一种高光陶瓷及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高光陶瓷及其制备方法，属于陶瓷制造技术领域。该高光瓷砖加工方法包括如下步骤：（1）预抛光磨削：（2）高浓度低团聚高光液高光处理；将高浓度低团聚高光液滴入并涂覆在经步骤（1）处理后的陶瓷砖表面继续抛磨。其中，高浓度低团聚高光液包括A组分、B组分和C组分，所述高浓度低团聚高光液的制备方法如下：先将A组分、B组分分别备料、混合，室温静置3天以上；然后将A组分和B组分相互混合，然后加入稳定剂C组分；继续搅拌均匀，得到高浓度低团聚高光液。本发明专利技术高光陶瓷的加工工艺中能减少抛磨所需时间，达到节能环保的效果，且所得高光陶瓷其高光效果更优，成本更低。成本更低。

【技术实现步骤摘要】
一种高光陶瓷及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种陶瓷制造
，尤其涉及一种高光陶瓷及其制备方法。

技术介绍

[0002]超洁亮技术是采用一种专用的高精度抛光机将纳米抛光液滴到陶瓷砖的表面，通过磨头的反复施压、打磨、抛光，将纳米抛光液更好的渗透到抛光砖的毛孔内部，堵塞了抛光砖的毛孔及微裂纹，形成一种特殊的、连续的纳米膜，从而使抛光砖具有亮丽的表面；并且该表面能有效阻止污染物的入侵，具有较好的防污性能。超洁亮技术是目前抛光砖防护处理的最有效方法，需要使用到高精度超洁亮抛光机和纳米抛光液。
[0003]目前，现有的纳米抛光液采用10
‑
18nm硅溶胶做主要研磨材料，但各陶瓷厂为了节能降耗，纷纷提高单位生产时间里的生产效率，即减少瓷砖单位的抛磨时间，现有的纳米抛光液浓度不足以满足光度、通透性、防污的表面处理效果。且现有的纳米抛光液的高光效果不够理想。为此，本申请专利技术人尝试往现有的小颗粒度纳米抛光液中添加相应比例的大颗粒度硅溶胶，以起到增加研磨速率、快速填充表面及内部微细毛孔的目的。但大颗粒度的硅溶胶制备成本要远远高于小颗粒度硅溶胶。而增加小颗粒度硅溶胶浓度会发生团聚现象，同样影响高光效果。这就对纳米抛光液提出了新的要求，既要达到节能环保效果，又要达到高光、通透、防污效果。

