺陷，提供了一种显影液及其制备方法、光刻胶的显影方法，该显影液具有合适的显影速率、显影分辨率高，并且显影后基板洁净度高。
[0004]具体地，本申请第一方面提供了一种显影液，包括以下重量份的各组分：1
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20份的碱，0.01
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5份的金属保护剂，0.01
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显影液，其特征在于，所述显影液包括以下重量份数的各组分：1
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20份的碱，0.01
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5份的金属保护剂，0.01
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5份的表面活性剂，余量为水；其中，所述表面活性剂包括十二烷基苯磺酸盐、十二烷基硫酸盐、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、重烷基苯磺酸钠、聚氧丙烯
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聚氧乙烯嵌段共聚物中的至少一种；所述金属保护剂包括山梨酸盐、苯甲酸盐、醋酸氯乙啶、甲基苯并三氮唑中的至少一种。2.根据权利要求1所述的显影液，其特征在于，所述表面活性剂包括十二烷基苯磺酸盐、十二烷基硫酸盐、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、重烷基苯磺酸钠中的至少一种和聚氧丙烯
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聚氧乙烯嵌段共聚物。3.根据权利要求1所述的显影液，其特征在于，所述表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐和聚氧丙烯
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聚氧乙烯嵌段共聚物。4.根据权利要求2或3所述的显影液，其特征在于，所述聚氧丙烯
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聚氧乙烯嵌段共聚物在所述表面活性剂中的质量百分数为50
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75％。5.根据权利要求1
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3任一项所述的显影液，其特征在于，所述金属保护剂与所述表面活性剂的质量比为1：(0.5
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1.5)。6.根据权利要求1
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3任一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王维，潘春林，李自杰，林秋玉，
申请(专利权)人：福建中安高新材料研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：