一种光刻胶剥离液及其制备方法、应用方法技术

本申请提供了一种光刻胶剥离液及其制备、应用方法，所述光刻胶剥离液包括以下重量份数的各组分：50

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶剥离液及其制备方法、应用方法


[0001]本申请涉及剥离液
，具体涉及一种光刻胶剥离液及其制备、应用方法。

技术介绍

[0002]面板等电子器件的制造过程中，需要使用光刻胶剥离液将基板上作为布线图形掩膜的光刻胶除去，从而完成整个面板的制备。目前，光刻胶剥离液在使用的过程中易造成对面板及其上铜布线、铝布线的腐蚀、光刻胶剥离不彻底等问题。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本申请提供了一种光刻胶剥离液及其制备、应用方法，能够有效解决现有技术中存在的问题。
[0004]具体地，本申请第一方面提供了一种光刻胶剥离液，该光刻胶剥离液包括以下重量份数的各组分：50
‑
75份的有机胺，0.01
‑
3份的表面活性剂，0.01
‑
3份的金属保护剂，30
‑
50份的有机溶剂；其中，所述金属保护剂包括山梨酸盐、醋酸氯乙啶中的至少一种；所述表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、重烷基苯磺酸钠中的至少一种。
[0005]本申请提供的光刻胶剥离液包括有机胺、表面活性剂、金属保护剂、有机溶液。有效量的有机胺，在特定的表面活性剂(即，脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、重烷基苯磺酸钠)的辅助下，能够迅速润湿光刻胶表面，并使光刻胶层快速断裂、崩解，剥离后基底上无光刻胶残留，对基底上的金属无腐蚀效应。此外，表面活性剂能有效提高光刻胶的渗透能力，进一步提高该剥离液的剥离速度，减少剥离液的用量。此外，表面活性剂含量过低时，会导致剥离液出现分层现象，影响剥离液性能的发挥；含量过高，过量的表面活性剂会吸附在光刻胶表面，影响剥离效果。因此本申请中控制表面活性剂在所述剥离液中的重量份为0.01
‑
3份。
[0006]另一方面，山梨酸盐、醋酸氯乙啶能够与上述表面活性剂络合，形成一层较为致密的保护膜并附着在金属布线表面，在有效避免基底上的铜、铝布线被腐蚀的同时，能够避免铜、铝界面处产生较大的电势差，进而防止底切现象的发生，提高产品良率。本申请中控制金属保护剂在所述剥离液中的重量份为0.01
‑
3份。
[0007]本申请一些实施方式中，所述表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐和重烷基苯磺酸钠中的至少一种和脂肪醇聚氧乙烯醚的混合物。进一步地，在一些具体实施例中，所述表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐的混合物。脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐和重烷基苯磺酸钠为离子型表面活性剂，脂肪醇聚氧乙烯醚为非离子型表面活性剂，将离子型表面活性剂与脂肪醇聚氧乙烯醚以适度的比例复配后，可提高脂肪醇聚氧乙烯醚的浊点、提升其在体系中的分散性，使得上述光刻胶剥离液具有更好的耐温性能，能在较高的温度下保持稳定。在表面活性剂为离子型和非离子表面活性剂的混合物的情况下，所述脂肪醇聚氧乙烯醚在所述表面活性剂中的质量百分数为60％
‑
80％。
[0008]本申请一些实施方式中，所述表面活性剂还包括烷基苯磺酸钠。烷基苯磺酸钠更容易与金属保护剂产生络合效应，在剥离处理过程中，可以加快金属保护膜在金属表面的形成速度。少量的烷基苯磺酸钠可以提高光刻胶剥离液中表面活性剂与金属保护剂的复配速度，进而保证基板中的金属不会被光刻胶剥离液腐蚀。
[0009]本申请实施方式中，所述表面活性剂与所述金属保护剂的质量比为1：(0.5
‑
2)。表面活性剂与金属保护剂之间合适的质量比能够有效提高金属保护剂在金属表面的浸润速率，以及二者复配后在金属表面生成的保护膜的致密程度，进而对基底上的金属实现更加有效的保护。
[0010]本申请实施方式中，所述金属保护剂还包括水杨酸、甲基苯并三氮唑中的至少一种。其中，水杨酸是金属铝的优秀保护剂；甲基苯并三氮唑则能够同时保护铜、铝等金属，具有普适性。
[0011]本申请一些实施方式中，所述金属保护剂包括山梨酸盐和醋酸氯乙啶。含有上述金属保护剂的光刻胶剥离液适用于含有铜和铝等金属的基板。进一步地，所述金属保护剂包括山梨酸盐、醋酸氯乙啶、水杨酸和甲基苯并三氮唑。此时的光刻胶剥离液能在去除含铜和铝的基板上光刻胶的同时，对铜、铝等金属起到更好的防护作用。