技术实现思路

[0004]现有的表面处理工艺需减少瓷砖单位的抛磨时间以达到节能降耗的效果，然而现有的纳米抛光液浓度不足以满足光度、通透性、防污的表面处理效果，这就对纳米抛光液提出了新的要求。本专利技术通过改进现有纳米抛光液的配方以及制备工艺，其所制得的高浓度低团聚高光液代替了原有的纳米抛光液，并将其应用在陶瓷砖的加工工艺中，能减少陶瓷表面加工工艺中抛磨所需时间，达到节能环保的效果，且所得高光陶瓷其高光效果更优，成本更低。
[0005]本专利技术的目的之一采用如下技术方案实现：一种高光陶瓷的制备方法，包括如下步骤：（1）预抛光磨削：利用抛光设备对陶瓷砖表面进行施压、打磨处理，使陶瓷砖表面平整，无碎屑；（2）高浓度低团聚高光液高光处理；将高浓度低团聚高光液滴入并涂覆在经步骤（1）处理后的陶瓷砖表面，继续抛磨；所述高浓度低团聚高光液的添加量为45
‑
55g/m2，打磨涂覆时间为2.75 s/m2，抛光设备的磨盘公转速度为80
‑
90r/min，安装在磨盘上的磨料自转速度为700
‑
800r/min，使其渗透入陶瓷砖表面粗大毛孔内，完成高光加工处理；所述高浓度低团聚高光液由如下方法制备而得：（2.1）A组分的制备步骤：
对硅溶胶、树脂乳液、研磨助剂进行备料，然后相互混合，室温静置3天以上，充分接枝结合后，得到内含颗粒度增长的高浓度纳米液；（2.2）B组分的制备步骤：对硅溶胶、研磨助剂进行备料，然后相互混合，室温静置3天以上，充分接枝结合后，得到内含颗粒度增长的低浓度纳米液；（2.3）混合的步骤：将A 组分和B组分相互混合，然后加入稳定剂C组分；继续搅拌均匀，得到高浓度低团聚高光液。
[0006]进一步地，所述高浓度低团聚高光液包括A 组分、B组分和C组分，所述A 组分和B组分的质量比为（0.5
‑
2）：1，所述C组分用量占A 组分和B组分总重量的0.3
‑
0.5%；其中，所述A 组分包括质量百分数为25
‑
40%的粒径为10
‑
18nm的硅溶胶、质量百分数为0.1
‑
1%的树脂乳液和质量百分数为0.05
‑
0.3%的研磨助剂；所述B组分包括质量百分数为10
‑
18%的粒径为10
‑
18nm的硅溶胶和质量百分数为0.05
‑
0.3%的研磨助剂；所述C组分选自硼砂、硼酸、草酸中的一种或两种以上的混合物。
[0007]进一步地，在步骤（2.3）中，所述搅拌速度为800
‑
1200r/min，搅拌时间为30
‑
45min。
[0008]进一步地，所述A 组分包括质量百分数为28
‑
35%的粒径为10
‑
15nm的硅溶胶、质量百分数为0.3
‑
0.8%的树脂乳液和质量百分数为0.1
‑
0.25%的研磨助剂；所述B组分包括质量百分数为14
‑
16%的粒径为10
‑
15nm的硅溶胶和质量百分数为0.1
‑
0.25%的研磨助剂。
[0009]进一步地，所述A 组分、B组分的质量比为1：1，所述C组分用量占A 组分和B组分总重量的0.4%。
[0010]进一步地，A组分和B组分中的所述研磨助剂选自硼砂、硼酸、草酸中的一种或两种以上的混合物。
[0011]进一步地，所述B组分还包括质量百分数为0.8
‑
1.5%的树脂乳液。
[0012]进一步地，所述树脂乳液选自聚丙烯酸树脂乳液、聚氨酯树脂乳液、松香树脂乳液、环氧树脂乳液中的一种或两种以上的混合物。
[0013]进一步地，A组分和B组分中的所述硅溶胶购自北京德科岛金科技有限公司提供的纳米硅溶胶。
[0014]本专利技术的目的之二采用如下技术方案实现：一种高光陶瓷，由如上所述高光陶瓷的制备方法制备而得。
[0015]相比现有技术，本专利技术的有益效果在于：本专利技术的高浓度低团聚高光液应用在陶瓷砖的表面处理加工工艺中，能够减少抛磨所需时间，达到节能环保的效果，且表面处理效果更优，成本更低。采用本专利技术的制备方法制得的高浓度低团聚高光液对陶瓷砖表面处理后的陶瓷砖在光泽度、防污防水能力均能取得优异的成效，降低成本投入，节能环保。
[0016]高浓度低团聚高光液具体机理分析如下：本专利技术利用的硅溶胶表面布满的羟基
‑
OH活性基团与树脂乳液、研磨助剂表面活性基团
‑
OH或
‑
COOH发生接枝反应，形成多个
‑
O
‑
Si
‑
O
‑
结构大分子化合物，从而增大了纳米液的粒径，本专利技术的A组分和B组分分别通过静置3天以上，充分接枝结合后，各自形成单个体系稳定组合物，从而得到内含不同粒径范围的
纳米液。本专利技术通过调节助剂含量及接枝反应时间，得到高浓度低团聚高光液，能够达到节能环保的效果，即抛磨所需时间减少了，且表面处理效果更优，投入成本更低。另外在步骤（1）
‑
（2）中的研磨助剂的浓度不能过高，助剂加多会导致纳米液团聚变质，所以需要增设步骤（3），待A组分和B组分分别充分接枝后，再加入适量的硼砂 、 硼酸、草酸等助剂以提高混合体系稳定性。
具体实施方式
[0017]下面，结合具体实施方式，对本专利技术做进一步描述，需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高光陶瓷的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）预抛光磨削：利用抛光设备对陶瓷砖表面进行施压、打磨处理，使陶瓷砖表面平整，无碎屑；（2）高浓度低团聚高光液高光处理；将高浓度低团聚高光液滴入并涂覆在经步骤（1）处理后的陶瓷砖表面，继续抛磨；所述高浓度低团聚高光液的添加量为45
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55g/m2，打磨涂覆时间为2.75 s/m2，抛光设备的磨盘公转速度为80
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90r/min，安装在磨盘上的磨料自转速度为700
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800r/min，使其渗透入陶瓷砖表面粗大毛孔内，完成高光加工处理；所述高浓度低团聚高光液由如下方法制备而得：（2.1）A组分的制备步骤：对硅溶胶、树脂乳液、研磨助剂进行备料，然后相互混合，室温静置3天以上，充分接枝结合后，得到内含颗粒度增长的高浓度纳米液；（2.2）B组分的制备步骤：对硅溶胶、研磨助剂进行备料，然后相互混合，室温静置3天以上，充分接枝结合后，得到内含颗粒度增长的低浓度纳米液；（2.3）混合的步骤：将A 组分和B组分相互混合，然后加入稳定剂C组分；继续搅拌均匀，得到高浓度低团聚高光液。2.如权利要求1所述高光陶瓷的制备方法，其特征在于，所述高浓度低团聚高光液包括A 组分、B组分和C组分，所述A 组分和B组分的质量比为（0.5
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2）：1，所述C组分用量占A 组分和B组分总重量的0.3
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0.5%；其中，所述A 组分包括质量百分数为25
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40%的粒径为10
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18nm的硅溶胶、质量百分数为0.1
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1%的树脂乳液和质量百分数为0.05
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0.3%的研磨助剂；所述B组分包括质量百分数为10
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18%的粒径为10
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【专利技术属性】
技术研发人员：张中明，何锦坤，
申请(专利权)人：广东纳德新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：