[0012]另一些实施方式中，所述金属保护剂包括山梨酸盐。含有上述金属保护剂的光刻胶剥离液主要适用于含有铜的基板。进一步地，所述金属保护剂包括山梨酸盐和甲基苯并三氮唑。此时，含有上述金属保护剂的光刻胶剥离液能在去除含铜的基板上光刻胶的同时，对铜起到更好的防护作用。
[0013]另一些实施方式中，所述金属保护剂包括醋酸氯乙啶。含有上述金属保护剂的光刻胶剥离液主要适用于含有铝的基板。进一步地，包括醋酸氯乙啶和水杨酸。更进一步地，包括醋酸氯乙啶、水杨酸和甲基苯并三氮唑。此时，含有上述金属保护剂的光刻胶剥离液能去除含铝的基板上光刻胶的同时，对铝起到更好的防护作用。
[0014]本申请中，所述山梨酸盐包括山梨酸钾、山梨酸钙中的至少一种。
[0015]本申请中，所述光刻胶剥离液含有50
‑
75份的有机胺。示例性地，可以为50份、55份、60份、65份、68份、69份、70份、71份、72份、75份。
[0016]本申请中，所述光刻胶剥离液含有0.01
‑
3份的金属保护剂。示例性地，可以为0.01份、0.02份、0.05份、0.08份、0.1份、0.5份、0.75份、1份、2份、3份。
[0017]本申请中，所述光刻胶剥离液含有0.01
‑
3份的表面活性剂。示例性地，可以为0.01份、0.02份、0.05份、0.08份、0.1份、0.5份、0.75份、1份、2份、3份。
[0018]本申请中，所述光刻胶剥离液含有30
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50份的有机溶剂。示例性地，可以为25份、28份、29份、30份、31份、32份、35份、40份、45份、50份。
[0019]本申请一些实施方式中，所述光刻胶剥离液包括：68
‑
72份的有机胺，0.01
‑
1份的表面活性剂，0.01
‑
1份的金属保护剂，28
‑
32份的有机溶剂。优选的各组分的重量份数更有利于保证光刻胶剥离液整体的剥离效果，即，光刻胶剥离后基板的洁净度和剥离速率。
[0020]本申请实施方式中，所述有机胺包括单乙醇胺、单异丙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、2
‑
氨基
‑2‑
甲基
‑1‑
丙醇、2
‑
甲氨基乙醇、3
‑
氨基丙醇胺、乙二胺中的至少一种。优选为单乙醇胺，在本申请提供的光刻胶剥离液体系中，单乙醇胺对光刻胶层的溶解性更强。
[0021]本申请中，所述有机溶剂可以包括但不限于醚类、酮类、二元醇醚酯类、酰胺类、砜
类。对于所述醚类溶剂，可以列举乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二甲醚本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶剥离液，其特征在于，包括以下重量份数的各组分：50
‑
75份的有机胺，0.01
‑
3份的表面活性剂，0.01
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3份的金属保护剂，25
‑
50份的有机溶剂；其中，所述金属保护剂包括山梨酸盐、醋酸氯乙啶中的至少一种；所述表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、重烷基苯磺酸钠中的至少一种。2.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐、重烷基苯磺酸钠中的至少一种和脂肪醇聚氧乙烯醚。3.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述表面活性剂还包括烷基磺酸钠。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述表面活性剂与所述金属保护剂的质量比为1：(0.5
‑
2)。5.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述金属保护剂还包括水杨酸和甲基苯并三氮唑中的至少一种。6.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述剥离液含有以下重量份数的各组分：68
‑
72份的有机胺，0.01
‑
1份的表面活性剂，0.01
‑
1份的金属保护剂，28
‑
32份的有机溶剂。7.根据权利要求1或6所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王维，潘春林，李自杰，林秋玉，
申请(专利权)人：福建中安高新材料研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：